薄膜材料与器件课程论.docx

薄膜材料与器件课程论薄膜材料与器件课程论 本文关键词：薄膜，器件，课程，材料薄膜材料与器件课程论 本文简介：薄膜材料与器件课程论文题目班级学号学生姓名摘要：近年来，随着铁电薄膜制备技术的发展，其应用领域不断扩大。文章介绍了铁电薄膜新探讨进展，对目前最常用的几种主要制备方法进行了评述，重点分析了铁电薄膜不同制备方法的优缺点。并指出存在的问题及其发展方向。关键词：铁电薄膜；制备技术；探讨进展Abstrac薄膜材料与器件课程论 本文内容：薄膜材料与器件课程论文题目班级学号学生姓名摘要：近年来，随着铁电薄膜制备技术的发展，其应用领域不断扩大。文章介绍了铁电薄膜新探讨进展，对目前最常用的几种主要制备方法进行了评述，重点分析了铁电薄膜不同制备方法的优缺点。并指出存在的问题及其发展方向。关键词：铁电薄膜；制备技术；探讨进展Abstract:Inrecentyears，withthedevelopmentofpreparationtechniquesofferroelectricthinfilms，theyhavemanyapplicationsinsomefields.TheresearchprogressonferroelectricthinfilmwasintroducedinthepaperSomemainpreparationtechnologiesweresummarizedindetailatpresentTheadvantagesanddisadvantageofdifferentprocessingtechnologyforferroelectricthinfilmswerediscussedespecially.Inaddition,thispaperpointedoutsomeexistingproblemsandfuturedevelopmentaldirections.Keywords:ferroelectricthinfilm;preparationtechnology;researchprogress近年来对铁电薄膜的性能、应用和制备的探讨，已成为国际上新奇功能材料与器件的一个新热点1-4。这不仅是因为薄膜材料几何设计的可塑性，更重要的是铁电薄膜具有优越的电极化特性、热释电效应、压电效应、电光效应、高解电系数和非线性光学性质等一系列特别性质2，可以利用这些性质制作不同的功能器件，并可望通过铁电薄膜材料与其它材料的集成或复合，制作集成性器件。随着铁电薄膜制备技术的发展，使现代微电子技术与铁电薄膜的多种功能相结合，必将开发出众多新型功能器件，促进新兴技术的发展，因此对铁电薄膜的探讨已成为国内、国际上新材料探讨中的一个非常活跃的领域。具有铁电性，且厚度在数十纳米至数微米的薄膜材料称为铁电薄膜材料。它具有热释电效应、压电效应、电光效应、高解电系数和非线性光学性质等。铁电材料的发展经验了三个重要阶段：2030年头，以水溶性铁电单晶为代表；4070年头，以铁电陶瓷为代表；70年头以后，以铁电薄膜为代表。早期铁电材料的用途主要是利用它的介电性、半导性等制作陶瓷电容器和各种传感器。激光和晶体管技术的日趋成熟，又促进了铁电薄膜的发展。80年头，随着薄膜制备技术的发展，可利用铁电材料的晶界或晶粒表面层制作一些特别功能器件，使其广泛应用于电子技术、超声技术、红外技术等领域3。90年头，随着微电子技术、光电子技术和传感器技术等的发展，对铁电材料提出了小型轻量、可集成等更高的要求，从而使大批新型铁电薄膜器件或器件原型不断涌现。在铁电薄膜的很多应用中，铁电存储器尤其引人注目。铁电薄膜存储器既有动态随机存储器(DRAM)快速读写功能，又有可擦除只读存储器(EPROM)的非易失性，还具有抗辐射、功耗和工作电压低、工作温度范围宽、易与大规模集成电路兼容等特点，因而在铁电随机存储器(FRAM)、超大规模集成(FEMFET)、全光存储器等领域有广袤的应用前景。铁电薄膜和集成铁电器件在世界范围内引起了科技工作者的深切关注，成为当今功能材料和器件探讨方面的一大热点。