改进的挥硅-ICP-MS法测定高纯四氯化硅中金属杂质.docx

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1、文档word格式，可根据实际情况编辑修改改进的挥硅-ICP-MS法测定高纯四氯化硅中金属杂质改进的挥硅-ICP-MS法测定高纯四氯化硅中金属杂质郭峰;谭红;何锦林;谢锋;曾广铭;宋光林【期刊名称】福建分析测试【年(卷),期】2006(015)004【摘要】本文对钛厂回收副产物高纯四氯化硅中的9种金属杂质进行了测定.采用密封针管取样,转移塑料挥气瓶中,恒温水浴锅控制温度(57)通入干燥惰性气体(N2),在塑料挥气瓶挥去基体四氯化硅,富集的金属加入硝酸转变成溶液后定容,用电感耦合等离子质谱法(ICP-MS)直接测定其中Pb、Zn、Mn等9种微量金属杂质.用Rh做内标元素补偿基体效应和灵敏度漂移.样

2、品的加标回收率为%,相对标准偏差(RSD)为%,检出限为g/L.【总页数】3页(7-9)【关键词】高纯四氯化硅;ICP-MS;金属杂质【作者】郭峰;谭红;何锦林;谢锋;曾广铭;宋光林【作者单位】贵州大学,贵州,贵阳,550001;贵州省理化分析测试研究中心,贵州,贵阳,550001;贵州省理化分析测试研究中心,贵州,贵阳,550001;贵州省理化分析测试研究中心,贵州,贵阳,550001;贵州省理化分析测试研究中心,贵州,贵阳,550001;贵州大学,贵州,贵阳,550001;贵州省理化分析测试研究中心,贵州,贵阳,550001;贵州大学,贵州,贵阳,550001;贵州省理化分析测试研究中心,贵州,贵阳,550001【正文语种】中文【中图分类】2精选文档