新余刻蚀设备项目招商引资方案_模板范本.docx

泓域咨询/新余刻蚀设备项目招商引资方案新余刻蚀设备项目招商引资方案xxx有限公司报告说明2021年全球半导体设备市场规模创1026亿美元新高，大陆首次占比全球第一。根据SEMI，2021年半导体设备销售额1026亿美元，同比激增44%，全年销售额创历史新高。大陆设备市场在2013年之前占全球比重为10%以内，20142017年提升至1020%，2018年之后保持在20%以上，份额呈逐年上行趋势。2020-2021年，国内晶圆厂投建、半导体行业加大投入，大陆半导体设备市场规模首次在市场全球排首位，2021达到296.2亿美元，同比增长58%，占比28.9%。展望2022年，存储需求复苏，韩国预计将领跑全球，但大陆设备市场规模有望保持较高比重。根据谨慎财务估算，项目总投资8363.31万元，其中：建设投资6253.61万元，占项目总投资的74.77%；建设期利息61.76万元，占项目总投资的0.74%；流动资金2047.94万元，占项目总投资的24.49%。项目正常运营每年营业收入18100.00万元，综合总成本费用13410.36万元，净利润3440.70万元，财务内部收益率33.65%，财务净现值9024.93万元，全部投资回收期4.53年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本项目符合国家产业发展政策和行业技术进步要求，符合市场要求，受到国家技术经济政策的保护和扶持，适应本地区及临近地区的相关产品日益发展的要求。项目的各项外部条件齐备，交通运输及水电供应均有充分保证，有优越的建设条件。，企业经济和社会效益较好，能实现技术进步，产业结构调整，提高经济效益的目的。项目建设所采用的技术装备先进，成熟可靠，可以确保最终产品的质量要求。本报告为模板参考范文，不作为投资建议，仅供参考。报告产业背景、市场分析、技术方案、风险评估等内容基于公开信息；项目建设方案、投资估算、经济效益分析等内容基于行业研究模型。本报告可用于学习交流或模板参考应用。目录第一章 项目背景及必要性9一、 国内需求爆发，国产替代空间快速打开9二、 刻蚀设备：等离子刻蚀复杂程度高，且步骤逐渐增加10三、 海外设备厂商在手订单饱满，供应链限制延续12四、 建高层次创新体系14第二章 项目概况17一、 项目名称及投资人17二、 编制原则17三、 编制依据18四、 编制范围及内容18五、 项目建设背景19六、 结论分析19主要经济指标一览表21第三章 市场分析24一、 全球设备市场创新高，受益于资本开支提升、制程节点进步24二、 全球市场受海外厂商主导，前五大厂商市占率较高27第四章 选址方案分析29一、 项目选址原则29二、 建设区基本情况29三、 推动开发区改革创新发展30四、 打造数字经济新引擎32五、 项目选址综合评价34第五章 建筑工程说明35一、 项目工程设计总体要求35二、 建设方案35三、 建筑工程建设指标36建筑工程投资一览表36第六章 发展规划分析38一、 公司发展规划38二、 保障措施39第七章 运营模式分析42一、 公司经营宗旨42二、 公司的目标、主要职责42三、 各部门职责及权限43四、 财务会计制度46第八章 SWOT分析52一、 优势分析（S）52二、 劣势分析（W）53三、 机会分析（O）54四、 威胁分析（T）54第九章 环境保护分析58一、 编制依据58二、 环境影响合理性分析58三、 建设期大气环境影响分析58四、 建设期水环境影响分析60五、 建设期固体废弃物环境影响分析60六、 建设期声环境影响分析61七、 环境管理分析62八、 结论及建议65第十章 劳动安全分析67一、 编制依据67二、 防范措施70三、 预期效果评价74第十一章 项目节能说明75一、 项目节能概述75二、 能源消费种类和数量分析76能耗分析一览表76三、 项目节能措施77四、 节能综合评价78第十二章 工艺技术方案80一、 企业技术研发分析80二、 项目技术工艺分析82三、 质量管理83四、 设备选型方案84主要设备购置一览表85第十三章 项目投资分析86一、 投资估算的依据和说明86二、 