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    手套箱等设备技术参数(共3页).doc

    • 资源ID:13447139       资源大小:39KB        全文页数:3页
    • 资源格式: DOC        下载积分:20金币
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    手套箱等设备技术参数(共3页).doc

    精选优质文档-倾情为你奉上手套箱等设备技术参数序号主要技术要求及配置要求1设备名称及采购数量:手套箱3套,气体净化系统2套一、技术参数:(一)手套箱:1、箱体要求:304不锈钢材质, 尺寸分别2000mm*1000mm,1500mm*780mm, 1500mm*780mm;2、箱体泄漏率:<0.05vol%/h;3、微型过渡舱1个(长400mm,直径150 mm),T型过渡舱2个(长600mm,直径390mm),均须内置滑盘;4、前窗面板为Lexan材质,厚度10mm,手套孔圈为POM材质;5、防疲劳照明系统,需有防漫射功能,安装于前窗顶部;6、溴丁基橡胶手套,厚度0.4 mm,末端口径220 mm;7、必须配置三层高度可调的搁物架;8、HEPA过滤器的过滤级别可达H13,风速0.25米/秒,洁净度千级以上;9、箱体出气口带有有机溶剂吸附装置;10、箱体安装石英玻璃窗;11、箱体底部配有支架和旋转脚轮,可微调水平。(二)气体净化系统:1、水氧净化系统:进口循环泵;净化柱自动再生程序;SUS304不锈钢管道;2、可得气体纯度:水<1 ppm,氧<1 ppm;3、主控阀:MB EPV-40 VAT电磁气动阀;4、PLC控制,箱体工作压力在+/-15 mbar范围内进行调节,带有可调节压力的脚踏开关;5、配有真空泵,真空度2x10-3 mbar以上,抽速12 m3/h,原厂气镇和油雾过滤器;6、水探头:检测范围0-500 ppm;耐腐蚀,PLC集成控制,灵敏度10 mv/ppm,精确度0.1 ppm,设计寿命5年以上;7、氧探头:检测范围0-1000 ppm;专为手套箱气氛设计,耐腐蚀,PLC集成控制,灵敏度不低于10 mv/ppm,精确度不低于0.1 ppm,设计寿命5年以上;8、有机溶剂吸附装置,5kg以上活性炭可更换,灰尘吸附功能,抽真空功能。(三)加热面板:箱体内须配备2个加热面板,参数如下:1、加热输出功率:1000 W ;2、加热温度范围:50-600 °C ;3、带传感器控温精确度:±3 K ;4、介质温度稳定性:±3 K ;5、加热速度:5 K/min。(四)系统集成要求:3个箱体通过T型过渡舱连接成一套手套箱系统,3个舱门,中间箱体右侧另配备微型过渡舱。二、配置要求:1、箱体集成气体净化系统;2、6个DN40KF法兰接口3、BNC和BANANA插头位于箱体上4、电路改造:符合设备及空调安装要求,配置多路接线插座2设备名称及采购数量:匀胶机1台一、技术参数:匀胶机为非标定制,操作界面须与手套箱底板融为一体,真空、补气管路与手套箱集成控制系统必须完全融为一体。所集成甩胶机参数如下:1、匀胶机须通过手套箱的PLC控制系统进行设置;2、整机泄漏率:<0.05vol%/h;3、顶部带有透明密封罩;4、能处理尺寸不小于 8''的wafer或6''x6''的基片;5、转速范围:1007000 rpm;6、可编辑的程序菜单数量:不少于10个;7、主材质:须耐绝大多数的有机溶剂;8、速度阶段:0-10个阶段;9、每阶段时间范围:0-999秒;10、内置可更换式的防污染碗;11、配有脚踏开关。3设备名称及采购数量:光刻机1台一、技术参数:1、曝光面积:150 mm×150 mm;2、分辨力:0.8-1 m(胶厚2m的正胶);3、对准精度:±0.6 mm;4、照明均匀性:±3%(f100 mm范围),±5%(f150 mm范围),±6%(150 mm×150 mm)5、曝光波长:365 nm;6、曝光能量密度: 20 mW/cm2;7、光源平行性:2度8、最大胶厚:500 m(SU8胶)9、掩模相对于样片运动行程:X:±5 mm,Y:±5 mm,q:±6度;10、曝光方式:定时和定剂量。二、配置要求:1、曝光头:包括冷光椭球镜、直流高压汞灯、三维汞灯调节台、光学系统、冷却系统。2、对准系统:包括对准工件台、对准显微镜和CCD对准系统。3、电控系统:包括单片机控制系统、计算机控制器及控制桌柜等。4、气动系统:真空泵及相关配件等。5、电路改造:符合设备及空调安装要求,配置多路接线插座。注:加部分技术参数负偏离将视为未实质响应。专心-专注-专业

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