目前主要集中在铁电薄膜材料的制备、表面特性的测量以及应用探讨与开发。1.铁电薄膜的制备技术目前，应用较为广泛的铁电薄膜制备技术主要有：溅射镀膜法、金属有机化合物气相沉积(MOCVD)、溶胶一凝胶(Sol-Gel)法、金属有机化合物热分解(MOD)法、脉冲激光沉积(PLD)法、激光分子束外延(L-MBE)法、液态源雾化化学沉积法以及自组装与分子自组装技术等。表1列出了铁电薄膜常用制备方法及其特点。表1铁电薄膜常用的制备方法及其特点方法MOCVDSol-Gel溅射镀膜法PLD膜材料溶液溶液陶瓷晶体成膜温度低低低低制备时间短长短短沉积温度500700室温室温700室温700退火温度500800500700500700500700膜厚薄薄薄薄组分分布匀称匀称匀称匀称组分保持偏离保持保持晶化方式后续退火后续退火后续退火后续退火结晶性能高去向高去向高去向高去向致密度一般好一般好设备损耗高高高高1.1溅射镀膜法该方法包括：射频溅射、磁控溅射及离子束溅射等。溅射法的基本手段是利用荷能粒子轰击靶材表面，使固体原子(或分子)从表面射出形成溅射物流，沉积于基底表面形成薄膜。由于溅射物流具有较高(十几至几十电子伏特)的能量，到达基底表面后能维持较高的表面迁移率，所以溅射法具有如下优点：(1)制得膜层的结晶性能较好，限制好溅射参数，易获得单晶膜层；(2)基片温度较低；(3)与集成技术的兼容性好；(4)可用于多种薄膜的制备；(5)制得的薄膜不须要或只须要较低温度的热处理。缺点是薄膜的组分比与靶材有所不同，溅射速率低，生长速度慢。1.2金属有机化合物气相沉积(MOCVD)MOCVD法是近二三十年来发展起来的一项薄膜材料制备技术。它主要通过气态物质在固体表面上进行化学反应生成固体沉积物而获得薄膜。利用金属有机化合物作为参加反应的气体，大大降低了反应所需的温度生长温度的可控性好，有利于大面积超薄层材料生产。但一些含有铁电薄膜成分的易挥发金属有机物源较难获得，且源物质纯度、稳定性难以满意要求，限制了其应用。近来，人们采纳液体源固体源输运技术，使MOCVD技术得到很快发展。采纳该方法已制备出KNbO3、Bi4Ti3012、PZT等薄膜。1.3溶胶一凝胶(Sol-Ge1)法该法的基本原理是在有机溶剂中加入含有所需元素的化合物形成匀称溶液，溶液通过水解与缩聚反应形成凝胶，再通过热处理(干燥、预烧、烧结)，除去凝胶中的剩余有机成分，最终形成所需的薄膜。溶胶一凝胶方法的优点5-6是：(1)合成温度低，可防止低熔点氧化物的挥发；(2)由于水解缩聚反应在溶液中进行，因此各成分在分子级程度上匀称混合，使得形成的膜化学计量比与配方一样；(3)化学组分精确，匀称性好；(4)易于掺杂改性；(5)工艺简洁，易于推广，成本低，成膜面积大。要获得稳定的溶液，原料需具备条件：(1)金属含量高；(2)在溶剂中的溶解度大；(3)热处理时无熔化或蒸发觉象；(4)室温时稳定，不浑浊，不沉淀，不凝合；(5)制备多组元薄膜时，几种有机化合物互溶。采纳Sol-Gel法已制备出PZT、PLZT、KTN、LiNbO3等铁电薄膜。1.4脉冲激光沉积(PLD)法7-8脉冲激光沉积(PLD)是20世纪80年头后期发展起来的新型薄膜制备技术，整个过程可以分为三个阶段：(1)激光与靶材作用阶段；(2)烧蚀物(在气氛气体中)的传输阶段；(3)到达衬底的烧蚀物在衬底上的成膜阶段。PLD法的最大优点是膜的化学成分和靶材的化学成分很接近，因而特殊适应于制备困难氧化物薄膜，包括铁电薄膜、高温超导薄膜和磁性薄膜等；其缺点是膜表面上常有微小液滴凝固形成的颗粒状突起而使表面质量不甚志向，也不易于制备大面积的薄膜材料。1.5激光分子束外延(L-MBE)法激光分子束外延(LMBE)是近年来发展起来的一种新的薄膜制备技术，它将传统MBE的超高真空、原位监测的优点和脉冲激光沉积的易于限制化学成分、运用范围广等优点结合起来，在生长、探究人工限制多层膜的新材料方面具有独到之处。近年来，利用LMBE已胜利地研制了多种铁电薄膜和复合薄膜等，并可以实现超品行制备和薄膜的外延生长。