建设投资估算87建设投资估算表91三、 建设期利息91建设期利息估算表91固定资产投资估算表93四、 流动资金93流动资金估算表94五、 项目总投资95总投资及构成一览表95六、 资金筹措与投资计划96项目投资计划与资金筹措一览表96第十四章 经济效益98一、 经济评价财务测算98营业收入、税金及附加和增值税估算表98综合总成本费用估算表99固定资产折旧费估算表100无形资产和其他资产摊销估算表101利润及利润分配表103二、 项目盈利能力分析103项目投资现金流量表105三、 偿债能力分析106借款还本付息计划表107第十五章 风险评估分析109一、 项目风险分析109二、 项目风险对策111第十六章 项目综合评价说明113第十七章 附表附件115主要经济指标一览表115建设投资估算表116建设期利息估算表117固定资产投资估算表118流动资金估算表119总投资及构成一览表120项目投资计划与资金筹措一览表121营业收入、税金及附加和增值税估算表122综合总成本费用估算表122固定资产折旧费估算表123无形资产和其他资产摊销估算表124利润及利润分配表125项目投资现金流量表126借款还本付息计划表127建筑工程投资一览表128项目实施进度计划一览表129主要设备购置一览表130能耗分析一览表130第一章 项目背景及必要性一、 国内需求爆发，国产替代空间快速打开国内晶圆厂投资进入高峰期。根据集微网统计，20202022年国内晶圆厂总投资金额分别约1500/1400/1200亿元，其中内资晶圆厂投资金额约1000/1200/1100亿元。20202022年国内晶圆厂投资额将是历史上最高的三年，且未来还有新增项目的可能。设备国产化率较低，海外龙头垄断性较高。我国半导体设备市场仍非常依赖进口，从市场格局来看，细分市场均有较高集中度，主要参与厂商一般不超过5家，top3份额往往高于90%，部分设备甚至出现一家独大的情况，目前国内厂商目标市场主要是国内晶圆厂需求，尤其是内资投建的需求。制程越先进，设备投资额占比越高。设备投资一般占比7080%，当制程到16/14nm时，设备投资占比达85%；7nm及以下占比将更高。光刻、刻蚀、沉积、过程控制、热处理等均是重要投资环节。国内国产化逐渐起航，从0到1的过程基本完成。北方华创产品布局广泛，刻蚀机、PVD、CVD、氧化/扩散炉、退火炉、清洗机、ALD等设备新产品市场导入节奏加快，产品工艺覆盖率及客户渗透率进一步提高，在集成电路领域主流生产线实现批量销售，产品加速迭代；第三代半导体、新型显示、光伏设备产品线进一步拓宽，出货量实现较快增长。拓荆科技作为国内唯一一家产业化应用PECVD和SACVD设备的供应商，PECVD累计发货150台，广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、合肥长鑫、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂，PEALD已实现销售；中微公司介质刻蚀机已经打入5nm制程，新款用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备UniMax2022Q1订单已超180腔；芯源微前道涂胶显影设备在28nm及以上多项技术及高产能结构方面取得进展，并实现多种核心零部件的国产替代，公司前道物理清洗设备已经达到国际先进水平并成功实现国产替代，新签订单结构中前道产品占比大幅提升；华海清科CMP设备在逻辑芯片、3DNAND、DRAM制造等领域的工艺技术水平已分别突破至14nm、128层、1X/1Ynm，到2021年底，公司CMP设备累计出货超过140台，未发出产品的在手订单超70台。Mattson（屹唐半导体）在去胶设备市占率全球第二；盛美半导体单片清洗机在海力士、长存、SMIC等产线量产。精测电子、上海睿励在测量领域突破国外垄断。设备国产化率较低，国产厂商成长空间巨大。我国半导体设备市场仍非常依赖进口，目前国内厂商目标市场主要是国内晶圆厂需求，尤其是内资投建的需求，潜在收入目标空间较大。二、 刻蚀设备：等离子刻蚀复杂程度高，且步骤逐渐增加刻蚀是用化学、物理、化学物理结合的方法有选择的去除（光刻胶）开口下方的材料。