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    碳化硅薄膜应用.ppt

    • 资源ID:48029026       资源大小:1.01MB        全文页数:10页
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    碳化硅薄膜应用.ppt

    关于碳化硅薄膜应用现在学习的是第1页,共10页碳化硅薄膜应用半导体材料的发展史中,一般将si,Ge称为第一代电子材料,GaAs,Inp,InAs及其合金等称为第二代电子材料,而将宽带高温半导体SiC,GaN,AiN,金刚石等称为第三代半导体材料。随着科学技术的发展,对能在极端条件下工作的电子器件的需求越来越迫切,常规半导体如Si,GaAs已面临严峻挑战,发展带宽隙半导体(Eg2.3Ev)材料已成为当务之急。SiC是第三代半导体材料的核心之一。现在学习的是第2页,共10页SiC的优点:带隙宽,热导率高,电子饱和漂移速率大,化学稳定性好等,非常适于制作高温,高频,抗辐射,大功率和高密度集成的电子器件。利用其特有的禁带宽度(2,。3ev3.3eV),还可以制作蓝,绿光和紫外光的发光器件和光探测器件。另外,与其他化合物半导体材料如GaN,AlN等相比,SiC的独特性质是可以形成自然氧化层SiO2.这对制作各种一MOS为基础的器件是非常有利的。现在学习的是第3页,共10页现在学习的是第4页,共10页现在学习的是第5页,共10页现状:随着社会信息化的需要和现代电子系统的迅速发展,越来越迫切需要Si和GaAs器件难以承受的高温环境下工作的电子器件,取掉系统中现有的冷却装置,适应电子装备的进一步小型化。在寻求高温工作器件的同时,研制高频大功率、抗辐照、高性能半导体器件也是90年代以来微电子领域的重点之一。以sic、GaN、金刚石为代表的宽带隙半导体材料具有禁带宽度大、击穿场强高、热导率大、电子饱和漂移速度高、介电常数小、抗辐照能力强、化学稳定性良好等独特的特性,使其在光电器件、高频大功率器件、高温电子器件等方面倍受青睐,被誉为前景十分广阔的第三代半导体材料。金刚石的特性虽然最佳,但由于受加工技术和设备条件的限制,加上其制作成本过高,因而,目前的研究重点多集中于siC和GaN,并取得了重大进展。sic的性能优点激励着人们对其进行大量的研究,器件的开发已经取得显著进步,其中最引人注目的电力器件是肖特基整流器、晶闸管和功率MOsFET等。sic优于Si和GaAs的材料性能,有着诱人的应用前景,尤其sic器件可在大于200的高温环境下工作,并具有较强的抗辐照能力,这是Si和GaAs器件不能相比的,所以近几年来,许多国家投入大量人力物力进行研究开发。现在学习的是第6页,共10页SiC器件及其应用随着SiC材料制备技术的进展及器件工艺技术的进步,siC器件和电路的发展也十分迅速。采用SiC材料研制的器件种类很多,如SiC二极管、siCJEET、SiC MESFET、SiC MOSFET、SiC HBT、SiC HEMT、SiC SIT等,下面介绍几种SiC器件及其应用情况。现在学习的是第7页,共10页SiC整流器Astronuclear Lab研制的SiC整流器,正向电流从mA级到10A,反向电压为500V(峰值),动态负荷条件下,在l 000下时测试,寿命达到1 000小时以上。SiC整流器可用于高温桥电路,交流电机和点火装置。Purdue首次研制出高压双金属沟槽(DMT)结构SiC肖特基夹断整流器。SiC DMT器件的反向偏置为300V,反向电流比平面器件小75倍,正向偏置特性仍类似于平面器件。4Hsic夹断整流器是采用一个低高的势垒高度(TiNi)DMT结构制作的。瑞典的Stockholm在1997年采用硼和铅的双注入法制作4Hsic PIN整流器,该整流器的压降在100mAcm2下约为6V。Kimoto等人在n型厚外延层4HSiC上制成很高击穿电压的肖特基整流器。已用结型势垒肖特基接触结构制成sic功率整流器。现在学习的是第8页,共10页SiC二极管瑞典KTH、Royal Institute of Technology报道,1995年研制成高击穿6HsiC PIN二极管,击穿电压为45kV。Cree公司在85um厚的SiC外延层上制作了5 900V SiC PIN二极管,正向压降在100Acm2的电流密度下为42V,5 500V SiC PIN二极管的反向恢复电流仅为350nA。美国RPI(Rensse LaerPolytechnic Institute)在40um厚的SiC外延层上实现了4 500V sic PIN二极管,正向压降在100Acm2的电流密度下为42V。Cree Research Inc研制成的4HSiC肖特基二级管具有非常低的反向漏电流密度(4410。Acm2,在700V下)和较高的正向偏置电流(05A)。美国Purdue大学已研制成SiC SBD(肖特基势垒二极管),阻断电压为49kV,本征导通电阻为43m偶cm,在功率开关应用中作高压整流器。Purdue大学在1999年宣布了一个目前世界最高水平的SiC肖特基二极管,制作在50um厚的SiC外延层上。据报道,SiC IMPATT二极管在20GHz一30GHz下的输出功率可达4w,效率为15一20。现在学习的是第9页,共10页03.10.2022感谢大家观看现在学习的是第10页,共10页

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