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    第五节 位错之间的交互作用.ppt

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    第五节 位错之间的交互作用.ppt

    第五节 位错之间的交互作用,晶体中存在位错时,在它的周围便产生一个应力场。实际晶体中往往有许多位错同时存在。任一位错在其相邻位错应力场作用下都会受到作用力,此交互作用力随位错类型、柏氏矢量大小、位错线相对位向的变化而变化。,一、两个平行螺位错间的作用力,位错S1在(r,)处的应力场为 ,位错S2在此应力场中受到的力为:两平行螺型位错间的作用力fr:大小与两位错强度的乘积成正比,而与两位错间距成反比,其方向沿径向 ,垂直于所作用的位错线。同理,位错S1在 S2的应力场的 作用下也将受到一个大小相等,方 向相反的作用力。,当 和 同向时,即为同号螺位错, fr>0,作用力为排斥力,若 和 反向时,即为异号螺位错, fr<0,作用力为吸引力。即:两平行螺位错交互作用的特点是:同号相斥,异号相吸;交互作用力的绝对值则与两位错的柏氏矢量模的乘积成正比,而与两位错间的距离成反比。,平行螺位错的交互作用力,二、两个平行刃位错之间的作用力,e1作用于(x,y)处的应力分量有xx,yy,zz,xy,yx,其余为0。但只有yx和xx对e2有作用,由于e2的滑移面平行于XZ面,切应力yx能促使其沿X轴方向发生滑移,正应力xx能促使其沿Y轴方向发生攀移。xy对e2的滑移不起作用, yy,zz对e2的攀移也不起作用。位错e1作用于位错e2上的力为:fx是引起滑移的作用力,当 和 一定时,fx的正负号(即作用力的方向) 由x(x2-y2)项决定,即由e2的位置决定。,当b1、b2同号时,在|x|>|y|时,若x>0,则fx>0; 若x0,则fx>0;若x0,则fx0,表明位错e2位于 、 区时, 两位错互相吸引;,当|x|=|y| 时,fx=0,不存在使位错e2滑移的力,但当它稍许偏离此位置时,所受到的力会使它偏离的更远,即y=x和y=-x两条线是位错e2的介稳定位置。当x=0, fx=0,当它稍许偏离此位置时,所受到的力就使它退回原处,即Y轴是位错e2的稳定平衡位置。,处于相互平行的滑移面上的同号刃位错,将力图沿着与柏氏矢量垂直的方向排列起来。这样的位错组态构成小角度晶界,也叫做位错壁(位错墙)。回复过程中多边化后的亚晶界就是由此形成的。,两刃位错在X-轴方向上的交互作用 (a)同号位错;,对于两个异号刃位错,其交互作用力与同号位错相反,位错e2的稳定平衡位置和亚稳定平衡位置对换,即|x|=|y| 时,为稳定平衡位置。,两刃位错在X-轴方向上的交互作用(a)同号位错;(b)异号位错,fy是使e2沿y轴攀移的力。当b1、b2同号时, fy与y同号。位错e2在位错e1的滑移面以上时,即 y>0,则fy>0,位错将向上攀移;当e2在e1滑移面以下时,fy<0, 则e2向下攀移。因此,两同号位错沿y轴方向互相排斥。而异号位错间的fy与y异号,所以沿y轴方向互相吸引。,第六节 位错的增殖、塞积与交割,一位错的生成晶体中的位错来源:1、晶体生长过程中产生位错。先、后凝固部分点阵常数有差异,形成位错作为过渡;生长着的晶体偏转或弯曲引起相邻晶块之间有位相差,它们之间会形成位错;晶粒受力变形而形成位错。2、自高温较快冷却时晶体内存在大量过饱和空位,空位聚集形成位错。3、晶体内部的某些界面出现应力集中现象,使该局部区域发生滑移,在该区域产生位错。,二、位错的增殖充分退火的金属: =10101012/m2;经剧烈冷变形的金属: =10151016/m2。高出45个数量级:变形过程中,位错肯定以某种方式不断增殖了。位错源:能增殖位错的地方。位错增殖的机制有多种,其中最重要的是FrankRead源,简称F-R源。,F-R源,过程:位错线弯曲和扩展中,b不变,位错线各点性质在变。1点为左螺旋,7点为右螺旋,两点相遇时,彼此抵消,位错线断开成两部分。