第九章-其他现代加工方法课件.ppt
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1、第一节 化学加工Chemical Machining,CHM 利用酸、碱或盐的溶液对工件材料的腐蚀溶解作用,以获得所需形状、尺寸或表面状态的工件的特种加工 应用: 化学铣切 光化学腐蚀 化学抛光 化学镀膜一、化学铣切Chemical Milling,CHM (一)化学铣切的原理、特点、应用范围 1、原理:大面积、深尺寸的化学蚀刻 2、特点 优点: 加工任何难切削金属 适于大面积加工、多件加工 加工中无应力、裂纹、毛刺,Ra2.5-1.5 加工操作技术简单 2、特点 缺点 不适宜加工窄而深的槽和型孔,难以加工出尖角或深槽 原材料中缺陷和表面不平度、划痕等不易消除 腐蚀液对设备和人体有危害、不环保
2、 化学铣削不适合于加工疏松的铸件和焊接的表面 不高,一般为0.050.15毫米 3、应用范围 化学铣削适合于在薄板、薄壁零件表面上加工出浅的凹面和凹槽 如飞机的整体加强壁板、蜂窝结构面板、蒙皮和机翼前缘板等。 用于减小锻件、铸件和挤压件局部尺寸的厚度,以及蚀刻图案等,加工深度一般小于13毫米。 (二)、工艺过程 1、工件表面预处理、涂保护胶、固化、刻型、腐蚀、清洗和去保护层等工序 2、保护胶一般用氯丁橡胶或丁基橡胶等 3、刻型一般用小刀沿样板轮廓切开保护层,并使之剥除二、光化学腐蚀加工Optical Chemical Machining,OCM 照相复制和化学腐蚀相结合的技术,在工件表面加工出
3、精密复杂的凹凸图形,或形状复杂的薄片零件的化学加工法 包括光刻、照相制版、化学冲切(或称化学落料)和化学雕刻等 与化学蚀刻区别: 不用人工刻形、划线,用照相感光确定工件表面要蚀刻的图形(一)照相制版原理和工艺1、原理利用照相复制和化学腐蚀相结合的技术制取金属印刷版的化学加工方法光刻和化学雕刻等加工工艺的基础2、工艺过程过程:1)把所需文字和图像按要求缩放到底片上,再将底片贴合在涂有感光胶的金属板上进行曝光,经过显影在金属板上形成所需要文字或图像的感光胶膜2)对胶膜进行抗蚀性处理,使之成为一种有很强的耐酸碱性、有光泽的珐琅质薄层。3)再将金属板浸入硝酸或三氯化铁溶液中,无珐琅质胶膜的金属表面便被
4、腐蚀溶解,形成凸出的文字或图像的印刷版(二)光刻加工的原理和工艺1.原版制作原版制作2.光刻光刻涂胶涂胶暴光暴光显影与烘片显影与烘片刻蚀刻蚀剥膜与检查剥膜与检查光学光刻原理与印像片相 同 , 只 是用 涂 覆 了 感光胶(抗蚀剂)的硅片取代了 相 纸 , 掩模 版 取 代 了底片。UV光光母板母板掩膜掩膜光刻胶光刻胶SiO2光刻胶光刻胶SiO2 曝光:将掩模覆盖在涂有光刻胶的硅片上,曝光:将掩模覆盖在涂有光刻胶的硅片上,掩模相当于照相底片,一定波长的光线通过掩模相当于照相底片,一定波长的光线通过这个这个“底片底片”,使光刻胶获得与掩模图形同,使光刻胶获得与掩模图形同样的感光图形。样的感光图形。
5、 显影与后烘:曝光之后进行显影、定影、坚显影与后烘:曝光之后进行显影、定影、坚膜等步骤,在光刻胶膜上有的区域被溶解掉膜等步骤,在光刻胶膜上有的区域被溶解掉,有的区域保留下来,形成了版图图形。,有的区域保留下来,形成了版图图形。 刻蚀:把经曝光、显影后光刻胶微图形中下刻蚀:把经曝光、显影后光刻胶微图形中下层材料的裸露部分去掉,即在下层材料上重层材料的裸露部分去掉,即在下层材料上重现与光刻胶相同的图形。现与光刻胶相同的图形。 光刻工艺图示光刻工艺图示 涂光刻胶涂光刻胶 曝光曝光 显影与后烘显影与后烘 腐蚀腐蚀 剥胶剥胶 光刻加工过程光刻加工过程第二节 等离子加工Plasma Arc Machini
6、ng,PAM一、基本原理 1、等离子体: 高温电离的气体 气体原子或分子在高温下获得能量后离解成带正电荷的离子和带负电的自由电子 整体正负电荷数值相等2、等离子弧加工 利用电弧放电使气体电离成过热的等离子气体流束,靠局部熔化及气化来去除材料精密等离子弧切割割嘴原理a)普通双气等离子弧切割 b)精密等离子弧切割第三节 挤压珩磨 又称为流动磨料加工,主要用于复杂零件内外表面的抛光及去毛刺。 采用一种含有磨料的具有粘弹性的物质做为挤压珩磨介质,在一定压力下强迫在被加工表面流过,由磨料颗粒的刮削作用去除工件表面微观不平材料的加工方法挤压珩磨应用q 工作原理:q 加工装置q 喷嘴材料及工作条件 项目项目