被刻蚀的材料包括硅、介质材料、金属材料、光刻胶。刻蚀是与光刻相联系的图形化处理工艺。刻蚀就是利用光刻胶等材料作为掩蔽层，通过物理、化学方法将下层材料中没有被上层遮蔽层材料遮蔽的地方去掉，从而在下层材料上获得与掩膜板图形对应的图形。电容性等离子体刻蚀CCP：能量高、精度低，主要用于介质材料刻蚀（形成上层线路）诸如逻辑芯片的栅侧墙、硬掩膜刻蚀、中段的接触孔刻蚀、后端的镶嵌式和铝垫刻蚀等，以及3D闪存芯片工艺（氮化硅/氧化硅）的深槽、深孔和连线接触孔的刻蚀等。电感性等离子体刻蚀ICP：能量低、精度高，主要用于硅刻蚀和金属刻蚀（形成底层器件）硅浅槽隔离（STI）、锗（Ge）、多晶硅栅结构、金属栅结构、应变硅（Strained-Si）、金属导线、金属焊垫（Pad）、镶嵌式刻蚀金属硬掩模和多重成像技术中的多道刻蚀工艺。光刻技术中许多先进制程涉及多重图形技术。即使是EUV，波长为13.5nm，要实现7nm的精度，仍需要依靠多重图形技术，即多次刻蚀。因此制程升级，精度越高，需要的刻蚀复杂度、步骤数量也在提升。所以刻蚀设备和化学薄膜设备成为更关键的设备。刻蚀设备市场超过130亿美元，是晶圆设备占比最高的市场。2011年以来，刻蚀在晶圆设备的占比从11%逐渐提升到20%以上，2017年起成为全球晶圆设备中占比最高的装备类别，重要性不断提升。刻蚀设备市场基本是干法刻蚀设备，2020年全球干法刻蚀设备市场约137亿美元，其中介质刻蚀（DielectricEtch）60亿美元，导体刻蚀（ConductorEtch）76亿美元。从导体刻蚀市场结构看，Lam一家独大，长期全球市占率超过50%；其次AMAT占据约30%市场份额。剩下的厂商如日立高新、TEL、KLA、北方华创、SEMES、中微公司等公司合计，在导体刻蚀合计市占率不超过20%。近两年，国内设备龙头厂商北方华创、中微公司该产品线放量加速，逐步提高半导体设备刻蚀供应链份额。从介质刻蚀市场结构看，TEL一家独大，长期全球市占率超过50%；其次Lam占据接近40%的市场份额，两家厂商主导整个市场，寡占程度较强。全球介质刻蚀设备供应商还有SEMES、中微公司、AMAT、Ulvac、屹唐半导体等。中微公司开发了系列介质刻蚀装备，并承担多项重大科研项目，是国内领先的介质刻蚀设备厂商。三、 海外设备厂商在手订单饱满，供应链限制延续在手订单依旧强劲，供应链限制延续，设备大厂积极扩产。1）供给高度紧张：ASML22Q1营收yoy-19%，下滑主要系部分订单确认延迟；毛利率同比-5pt，承压主要系材料、供应链、运输等成本上升；库存周转率降低。泛林毛利率同比-1.7pt，主要系成本压力（原材料、物流、通胀等）。2）订单依旧强劲：ASML新增在手订单约70亿欧元，环比持平。KLA：当前在手订单交期总体56个月，部分产品78月。爱德万客户订单提前量增加，由于系半导体等材料和零件短缺，交期延长。3）积极扩产：ASML预计2030年产能至少翻番，2025年年产能增加到约90套0.33孔径EUV和600套DUV。泰瑞达预计2023研发费用1900亿日元，yoy+20.1%；资本开支750亿日元，yoy+31.1%，规划金额皆较往年有大幅提升。2022下半年展望乐观，全年需求强劲将有订单递延至明年。泛林2022Q2毛利率指引中枢仍略降，持续成本和供应压力影响持续，二季度订单积压不断增加。随产能落地、产品竞争力效益显现及部分订单延迟多数企业对H2展望乐观。ASML预计2022H2表现强劲，毛利率约54%，高于全年52%指引，主要由EUV和DPV出货及安装基础管理业务利润率提升驱动。Q4部分EUV系统收入将递延到2023年。泛林预计2022WFE需求将超1000亿美元，未满足的设备需求将递延至明年。泰瑞达积极建立库存及扩产，预计H2出货有更大增量及灵活性，预计Q2实现增长，仅高端产品出货受限。四、 建高层次创新体系集聚创新优势资源，强化创新载体建设，培育创新主体，着力提升创新整体效能，激发创新创造新活力。（一）加快建设科技创新载体建设重大科创平台。把握高新区获批建设国家自主创新示范区的契机，加强资源优化整合，在优势特色产业集群培育、高水平科技创新基地建设、科技投融资体系构建、科技成果转移转化、协同开放创新等方面探索示范。