结果表明，利用LMBE技术可在薄膜生长过程中进行原子水平的视察和调控，并可在此基础上实现铁电薄膜的单原子层外延生长。2.铁电薄膜的应用铁电薄膜具有优越的电极化特性、热释电效应、压电效应、电光效应、高解电系数和非线性光学性质等一系列特别性质，可以利用这些性质制作不同的功能器件，并可望通过铁电薄膜材料与其它材料的集成或复合，制作集成性器件。如，利用其电滞回线特性可制作非挥发性随机存取存储器，利用压电效应可制作声表面波延迟线及微型压电马达，利用热释电效应可制作红外热释电探测器，利用光电效应制作光波导等器件。目前，铁电薄膜主要应用于微电子学和光电子学，在这两大领域中，铁电薄膜均有重要的或潜在的用途。表2列出了铁电薄膜的一些应用。表2铁电薄膜的应用薄膜材料性能应用钙钛矿型（钛酸盐）BaTiO3SrTiO3介电性热释电性、PTCR电容器、传感器电热调整器、热探测器PbTiO3(PT)Pb(Zr,Ti)O3(PZT(Pb,La)(Zr,Ti)O3(PLZT)热电释性、介电性压电性、电光性热电释性、电光性热探测器、声传感器非挥发性存储器热探测器、声表面波基片铌酸盐型Pb(Mg1/3Nb2/3)O3(PMN)PMN/PT介电性电光性电容器、存储器波导器件LiNbO3(LN)LiTaO3(LT)压电性、电光性热探测器、波导器件、光调整器、SAW、SHGKNbO3(KN)K(Ta,Nb)O3(KN)电光性热电释性电光性波导器件、倍频器件热探测器、波导器件钨青铜型（Sr,Ba）Nb2O6(SBN)(Pb,Ba)Nb2O6(PBN)(K,Sr)Nb2O6(PKN)Ba2NaNb5O15(BNN)介电性压电性电光性存储器热探测器波导器件3.展望随着集成电路产业、固体发光、激光器件产业、磁记录材料和器件产业的快速发展，铁电薄膜材料和技术愈来愈受到重视，薄膜科学探讨成果转化为生产的速度愈来愈快，对生产的贡献日益增大。近年来，铁电薄膜的制备，表征和特性探讨以及多层膜和异质结构等的探讨都取得了较大的进展，但进一步发展铁电薄膜，在铁电薄膜材料的探讨中尚存在一些问题，主要有9-10：(1)制备、加工温度较高；(2)应大力发展性能优良的非铅基铁电薄膜材料；(3)铁电薄膜表面以及铁电薄膜异质结界面还不能完全人为限制；(4)铁电疲惫与老化限制了铁电薄膜的广泛应用；(5)与铁电薄膜相关的物理问题需接着深化探讨；(6)铁电薄膜微观特性的表征及其与宏观特性的对应关系尚不清晰。因此，今后铁电薄膜材料的主要探讨和发展方向有11-12：(1)重视铁电异质结构特性及相关新效应的探讨；(2)开发铁电薄膜在集成光学和微电机系统中的应用；(3)大力研发和开拓新型铁电薄膜器件。参考文献1曲喜新，杨邦朝等电子薄膜材料M北京：科学出版社，1996.2徐征，倪雄伟现代功能陶瓷M北京：国防工业出版社，1998.3贾德昌等电子材料M哈尔滨：哈尔滨工业高校出版社，2000.4LaurelMSheppard.AdvancesinprocessingofferroelectricthinfilmsJ.CeramicBulletin,1992,71(1).5包定华等铁电薄膜探讨的一些新动向J高技术通讯，1997,(4).6何恩培，刘梅冬等溶胶一凝胶工艺对PZT铁电薄膜结构的影响J压电与声光，1994,(6).7苗彬彬，王君，陈江涛，等铁电PZT薄膜的最新探讨进展J人工晶体学报，2022,35(3):539-5448ChenQ，QianYT，ChenZY，eta1HydrothermalpreparationofhighlyorientedpolycrystallineZnOthinfilmsJMaterLett,1995,22(1):93-959肖定全.铁电薄膜探讨中的几个重要问题J功能材料，2003，34(5):479-481.10刘梅冬，曾亦可，李楚荣，等.