纯水系统技术手册上.ppt

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1、按一下以編輯母片標題樣式,按一下以編輯母片,第二層,第三層,第四層,第五層,*,按一下以編輯母片標題樣式,按一下以編輯母片,第二層,第三層,第四層,第五層,Slide 2007 by Hsieh,Pao-Nuan,*,Company Confidential Covered by NDA,First Level,Second Level,Third Level,Fourth Level,Author:WINTEK/MKT Page:,*,Date:,*,File:File Name.ppt,按一下以編輯母片標題樣式,第三層,第四層,第五層,書式設定,書式設定,第 2,第 3,第 4,第 5,*

2、,Click to edit Master title style,Click to edit Master text styles,Second level,Third level,Fourth level,Fifth level,*,按一下以編輯母片標題樣式,按一下以編輯母片,第二層,第三層,第四層,第五層,*,Click to edit Master title style,Click to edit Master text styles,Second level,Third level,Fourth level,Fifth level,*,Click to edit Master ti

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4、vel,Fourth level,Fifth level,*,Click to edit Master title style,Click to edit Master text styles,Second level,Third level,Fourth level,Fifth level,*,Click to edit Master title style,Click to edit Master text styles,Second level,Third level,Fourth level,Fifth level,*,純水系統技術手冊,Facility,廠務部,东莞万士达液晶显示器有

5、限公司,純水系統,常用水質名詞解釋,1.總溶解固體(Total Dissolved Solids，簡稱T.D.S)：,指水中溶解的無機物和有機物的總量，使用單位為ppm，或毫克/公升,(mg/l)。總溶解固體是測量進水和產水水質最方便快速的方法，而且它和,滲透壓及離子強度有密切的關係，因此是很重要的水質項目。,2.導電度與比電阻值(Conductivity and Resistivity)：,導電度與電阻值均用來表示水中導電物質的多寡。導電度的單位是,Microsiemens/cm，比電阻值的表示單位是ohms-cm。導電度與比電阻兩,者互為倒數。一般處理水的導電度較高，因此水質可以用導電度來

6、表示；,至於純水，尤其是超純水，由於導電度極低，因此以比電阻值來表示較方便。,3.鹼度（Alkalinity)：,鹼度是指水中可以和酸中和之成分的含量，主要成分為氫氧根(OH-)，碳酸,根(CO3,)及碳酸氫根(HCO3-)，由於碳酸鈣是最主要的結垢來源，因此分析,水中的鹼度對結垢預測是非常重要的。,4.硬度(Hardness)：,硬度最主要來源為鈣和鎂，因此在水質分析上鈣硬度和鎂硬度兩者的總和稱,為總硬度，常用的硬度單位為ppm as CaCO3，硬度成分依能否以加熱方式去,除而被分為永久硬度和暫時硬度，永久硬度是指鈣，鎂的氯化物、矽酸鹽和硫酸,鹽等，硬度成分在水被加熱的過程中不會沉澱下來，

7、暫時硬度主要係指碳酸,鈣，這些成分在加熱時會結晶析出形成沉澱物。,5.酸鹼值(pH Value)：,酸鹼值是溶液中酸或鹼濃度的表示法，其定義為水中氫離子濃度的負對數,值，在25，中性水的酸鹼值為7，7以上至14為鹼性，7以下至0為酸性。,6.濁度(Turbidity)：,濁度指水中引起光散射之懸浮顆粒的量；懸浮顆粒包括黏土,(Clay)20m size Particle),(,Removed TOC in water),(,Most Part Ionic Exchange),TOC,:Total Organic Carbon,NaClO,HCl,PAC,NaClO,HCl,NaOH,MAKE

8、UP SYSTEM FLOW DIAGRAM,H.E.,U.V.,SF,RO,RO,Tank,SB-P,N2,Degasifier,From Pretreatment System,To Polishing System,Note:,U.V.:,Ultraviolet Lamp,SF:,Safety Filter(10m pore size),RO:,Reversed Osmosis,SB-P:,Strata Bed Polisher Ion Exchanger,(,Removed TOC),(,Removed DO),DO:,Dissolved Oxide,(,T=241),(Removed