围绕全市主导产业和创新优势企业，积极创建科创城，完善创新平台布局。支持以赣锋锂业为依托的江西锂电新材料重点实验室建设建成国内一流的锂电材料研发中心。加强国家光伏工程技术研究中心的创新提升，依托院士团队，打造国内国际一流水平的国家光伏工程领域的重大科技创新平台。支持新钢公司、沃格光电、盛泰光学等企业整合国内优势创新资源，瞄准科技发展前沿和产业发展需求，加快研发机构建设。推进新型研发机构建设。支持企业与高等院所共建“实体办院、投管分离、市场化运营”的新型研发机构，将内设工程技术研究中心、重点实验室等独立运营机构，面向产业开展共性关键技术研发和产业化服务，鼓励、引导产业技术创新战略联盟法人化经营，转变为实行专业化和市场化运作新型研发机构。引导中小企业参与产业技术创新联盟、产业集群协同创新项目，力争科研团队、科技合作在高新技术企业全覆盖。（二）强化企业创新主体地位以新技术、新产业、新业态、新模式为突破口，强化企业创新主体地位，培育一批跨界融合爆发式成长的科技型企业。以创新引领、分类指导、精准施策为原则，构建中小微科技型企业、高新技术企业、“瞪羚企业”“独角兽企业”的梯次培育机制。加大对企业创新发展的支持，打造一批创新发展标杆型企业。启动专利“十百千”计划，引导企业实施专利战略，提升企业知识产权创造运用能力。到2025年，全市科技型中小企业、高新技术企业数量大幅增长，企业发明专利申请占比超过60%，每万人口高价值发明专利拥有量达到3.5件。（三）营造良好创新环境持续深化科技体制改革，建立健全创新评价体系。完善以知识、技能、管理、数据等创新要素参与利益分配的激励机制，加快建立现代产权保护制度。加快构建科技金融体系，推动科技创新链条与金融资本链条的有机结合，支持知识产权融资、科技成果转化。大力推进大众创业万众创新，积极打造一批众创空间、科技孵化器等创新创业载体，构建全链条的创新服务体系。充分利用媒体渠道，广泛深入宣传科技创新，加大科学普及力度，对在科技创新引领发展和科学普及工作中做出突出成效的先进单位和优秀人才，及时树典型、立榜样，大力弘扬科学家精神、创新文化，全面提升全社会科技创新意识，营造尊重知识、尊重人才、尊重创造的浓厚氛围。第二章 项目概况一、 项目名称及投资人（一）项目名称新余刻蚀设备项目（二）项目投资人xxx有限公司（三）建设地点本期项目选址位于xx（以选址意见书为准）。二、 编制原则1、所选择的工艺技术应先进、适用、可靠，保证项目投产后，能安全、稳定、长周期、连续运行。2、所选择的设备和材料必须可靠，并注意解决好超限设备的制造和运输问题。3、充分依托现有社会公共设施，以降低投资，加快项目建设进度。4、贯彻主体工程与环境保护、劳动安全和工业卫生、消防同时设计、同时建设、同时投产。5、消防、卫生及安全设施的设置必须贯彻国家关于环境保护、劳动安全的法规和要求，符合行业相关标准。6、所选择的产品方案和技术方案应是优化的方案，以最大程度减少投资，提高项目经济效益和抗风险能力。科学论证项目的技术可靠性、项目的经济性，实事求是地作出研究结论。三、 编制依据1、一般工业项目可行性研究报告编制大纲;2、建设项目经济评价方法与参数(第三版);3、建设项目用地预审管理办法;4、投资项目可行性研究指南;5、产业结构调整指导目录。四、 编制范围及内容依据国家产业发展政策和有关部门的行业发展规划以及项目承办单位的实际情况，按照项目的建设要求，对项目的实施在技术、经济、社会和环境保护等领域的科学性、合理性和可行性进行研究论证。研究、分析和预测国内外市场供需情况与建设规模，并提出主要技术经济指标，对项目能否实施做出一个比较科学的评价，其主要内容包括如下几个方面:1、确定建设条件与项目选址。2、确定企业组织机构及劳动定员。3、项目实施进度建议。4、分析技术、经济、投资估算和资金筹措情况。5、预测项目的经济效益和社会效益及国民经济评价。五、 项目建设背景北美半导体设备厂商月销售额2021年以来稳站30亿+美金。通过复盘半导体行业景气周期历史，北美半导体设备厂商月销售额对于全球半导体行业景气度分析具有重要意义，北美半导体设备销售额水平通常领先全球半导体销售额一个季度。