铁电薄膜的制备及应用技术探讨J材料导报，2000,12(12):47-49.11ChenA，CrossLE，GuoR，eta1ClusterpolarizationofCd2Nb2O7compoundJApplPhysLett,2000,77(5):732-73412BaradY，LettieriJ，TheisD，eta1ProbingdomainmicrostructureinferroelectricBi4Ti3O12thinfilmsbyopticalsecondharmonicgenerationJApplPhys,2001,89(2):1387-1392篇2：有机薄膜的制备及润湿角的测定-化学化工学院材料化学专业试验报告有机薄膜的制备及润湿角的测定-化学化工学院材料化学专业试验报告 本文关键词：化学，润湿，制备，薄膜，测定有机薄膜的制备及润湿角的测定-化学化工学院材料化学专业试验报告 本文简介：化学化工学院材料化学专业试验报告试验试验名称：有机薄膜材料的制备及润湿角的测定年级:2022级材料化学日期：2022/09/12姓名：汪钰博学号：222022316210016同组人:向泽灵一、预习部分一、试验要求和目的1、了解有机电致发光薄膜的制备方法2、熟识溶液的配制3、驾驭利用旋涂仪制备薄膜方有机薄膜的制备及润湿角的测定-化学化工学院材料化学专业试验报告 本文内容：化学化工学院材料化学专业试验报告试验试验名称：有机薄膜材料的制备及润湿角的测定年级:2022级材料化学日期：2022/09/12姓名：汪钰博学号：222022316210016同组人:向泽灵一、预习部分一、试验要求和目的1、了解有机电致发光薄膜的制备方法2、熟识溶液的配制3、驾驭利用旋涂仪制备薄膜方法二、学问背景有机电致发光的探讨起先于20世纪60年头。最早关于有机电致发光的探讨论文发表于1963年，pope等人在蔥单晶片的两侧加直流电压，首次视察有机化合物的EL现象。但直到1987年，美国柯达公司C.W.Tang用8-羟基喹啉铝（Alq3）作为发光层，制成了高亮度（>1，000cd/m2），高效率（1.5lm/w）绿色有机电致发光薄膜器件，其驱动电压降到了10v以下，从而取得了有机薄膜发光器件探讨史上划时代的进展，引起了人们对有机电致发光探讨的关注。由于有机电致发光显示器具有巨大的应用前景，要实现产业化就要求其制备要简洁，以降低生产成本，这就促进人们对其制备工艺的探讨。有机电致发光器件的制备中有机薄膜的制备是非常关键的，薄膜质量的好坏干脆影响着器件的效率和亮度。依据材料的不同，有机电致发光材料可分为两大类：有机小分子和有机高分子。有机小分子常用真空蒸镀的方法，而高分子材料常用旋涂的方法制备薄膜。随着有机电致发光器件制备工艺的发展，相继出现了其他的制备工艺，如：有机蒸汽喷印（organicvaporjetprinting）、有机气相沉积（organicvaporphasedeposition）、丝网印刷（screenprinting）和喷墨打印（inkjetprinting）等技术，这对有机电致发光显示器产业化发展具有巨大的推动作用。三、试验原理本试验就是由于有机电致发光小分子成膜性差，利用有机高分子好的成膜性，在旋涂仪上旋涂成膜，制备有机电致发光掺杂薄膜。四、试验仪器与药品，试剂1、试验仪器旋涂仪，小烧杯（50ml）或大试管（20ml），胶头滴管，电子天平，玻璃棒，双面胶，玻璃片（2cm×1cm），镊子，棉球,量筒2、药品及试剂8-羟基喹啉铝（Alq3,聚碳酸酯（PC）或聚苯乙烯（PS,氯仿五、试验步骤1、有机溶液的配制称量5mg聚碳酸酯（PC）或聚苯乙烯（PS）两份，分别放在两个试管内，再分别称量1mg，2mgAlq3，也分别放在上面的试管内，最终向两个试管滴加10ml氯仿溶剂，配制成质量比为1：5，2：5的两种氯仿溶液已备下面涂膜之用。2、玻璃片的清洗首先用棉球蘸蒸馏水把玻璃片擦洗干净，尔后，再用棉球蘸氯仿溶剂把玻璃片擦洗干净，干燥后以备涂膜。4、旋涂膜的制备把上面干净的玻璃片粘在旋涂仪的托盘上，在玻璃片上匀称滴注上面配制的溶液，启动旋涂仪，旋转停止，取下玻璃片，即可制得匀称的有机电致发光的掺杂旋涂膜。