7、 材料材料 孔径孔径/mm 至工件距离至工件距离/mm 喷射角度喷射角度/参数参数金刚石,蓝宝金刚石,蓝宝石,淬火钢石,淬火钢0.0750.42.550030利用超高压水(或水与磨料的混合液)对工件利用超高压水(或水与磨料的混合液)对工件进行切割(或打孔),又称高压水切割,或进行切割(或打孔),又称高压水切割,或“水刀水刀”。 数控设备控制下,进行任意图案切割;数控设备控制下,进行任意图案切割; 高压元件质量可靠,易损件质优价廉,维修成本低;高压元件质量可靠,易损件质优价廉,维修成本低; 钻孔及切割功能设备可一次完成,降低切割成本;钻孔及切割功能设备可一次完成,降低切割成本; 加工一次成型,切
8、口光滑,可节省时间及制造成本;加工一次成型,切口光滑,可节省时间及制造成本; 无毒害、无粉尘、无污染,为操作人员提供更健康的无毒害、无粉尘、无污染,为操作人员提供更健康的工作环境;工作环境; 切缝窄,可减少大量废弃材料的产生;切缝窄,可减少大量废弃材料的产生; 相对其它同类切割设备,加工成本低廉。相对其它同类切割设备,加工成本低廉。 根据设计及工件材质的不同,可以非常方便、快捷的根据设计及工件材质的不同,可以非常方便、快捷的进行调整,极大的缩短从接单至成品产出的时间,为进行调整,极大的缩短从接单至成品产出的时间,为您的企业带来更多的商机和更大的利润。您的企业带来更多的商机和更大的利润。 切割精
9、度切割精度: 0.051-0.254mm,0.051-0.254mm,取决于机器精度、切割取决于机器精度、切割工件大小及厚度。工件大小及厚度。 切割缝隙切割缝隙: 与工作材质大小厚薄和喷嘴有关。纯水与工作材质大小厚薄和喷嘴有关。纯水切割之切口约为切割之切口约为0.1-1.1mm0.1-1.1mm,磨料水混流切割之切口,磨料水混流切割之切口约为约为0.8-1.8mm0.8-1.8mm。磨料管的直径扩口,切口愈大。磨料管的直径扩口,切口愈大。 切割产生的斜边:切割产生的斜边: 取决于切割速度。好的切割品质取决于切割速度。好的切割品质单侧斜边为单侧斜边为0.076-0.102mm0.076-0.10
10、2mm。 应用:应用: 复杂曲线图案、厚、脆、易碎、怕热及多种复杂曲线图案、厚、脆、易碎、怕热及多种材质复合之材料。材质复合之材料。 高压水射流切割大理石高压水射流切割大理石高压水射流加工的零件高压水射流加工的零件钻削的钻削的0.8mm 孔孔切割切割7cm 厚不锈钢厚不锈钢微小零件铣削微小零件铣削第五节 磁性磨料研磨和磁性磨料电解研磨加工 通过在磁场作用下形成的磁流体使悬浮其中的非磁性磨粒能在磁流体的流动力和浮力作用下压向旋转的工件进行研磨和抛光,从而能提高精整加上的质量和效率 可以获得Ra0.01m的无变质层的加上表面,并能研抛复杂表面形状的工件。由于磁场的磁力线及由其形成的磁流体本身不直接
11、参与材料的去除故称之为磁场辅助加工1.磁性浮动抛光利用磁流体向强磁场方向移动,而非磁性磨粒被排斥向磁感应强度较弱的方向的特性,使悬浮于磁流体中的磨料分离出来富集在一起。磨料在磁浮力作用下,上浮压向运动的工件。1主轴 2驱动轴 3导向环 4磁流体和磨料 5橡胶环 6陶瓷球 7浮体 8铝座 9磁铁 10钢磁轭2.磁性磨料精整加工 磁性磨料在磁极N-S之间沿着磁力线有序地相互链接在一起,聚集成一层弹性的磁性磨料刷,当工件与它作相对运动时,就进行研抛加工微弧阳极氧化微弧阳极氧化 微弧阳极氧化是将铝及铝合金零件置于溶液中,在电微弧阳极氧化是将铝及铝合金零件置于溶液中,在电极间施加高电压,使其表面微孔中产
12、生火花或微弧放电,极间施加高电压,使其表面微孔中产生火花或微弧放电,从而生成氧化铝陶瓷膜层的新技术。微弧阳极氧化又称阳从而生成氧化铝陶瓷膜层的新技术。微弧阳极氧化又称阳极脉冲陶瓷化、阳极火花沉积或微等离子体氧化。极脉冲陶瓷化、阳极火花沉积或微等离子体氧化。 第六节 铝合金微弧氧化表面陶瓷化处理技术1特点和应用特点和应用 铝及铝合金微弧阳极氧化与硬质阳报氧化相比,无论在氧铝及铝合金微弧阳极氧化与硬质阳报氧化相比,无论在氧化工艺上或膜层性能上都有许多优越之处。微弧氧化的工艺化工艺上或膜层性能上都有许多优越之处。微弧氧化的工艺流程简单,除油后即可氧化;适用范围广,除铝及铝合金、流程简单,除油后即可氧
13、化;适用范围广,除铝及铝合金、铝基复合材料外,还能在钛、镁、锆、钽、铌等金属及其合铝基复合材料外,还能在钛、镁、锆、钽、铌等金属及其合金表面生成氧化陶瓷层;氧化速度快,通常金表面生成氧化陶瓷层;氧化速度快,通常30min60min可可取得膜层厚度取得膜层厚度50 m ;溶液无侵蚀性,对环境基本无污染。;溶液无侵蚀性,对环境基本无污染。 微弧阳极氧化形成的陶瓷膜层具有伏良的综合性能:微弧阳极氧化形成的陶瓷膜层具有伏良的综合性能: (1) 耐蚀性能高,经耐蚀性能高,经5NaCl中性盐雾腐蚀试验,其耐蚀能中性盐雾腐蚀试验,其耐蚀能力达力达1000h以上。以上。 (2) 硬度高,耐磨性好,膜层硬度高达
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