2021年1月，北美半导体设备厂商月销售额首次突破了30亿美金关口，创历史新高，达到了30.4亿美金。此后月度销售额逐季创新高，至12月份销售额达到39.2亿美金，同比增长46%。与此同时全球半导体销售市场自2021年4月以来连续12个月同比增速超过20%，2022年3月，全球半导体销售额达到505.8亿美金，同比增长23.0%，展望2022全年，从各机构当前预测平均值来看，预计2022年全球半导体市场仍将保持10%以上同比增长。六、 结论分析（一）项目选址本期项目选址位于xx（以选址意见书为准），占地面积约18.00亩。（二）建设规模与产品方案项目正常运营后，可形成年产xxx套刻蚀设备的生产能力。（三）项目实施进度本期项目建设期限规划12个月。（四）投资估算本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算，项目总投资8363.31万元，其中：建设投资6253.61万元，占项目总投资的74.77%；建设期利息61.76万元，占项目总投资的0.74%；流动资金2047.94万元，占项目总投资的24.49%。（五）资金筹措项目总投资8363.31万元，根据资金筹措方案，xxx有限公司计划自筹资金（资本金）5842.53万元。根据谨慎财务测算，本期工程项目申请银行借款总额2520.78万元。（六）经济评价1、项目达产年预期营业收入（SP）：18100.00万元。2、年综合总成本费用（TC）：13410.36万元。3、项目达产年净利润（NP）：3440.70万元。4、财务内部收益率（FIRR）：33.65%。5、全部投资回收期（Pt）：4.53年（含建设期12个月）。6、达产年盈亏平衡点（BEP）：4854.37万元（产值）。（七）社会效益项目建设符合国家产业政策，具有前瞻性；项目产品技术及工艺成熟，达到大批量生产的条件，且项目产品性能优越，是推广型产品；项目产品采用了目前国内最先进的工艺技术方案；项目设施对环境的影响经评价分析是可行的；根据项目财务评价分析，经济效益好，在财务方面是充分可行的。本项目实施后，可满足国内市场需求，增加国家及地方财政收入，带动产业升级发展，为社会提供更多的就业机会。另外，由于本项目环保治理手段完善，不会对周边环境产生不利影响。因此，本项目建设具有良好的社会效益。（八）主要经济技术指标主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积12000.00约18.00亩1.1总建筑面积21082.201.2基底面积7440.001.3投资强度万元/亩323.542总投资万元8363.312.1建设投资万元6253.612.1.1工程费用万元5278.442.1.2其他费用万元828.912.1.3预备费万元146.262.2建设期利息万元61.762.3流动资金万元2047.943资金筹措万元8363.313.1自筹资金万元5842.533.2银行贷款万元2520.784营业收入万元18100.00正常运营年份5总成本费用万元13410.36""6利润总额万元4587.60""7净利润万元3440.70""8所得税万元1146.90""9增值税万元850.26""10税金及附加万元102.04""11纳税总额万元2099.20""12工业增加值万元6825.44""13盈亏平衡点万元4854.37产值14回收期年4.5315内部收益率33.65%所得税后16财务净现值万元9024.93所得税后第三章 市场分析一、 全球设备市场创新高，受益于资本开支提升、制程节点进步2021年全球半导体设备市场规模创1026亿美元新高，大陆首次占比全球第一。根据SEMI，2021年半导体设备销售额1026亿美元，同比激增44%，全年销售额创历史新高。大陆设备市场在2013年之前占全球比重为10%以内，20142017年提升至1020%，2018年之后保持在20%以上，份额呈逐年上行趋势。2020-2021年，国内晶圆厂投建、半导体行业加大投入，大陆半导体设备市场规模首次在市场全球排首位，2021达到296.2亿美元，同比增长58%，占比28.9%。