六、有机电致发光的掺杂旋涂膜的发光表征1、紫外光谱的测试2、荧光光谱的测试材料表面润湿性测定一、试验目的1.了解接触角测定的工作原理和测定装置的基本结构2.学习测定材料接触角的基本操作二、试验原理Ol-gs-ls-gOs-gl-gs-l图1接触角示意图当液滴自由地处于不受力场影响的空间时，由于界面张力的存在而呈圆球状。但是，当液滴与固体平面接触时，其最终形态取决于液滴内部的内聚力和液滴与固体间的粘附力的相对大小。当一液滴放置在固体平面上时，液滴能自动地在固体表面铺绽开来，或以与固体表面成肯定接触角的液滴存在。接触角（contactangle），是指在一固体水平平面上滴一液滴，固体表面上的固液气三相交界点处，其气液界面和固液界面两切线把液相夹在其中时所成的角。介于00-1800之间，是反映物质与液体润湿性关系的重要尺度，90o可作为润湿与不润湿的界限，90o时不润湿。对于志向的平固体表面，当液滴在表面达平衡后。只有一个特定的接触角。但实际固体表面是非志向的，因而会出现滞后现象，致使接触角的测量往往很难重复。但经过细心制备和处理的表面(使表面平滑、干净),有可能得到较重复的数据，特殊是高分子的表面。常用的接触角测定方法:1.量角法液滴角度测量法是测量接触角的最常用的方法之一，如图2（a，b）所示。该方法是将固体表面上的液滴，或将浸入液体中的固体表面上形成的气泡投影到屏幕上，然后干脆测量切线与相界面的夹角，干脆测量接触角的大小。（a）停滴（b）停泡图2量角法示意图2.量高法假如液滴很小，重力作用引起液滴的变形可以忽视不计，这时的躺滴可认为是球形的一部分，如图3所示。接触角可通过高度的测量按下式计算：式中h是液滴高度，d是滴底的直径。若液滴体积小于10-4mL，可用此方法测定。若接触角小于90o，则液滴稍大亦可应用。图3量高法示意图确定和影响润湿作用和接触角的因素许多。如，固体和液体的性质及杂质、添加物的影响，固体表面的粗糙程度、不匀称性的影响，表面污染等。对于肯定的固体表面，在液体液相中加入表面活性物质常可改善润湿性质，并且随着液体和固体表面接触时间的延长，接触角有渐渐变小趋于定值的趋势，这是由于表面活性物质在各界面上吸附的结果。三、仪器组成图4JC2000系列静滴接触角/界面张力测量仪1.技术指标测量方式：量角法，量高法，悬滴法；测量范围：0180o；测量精度：0.25o或0.5o；温度范围：室温90；测温精度：0.01；图像放大率：266pixel/mm；固体试样尺寸：28×11mm；2.硬件组成图5CCD摄像头图6图像采集卡图7CCD电源线图8主机电源线图9视频连接线图10串口连接线四接触角的测定1.样品玻璃;溶胶-凝胶法制得的有个高分子薄膜；水2.启动程序进入jc2000c1子书目，运行子书目中的jc2000c1.exe即可启动接触角测量仪应用程序，主界面如图11所示：图11接触角测量仪应用程序主界面图3.采样操作模块运用说明屏幕左侧的大正方形区域为图像显示区，当摄像机打开时，显示区显示当前摄像机摄入的图像内容。屏幕右侧：采样操作模块的功能菜单：活动图像：激活视频显示区冻结图像：冻结视频显示区图像温度：显示当前装样平台温度(单位:摄氏度;精度:0.1)存储状况：显示连续存储时的即时状况，BMP图像文件名从菜单Option中的其次栏Setting中的第一项设定.左移：让屏幕画面往左移动右移：让屏幕画面往右移动快存和播放：从菜单Option中Setting项中后三项设定，在初次快存之前，先需到win98限制面板>大恒图像>依据内存实际内存大小来设定页面数量（建议40008000，可存几十帧图像）>重启电脑。快存的总帧数可依据页面数量设定；快存间隔帧数可依据客户要求设置，一般视频有25帧/秒；播放延迟无单位，代表了播放每帧图像时的间隔，是依据计算机的主频而设的延迟。快存时由于图像干脆存在内存中，所以屏幕上没有图像。4.菜单说明File菜单，如图12所示。图12File菜单选项上述3个选项依次是：“打开”、“保存为”、“退出”，试验中假如只采一帧图，在冻结图像后，可按“SaveAs”菜单存储图像。