外面是封闭的位错环,向外扩展到晶体表面,产生一个b的滑移量;而环内的CD在和T的作用下变直,回到原始状态。CD重复上述过程,放出大量位错环,造成位错的增殖。,启动F-R源所需要的切应力,当外加切应力作用时,CD上将受到的力有:f=b:驱动力, 使位错向前弯曲。线张力T:T = (1/2)Gb2,使位错变直。平衡时有:fds = 2Tsin(d/2)ds=rd,sin(d/2)d/2平衡半径:r =Gb/2使位错弯曲到半径r所需的切应力: = Gb/2r半圆时:r最小, 最大。设CD间的距离为L,rmin=L/2,启动F-R源所需的临界切应力: max= Gb/L,弗兰克一瑞德位错增殖机制已为实验所证实,人们已在硅、镉、Al-Cu,AlMg合金,不锈钢和氯化钾等晶体直接观察到类似的F-R源的迹象。,双交滑移增殖机制;L形位错的增殖机制。,三、位错的塞积,位错滑移运动的障碍:固定位错、杂质粒子,晶界等。位错的塞积:位错在障碍物前被阻止、堵塞起来。位错塞积群:塞积的位错群体。领先位错:靠近障碍物的位错。塞积群中位错所受的力有:1)外加切应力产生的作用力b, 促使位错运动,并尽量靠拢。2)位错之间产生的相互排斥力, 使位错在滑移面上尽量散开。3)障碍物作用于领先位错的阻力。三种力平衡时,塞积群的位错停止滑动,并按一定规律排列:越靠近障碍物,位错越密集,距障碍物越远,越稀疏。,塞积群前端的应力集中,领先位错所受的力:外加切应力和其它位错的挤压力+障碍物对领先位错的反作用力0。塞积群由n个柏氏矢量均为b的位错组成,平衡条件:nb=0b可得:0 =n在领先位错与障碍物之间存在很大的局部应力(应力集中)。n个位错塞积,头部的应力集中是外加切应力的n倍。应力集中的正常松弛:位错借交滑移(螺位错)或攀移(刃位错)越过障碍物。应力集中不能正常松弛的后果:导致晶体破裂或迫使障碍物另一边的位错源启动。,位错塞积群对位错源会产生反作用力。反作用力与外加切应力平衡,位错源关闭,停止发射位错。只有进一步增加外力,位错源才会重新开动。对位错运动的阻碍能提高材料的强度。,三、位错的交割,位错的交割:具有不同柏氏矢量的位错彼此交叉通过。割阶:当 和 两个位错相互交割时,各自生成的大小和位向等于对方柏氏矢量的曲折线段。割阶仍属于原位错的一段,其柏氏矢量与原位错相同。,任意两个位错的交割,刃位错之间的交割,柏氏矢量互相垂直:AB上产生割阶PP,PP是位错线APPB中的一段,其柏氏矢量为b2。PP垂直于b2,属刃位错。CD没受影响(b2与CD平行)。,两个刃位错的交割(柏氏矢量互相垂直),柏氏矢量互相平行:AB上产生割阶PP,PP平行于b2;CD上产生割阶QQ,QQ平行于b1;两割阶均为螺位错。,两个刃位错的交割(柏氏矢量互相平行),刃位错与螺位错的交割:,刃位错AB上产生割阶PP,柏氏矢量为b1,刃位错。螺位错CD上产生割阶QQ,柏氏矢量为b2,刃位错,但不能跟随CD一起滑移,只能借助攀移被拖拽过去,将对CD的继续移动带来困难。,刃位错与螺位错交割,交割的结果,交割的结果:形成割阶。可动割阶或固定割阶。割阶的形成,增加了位错线的长度,需要消耗一定的能量。交割过程对位错运动是一种阻碍。可动割阶的影响:带着割阶的位错继续运动,阻力将增大。固定割阶的影响,增大原位错继续运动的阻力,阻碍后续位错运动的 。交割过程及交割的结果,都将使位错运动的阻力增加,变形更加困难,因而产生了应变强化。,应用弹性力学理论可求得刃型位错周围的应力分布,在直角坐标系中的应力分量为:(不适用于中心区)式中G切变模量,泊松比,b柏氏矢量的模。,刃型位错线的移动:,滑移方向:垂直于位错线,但平行于b;滑移面:位错线与b构成的平面,是一个确定的平面。滑移结果:产生一个宽度为b的台阶。,位错的攀移,正攀移:多余半原子面向上移动。需失去最下面的一排原子。实现方式:空位扩散到半原子面的下端,或半原子面下端的原子扩散到别处。负攀移:多余半原子面向下移动。实现方式:空位扩散到别处,或原子扩散到半原子面的下端。,位错攀移越过夹杂物,

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