展望2022年，存储需求复苏，韩国预计将领跑全球，但大陆设备市场规模有望保持较高比重。北美半导体设备厂商月销售额2021年以来稳站30亿+美金。通过复盘半导体行业景气周期历史，北美半导体设备厂商月销售额对于全球半导体行业景气度分析具有重要意义，北美半导体设备销售额水平通常领先全球半导体销售额一个季度。2021年1月，北美半导体设备厂商月销售额首次突破了30亿美金关口，创历史新高，达到了30.4亿美金。此后月度销售额逐季创新高，至12月份销售额达到39.2亿美金，同比增长46%。与此同时全球半导体销售市场自2021年4月以来连续12个月同比增速超过20%，2022年3月，全球半导体销售额达到505.8亿美金，同比增长23.0%，展望2022全年，从各机构当前预测平均值来看，预计2022年全球半导体市场仍将保持10%以上同比增长。半导体设备行业呈现明显的周期性，受下游厂商资本开支节奏变化较为明显。2017年，存储厂商的大幅资本开支推动半导体设备迎来巨大需求，且这一势头一直延续到2018年上半年。但随后产能过剩致使存储价格走低，导致DRAM和NAND厂商纷纷推迟设备订单。存储产能过剩一直持续到2019年上半年，同时上半年整体半导体行业景气度不佳，虽然下半年随着行业景气度恢复，以台积电为代表的晶圆厂陆续调高资本开支大幅扩产，2019年全年半导体设备需求同比仍回落约2%。2020年全球各地先后受疫情影响，但存储行业资本支出修复、先进制程投资叠加数字化、5G带来的下游各领域强劲需求，全年设备市场同比增长19%。伴随半导体厂商新一轮资本开支开启，2021年全球设备市场继续大幅增长44%。当前海外设备龙头应用材料、泛林集团等均预计2022年全球设备市场规模将进一步增长。未来两年全球晶圆厂设备开支持续增长。2020年疫情带来的居家及远程办公带来笔电等消费电子需求激增作为本轮周期的催化剂，2020H2以车用芯片为代表的供应链开始紧张，下游持续增长的需求与上游有限产能的矛盾演绎为2021年全年行业供需失衡加剧。2022年以来，消费性电子、智能手机、PC等领域需求确有下滑，但更值得注意的是全球正步入第四轮硅含量提升周期，服务器、汽车、工业、物联网等需求大规模提升。在6月台积电召开的股东大会上，公司管理层表示未来10年是半导体行业非常好的机会，主要原因就是5G及高效能运算的普及，生活数字化转型，带来对车用（新车半导体含量可达传统车的10倍）、手机、服务器等终端内半导体含量的增加，推动半导体需求大幅成长。中芯国际在22Q1法说会表示，尽管消费电子，手机等存量市场进入去库存阶段，开始软着陆，但高端物联网、电动车、绿色能源、工业等增量市场尚未建立足够的库存，近年来硅含量提升与晶圆厂有限的产能扩充矛盾，叠加产业链转移带来的本土化产能缺口，使得公司需要大幅扩产，推出新产品工艺平台，满足客户旺盛的增量需求。疫情、全球经济及半导体周期性虽然会带来短期内的不确定性，但是技术进步、硅含量提升是长期支撑半导体行业持续发展的最关键驱动力。2020年开始全球领先的晶圆厂纷纷加速扩产提升资本开支，根据ICInsights，2021年全球半导体资本开支增速达到36%，预计2022年将继续增长24%，2020-2022年将会成为自1993-1995年以来的首次CapEx连续三年增速超过20%。半导体设备作为晶圆厂扩产的重要开支部分，根据SEMI，2021年全球晶圆厂前道设备支出增速达到42%，预计2022年将进一步增长18%。台积电、中芯国际纷纷增加资本开支，CapEx进入上行期。根据ICInsights，全球代工厂资本开支约占半导体总体的35%，根据头部代工厂的资本开支规划来看，2022年代工领域资本开支将进一步提升。台积电从2020年170亿美金增长到2021年的300亿美金（用于N3/N5/N7的资本开支占80%），公司2021年4月1日公布未来三年资本开支1000亿美金，2022年资本开支将进一步提升至400-440亿美金，预计2023年资本开支仍有望超过400亿美金；联电2021年CapEx18亿美金，预计2022年翻倍达到36亿美金（其中90%将用于12英寸晶圆）；GlobalFoundries于2021年IPO后资本开支大幅提升用于扩产，公司2020年CapEx4.5亿美金，2021年提升至16.6亿美金，预计2022年超过40亿美金；中芯国际2021年资本开支维持高位，达到45亿美金（大部分用于扩成熟制程，尤其是8寸数量扩4.5万片/月），预计2022年达到50亿美金。