Option菜单，如图13所示图13Option菜单选项菜单中“Setting”选项用来设置参数，“SerillySave”选项为自动连续储存吩咐，因显示卡兼容性不同，在Option中选RGB15bit或RGB16bit，可以显示正常图像，Normal为正常图像大小，这是缺省值，ZoomIn是把图像缩小，使较大的液滴能在屏幕上全部显现出来，再选择Normal就复原原来大小。当选择“Setting”选项时会弹出对话框，如图14所示。图14参数设置对话框1、2、3项参数是用来设定SerillySave（自动连续储存）的；4、5、6参数是用来设定“快存和播放”的，快存的总帧数可依据页面数量设定，快存间隔帧数可依据客户要求设置，一般视频有25帧/秒，播放延迟无单位，代表了播放每帧图像时的时间间隔，是依据计算机的主频而设的延迟。快存时由于图像干脆存在内存中，所以屏幕上没有图像。最终一项是设定蠕动泵打出液体的大小，由于同样的步数不同的蠕动泵打出的液滴大小不同，所以要依据现场状况自行调整。5.采样加入样品。试验过程如图15所示。图15试验过程图通过几个选钮让液体滴到待测平面上后用下面几种测试方法测试数据假如要连续采样，运用“Setting”中的前三项来设定BMP文件名、总帧数和间隔时间，在Option中选SerillySave即可。假如只采一帧图，按冻结图像，在File菜单中中选“SaveAs”选项存储图像,可储存图象的文件名和指定所在的文件夹。6.量角法按量角法按钮，进入量角法主界面，如图16所示，按起先键，打开文件夹，选中须要计算的图形文件。图16量角法主界面图量取角度：显示测量尺Q：测量尺向上A:测量尺向下X:测量尺向右Z:测量尺向左:测量尺右旋量角器：显示测量尺角度量取角度显示测量尺，显示测量尺角度为45度，然后使测量尺与液滴边缘相切，如图17所示。图17量角法测量然后下移测量尺到液滴顶端，如图18所示图18量角法测量再旋转测量尺，使其与液滴左端相交，即得到接触角的数值，如图19所示。图19量角法测量另外，也可以使测量尺与液滴右端相交，求出接触角，最终求两者的平均值。注：当测量尺与液滴右端相交时，用180o减去所见的数值方为正确的接触角数据。7.量高法按量高法按钮，进入量高法主界面，如图20所示。图20量高法主界面图按起先按钮，打开文件夹，选取图象文件，界面如图21所示。图21量高法测量然后用鼠标左键点击液滴的顶端和液滴的左、右两端，如图22所示，假如点击错误，可以点击鼠标右键，取消选定。图22量高法测量量角器角度为，接触角为2×（90-）表面润湿性分类类型表面不饱和键性质表面同水的作用能E接触角界面水结构代表性材料强亲水性离子键共价键金属键>>1无干脆水化层石英、云母、锡石、刚玉、菱铁矿、高岭石、方解石弱亲水弱疏水离子-共价键（部分自身闭合）1左右无或很小干脆水化层为主方铅矿、辉铜矿、闪锌矿疏水分子键为主（层面间），离子、共价键为辅（层端、断面）<1中等（4090度）次生水化层为主滑石、石墨、辉钼矿、叶腊石强疏水色散力为主的分子键<<1大（90110度）次生水化层自然硫、石蜡五、数据处理本试验分别称取了30mg的PC和40mg的PC制成旋涂膜进行测定，分别得到以下结果：30mg-PC30mgPC甲苯1.9°30mgPC水30°40mg-PC40mgPC甲苯19°40mgPC水68°从试验结果来看，很明显苯与PC相容性远远好于水与PC的相容性，且PC的浓度越大，接触角越大，润湿性越差。试验中应避开测试时间太长，否则液滴快速扩散，几乎无法测试接触角。滴液快速,液滴不行过大!本文来源：网络收集与整理，如有侵权，请联系作者删除，谢谢！第45页 共45页第 45 页 共 45 页第 45 页 共 45 页第 45 页 共 45 页第 45 页 共 45 页第 45 页 共 45 页第 45 页 共 45 页第 45 页 共 45 页第 45 页 共 45 页第 45 页 共 45 页第 45 页 共 45 页