9、 10,m size particle),(To Decompose,Bacteria),PF,PF:,Post Filter(1m pore size),(Removed 1,m size particle),(,Ionic Exchange),HCL,NaOH,POLISHING SYSTEM FLOW DIAGRAM,H.E.,U.V.,CP,UF,H.E.,U.V.,CP,MF,FAB,From Make up System,Note:,CP:,Cartridge Polisher Ion Exchanger,UF:,Ultra Filter(0.1m pore size),MF:,M

10、icro Filter(0.1m pore size),(,T=231),(,T=231),(,Ionic Exchange),(,Ionic Exchange),(Removed 0.1,m size particle),(Removed 0.1,m size particle),(To Decompose,Bacteria),(To Decompose,Bacteria),UPW,Tank,(UPWR),(DIWR),(DIWS),(UPWS),(UPWN),(DIWN),UPWS(or DIWS):,UPW(or DIW)Supply,UPWR(or DIWR):,UPW(or DIW)

11、Return(Avoidable increase Bacteria),UPWN(or DIWN):,UPW(or DIW)Net=UPWS-UPWR(or DIWS-DIWR),純 水,設 備 單 元 目 的,MMF,自動砂濾機,去 除 水 中 較 大 之 顆 粒,ACF,多層活性碳,除氯及吸附有機物增加RO壽命,自動軟水機,去除水中陽離子 避免 RO結垢,2B3T系統,去除水中離子降低導電度,RO系統,去除水中鹽類、有機物 及顆粒,達到水純化減低 MB,or,EDI負荷,MB,混床系統,去除水中剩餘之離子 穩定水質,EDI系統,去除水中剩餘之離子 穩定水質,UV殺菌機,殺死水中細菌,1m

12、過濾器,去 除 水 中 較 小 之 顆 粒,Plisher Resign,穩定水質 16,18M-CM 25,0.2,m 過濾器,過濾細菌及0.2,m,微細顆粒,UF SYSTEM,過濾細菌及0.05,m,微細顆粒,管路Loop的设计 根据整个FAB各User分布，UPW通过Loop送到各区域。管径应根据各区域用量进行计算。每个Loop和机台的,Take-off点都必须设supply和return,。整各Loop的,循环水量必须大于20%，防止细菌的滋生。,Loop供水和回水应安装流量计，两者之差即为该区域的用量。UF出口压力为0.50.6Mpa，Loop压力通过机械压力调节阀开度来控制。,L

13、oop供应压力通常控制在0.4Mpa左右。每个Loop的回水应设电阻率仪，Loop回水的电阻率小于15M.cm切去前处理,。回水总管设TOC仪，如有回水出现异常状况可手动切去前处理或废水处理系统。,金属管材,C.S-碳钢管,SGP-热镀锌钢管,S.S-不锈钢管,C.S/R.L-碳钢衬胶管,工业纯水制备系统中常用管材,非金属管材,PVC-聚氯乙烯,UPVC-改性聚氯乙烯,CPVC-氯化聚氯乙烯,PVDF-聚偏氟乙烯,PP聚丙烯,PE聚乙烯,PFA-偏聚二氟乙烯,纯水系统设计中管材的选用,预处理系统,SGP镀锌管道,C.S/R.L钢衬胶管道,UPVC管道,S.S不锈钢管道,初级处理系统(一级除盐)

14、,C.S/R.L钢衬胶管道,UPVC管道,CPVC管道,PP管道,纯水系统设计中管材的选用,终端处理系统(超纯水),CPVC管道,PP管道,PVDF管道,PFA管道,SS316L不锈钢管道,废水排放系统,PVC管道(含有腐蚀性液体),HT铸铁管道,C.S碳钢管道,UPVC与CPVC管道在使用中的区别,材料基体基本是一致的,UPVC 管道内壁为一般光滑，常用于普通纯水系统中,CPVC管道内壁为特殊处理，非常光滑，常用于纯水指标有Particle要求的系统中,UPVC管道在生产完成后直接进行包装出厂,CPVC管道在生产完成后进行洁净处理封装出厂,纯水处理系统中管道的设计,常用管道流速,介质,管道种类,允许流速（m/s）,介质,管道种类,允许流速（m/s）,盐溶液,压力管,12.4,稀碱液,12,污水,0.9,水,离心水泵进水管,0.51,浓酸,0.51,离心水泵出水管及压力水管,1.53,稀酸,12,虹吸管,0.81,浓碱液,0.51,Q&A,Slide 2007 by Hsieh,Pao-Nuan,謝謝！,