二、 全球市场受海外厂商主导，前五大厂商市占率较高全球设备五强占市场主导角色。全球设备竞争格局，主要前道工艺（刻蚀、沉积、涂胶、热处理、清洗等）整合成三强AMAT、LAM、TEL。另外，光刻机龙头ASML市占率80%+；过程控制龙头KLA市占率50%。根据SEMI，ASML、AMAT、LAMResearch、TEL、KLA五大厂商2021年收入合计788亿美元，占全球市场约77%。综合看下来，设备五强市场在各赛道合计市占率基本在50%以上。AMSL优势在光刻方面遥遥领先；AMAT优势在产品线广，沉积（CVD、PVD）市占率高；LAM优势在刻蚀领域；TEL优势在小赛道如涂胶、去胶、热处理；KLA优势在过程控制。第四章 选址方案分析一、 项目选址原则项目选址应符合城乡规划和相关标准规范，有利于产业发展、城乡功能完善和城乡空间资源合理配置与利用，坚持节能、保护环境可持续利用发展，经济效益、社会效益、环境效益三效统一，土地利用最优化。二、 建设区基本情况新余市地貌，根据江西省地貌图划分，隶属于赣西中低山与丘陵区，地貌基本形态有低山、高丘陵、低丘陵、岗地、阶地、平原6种类型。新余市属亚热带湿润性气候，具有四季分明，气候温和，日照充足，雨量充沛，无霜期长，严冬较短的特征。袁河是流经新余市的主要河流，属赣江水系，横贯东西，境内河段长116.9公里。2018年，新余市石竹山上高县樟木桥探明世界最大硅灰石矿。展望二三五年，新余将与全国同步基本实现社会主义现代化。到那时，全市经济实力、科技实力、综合实力大幅跃升，人均生产总值将在2020年基础上实现翻番，经济总量和城乡居民人均收入迈上新的大台阶；基本实现新型工业化、信息化、城镇化、农业现代化，建成具有新余特色的现代化经济体系；工业强市巩固提升，新余智造走向世界；市域治理现代化基本实现，治理体系和治理能力走在全省前列，基本建成法治新余；生态环境质量全面改善，绿色产业体系加快形成，美丽中国江西样板新余特色全面建成，山水美市声名远播；人民生活更加美好，幸福感、安全感、获得感不断提升，民生城市全面建成；文化软实力显著增强，人民素质和社会文明程度达到新高度；全域城市化基本实现，共建共治共享的社会发展新局面基本形成，城市功能品质大幅提升，成为区域最具魅力的现代都市。当前及今后一个时期,我们处于大有可为的战略机遇期。国际环境日趋复杂,新冠肺炎疫情影响广泛深远;但和平与发展仍是时代主题,人类命运共同体理念日益深入人心;我国综合国力不断增强、制度优势日益彰显、治理效能显著提升,发展长期向好的基本面没有改变;新一轮科技革命和产业变革深入发展,新发展格局加快构建,必将催生新一轮政策机遇、市场机遇和开放机遇,有利于持续增强我市经济社会发展动力;长江经济带、粤港澳大湾区、江西内陆开放型经济试验区等重大战略深入实施,新宜吉六县转型合作加速推进,有利于我市全方位拓展新发展空间;创新驱动、扩大内需、城乡融合发展等新一轮宏观发展政策实施,有利于全面激发我市经济社会发展活力。三、 推动开发区改革创新发展坚持规划引领、改革创新、集聚集约发展，深化开发区体制机制改革创新，充分释放开发区发展动能，更好发挥工业发展主阵地、主战场作用。（一）推动园区提质升级引导开发区聚焦首位产业、主攻产业，大力实施开发区产业集群提能升级计划，提升产业首位度。开展集群式项目“满园扩园”“两型三化”管理提标提档等行动，提升特色优势产业集群综合竞争力。稳步有序推进开发区优化整合，促进土地等生产要素向效益高、质量好的开发区倾斜，支持袁河经开区、分宜工业园扩区调区，推动袁河经开区升格为国家级开发区，高新区新设省级智能制造装备产业园。强化“亩产论英雄”导向，开展“节地增效”行动，推进“标准地”建设，加快整合开发区闲置土地、低效用地。创新土地差别化供地政策，采取工业用地先租后让、租让结合、长期租赁、弹性年限等方式满足企业用地需求，降低用地成本。