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http:/ APPENDIX 1.2.3.4.5.Chapter 1在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确41-1 (02.3Q ,)在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确51-2 Furnace CVD 93 92 DRAM 193 Memory 1 95%在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确6(Oxidation)(Oxidation)(Exposure)(Development)(Etching)(CVD)(CVD)(PR)Wafer Source Gas Wafer 1-3 Wafer Wafer(Fabrication)(Packaging)(Test)在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确71-4 ALD(Atomic Layer Deposition)-Al2 2O3 3/HfO2 2 -Nitride(Si3 3N4 4)-Oxide(SiO2 2)Batch TypeMMT(Modified Magnetron Type)-Stack Gate (Nitridation,Oxidation)Single TypeFurnace&CVDFurnace&CVD 200mm/300mm Wafer Furnace/CVD TAT(Turn Around Time)Wafer 1 Single Type RTP(Rapid Thermal Process)Ruthenium,High-k Ta2O5 Batch50150 Wafer Batch Type Oxide,Nitride,Anneal,D-PolyHTO(High Temperature Oxide)Alloy,BPSG reflow 在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确81-5 A/S,Total Service 200mm/300mm Diffusion Furnace&LP-CVD,LP-OXIDATION,ALD :63%,:9%:15%Set-up A/S :13%(2002(2002 3 3 )Chapter 21.2.3.在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确10(:WSTS 2002.5,Data Quest 2002.7):WSTS 2002.5,Data Quest 2002.7)(B$)(B$)204204149149353562622-1 Furnace&CVD 0102 03 -2003 1220%,916%-DRAM,PC,2003 Furnace&CVD -70%-Furnace&CVD 20%(:Data Book 2001)(M$)(M$)5,2432,675397755在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确112-2 ()()(:03.01 03.01 )03 IT,PC,22%($1,422$1,731,$309)03 .-300 Wafer Line -System LSI Line -03 5 53.63.64 43 3,LCD,Utility 03 12.4%(2001)-6.8%,36.1%,11.0%1,3241,32416316312.312.31,2611,26190907.17.12,1732,17321921910.110.11,0971,09717017015.515.5781781818110.410.4(%)%)02(F)02(F)0101000099999898(:)(%)(%)(:2002)2002)(M$)(M$)2,9381,3501,9334,0292,0452,21712.4%12.4%17.8%17.8%0510152025在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确122-3 (,)300mm Furnace&CVD 35%17%9%T 39%200mm Furnace&CVD 49%11%3%T 37%Chapter 31.Trend2.3.4.R&D 5.6.在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确143-1 Trend (Maker)(Device Maker)(Maker)(Device Maker)(:+)R&D Device Maker Device Maker (JDP:Joint Development Project)在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确15 3-2Furnace&CVD Conventional Diffusion Furnace&LP-CVDALD(Atomic Layer Deposition)MMT(Modified magnetron Typed Plasma source)PL-CVD(Poly Layer CVD)RTP(Rapid Thermal Process)(:,:)在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确163-3 10 Device Maker 在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确17R&D R&D 3-4 2000 R&D 23(77 30%)-15 5 R&D 15 (6%),Unit (,)(%)(%)()5.09.312.515.0在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确183-5 ,2001 -1,700 -:-:1 2,500 -:1 3%-:800 :-:在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确193-6 ,A/S .3 (OEM).1:2:A/S 3:Unit,OEM 5 Wafer 4 6 Wafer 8 12 Wafer -200 -1520 80 1991 1996 1997 2001 2002 2006 729927278010103030(8)ASMCTSMCHejianSMIC 03 (M$)311010641Line 34568W/F Size Fab:CCID(:CCID()Chapter 41.2.3.在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确214-1 -02 240 50%-01 13.07%(6.4%)-0%-02.3Q (02)24,000(:)23,51529,56516,00814,80214,802(:%):%)(:%):%)()在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确224-2 PER EV/EBITDA ()在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确234-3 TEL 1999 2001 12%(9 )Furnace&CVD 60%M/S Device Maker (10),A/S?Zero APPENDIXChapter 51.2.3.在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确255-1 2003 3 5 2003 2 21 2003 3 21 2003 2 52003 3 12 13 4,2864,286 6,8516,851 365365 ()2,2002,200()2,355,7762,355,776(28.7%)(28.7%)2,210,0002,210,000(26.9%)(26.9%)254,224254,224(3.1%)(3.1%)(:8,210,000:8,210,000)2,190,0002,190,000(26.7%)(26.7%)1,200,0001,200,000(14.6%)(14.6%)5,596,7765,596,776(68.2%)(68.2%)2,190,0002,190,000(26.7%)(26.7%)(*2)(*2)(*1)(*1)830,000830,000(10.1%)(10.1%)221,000221,000(2.7%)(2.7%)(*3)(*3)2,355,7762,355,776(28.7%)(28.7%)()(*1)(*1):1,200,000:1,200,000(830,000830,000)(*2)(*2):(*3)(*3):274,174:274,174(1(1 :221,000:221,000)2,613,2242,613,224(31.8%)(31.8%)在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确265-2 4-2 77160.1/20.9(2001)/Diffusion Furnace LP-CVD330 1993.5.24 93.05 94.04 95.04 ,97.06 ISO9002 (Q10080)99.03 33 00.06 00.08 ,00.10 LP-Oxidation 1 00.11 02.02 03.02 242()在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确275-3 Japan FAB 日 23(30.0%)15(19.5%)17(22.0%)2(2.5%)20(26.0%)(77)R&D :56%在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确