（二）促进产城融合发展统筹产业和城市空间布局，加快完善开发区生活配套，稳步推动开发区由单一的生产型园区向综合型城市经济转型，打造现代化产业新城。构建“大园区+小城市”公共服务网络，推动渝水区公共服务向袁河经济开发区延伸、分宜县公共服务向分宜工业园区延伸，完善新宜吉合作示范区、仙女湖区公共服务，实现城市功能与产业功能有机融合。实施开发区“新九通一平”工程，加快园区和城镇基础设施、产业发展、创新体系、基本公共服务和生态环保一体化布局和建设。（三）优化开发区体制机制加快开发区建设、管理、运营市场化改革，全面厘清开发区管理职能，分离行政管理和市场化运营职能，推行“管委会+公司+基金”“开发区+主题产业园”等模式，深化人事和薪酬制度改革。加快推进高新区、袁河经开区和分宜工业园等园区一体化协同发展步伐，全面实现“一块牌子对外、一枚公章审批、一套政策招商、一次规划到位、一个盘子统计”，构建形成“一区多园”联合发展格局。支持开发区与先进地区、优质企业通过园中园、飞地经济等模式合作共建，打造智能制造、装配式建筑等一批特色产业园，吸引社会资本多元化参与建设发展。四、 打造数字经济新引擎突出数字经济新动能培育“一号工程”地位，以数字产业化和产业数字化为主线，以数字应用为牵引，推动城市数字化建设，创建中部产业数字化转型示范区、全省数字经济创新引领区。（一）大力推进产业数字化实施智能制造升级工程，推动互联网、大数据、人工智能与实体经济深度融合，加快制造业转型升级步伐。构建面向行业的工业互联网标识解析二级节点，支持重点企业开展智能制造应用示范，试点建设5G数字工厂和车间，支持一批重点领域龙头企业搭建企业级工业互联网平台，推动传统制造业向高端化、智能化、绿色化方向发展。实施千家企业上云行动，加快各类信息技术在企业中普及应用。大力培育共享经济、平台经济等新模式新业态，持续推动服务业数字化升级。实施智慧物流、智慧旅游、数字文创、数字新媒体、数字金融等重大数字应用工程，加速线上线下资源有效整合利用，打造数字化服务业。完善农业农村领域统计监测、预警防控、质量安全、综合服务等信息系统建设，推进农业大数据开放共享，提升农业数字化能力。（二）积极推动数字产业化发展数字经济新业态，支持发展线上线下融合的新业态新模式。推进数字产业园建设，做大做强大数据核心产业，发展新一代信息技术产业和信息安全产业，打造全省领先的视图音认知和物联感知的人工智能、软件研发产业链。以机器人、智能安防等领域为重点，加大力度引进一批人工智能骨干企业和创新企业。推进京东(新余)数字经济产业园建设，建设一批特色产业云交易平台。开展大数据和虚拟/增强现实(VR/AR)技术深度融合应用，积极推进区块链与钢铁、锂电等优势产业融合发展。加快完善数字经济统计制度，科学合理反映数字经济发展状况。实施网络安全防护工程，加强数据知识产权保护力度。五、 项目选址综合评价项目选址应统筹区域经济社会可持续发展，符合城乡规划和相关标准规范，保证城乡公共安全和项目建设安全，满足项目科研、生产要求，社会经济效益、社会效益、环境效益相互协调发展。 第五章 建筑工程说明一、 项目工程设计总体要求（一）工程设计依据建筑结构荷载规范建筑地基基础设计规范砌体结构设计规范混凝土结构设计规范建筑抗震设防分类标准（二）工程设计结构安全等级及结构重要性系数车间、仓库:安全等级二级，结构重要性系数1.0；办公楼：安全等级二级，结构重要性系数1.0；其它附属建筑：安全等级二级，结构重要性系数1.0。二、 建设方案（一）结构方案1、设计采用的规范（1）由有关主导专业所提供的资料及要求；（2）国家及地方现行的有关建筑结构设计规范、规程及规定；（3）当地地形、地貌等自然条件。2、主要建筑物结构设计（1）车间与仓库：采用现浇钢筋混凝土结构，砖砌外墙作围护结构，基础采用浅基础及地梁拉接，并在适当位置设置伸缩缝。（2）综合楼、办公楼:采用现浇钢筋砼框架结构，（二）建筑立面设计为使建筑物整体风格具有时代特征，更加具有强烈的视觉效果，更加耐人寻味、引人入胜。建筑外形设计时尽可能简洁明了，重点把握个体与部分之间的比例美与逻辑美，并注意各线、面、形之间的相互关系，充分利用方向、形体、质感、虚实等多方位的建筑处理手法。三、 建筑工程建设指标本期项目建筑面积21082.20，