2022年实验三-霍尔效应法测量半导体的载流子浓度-电导率和迁移.docx
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1、精品学习资源试验三 霍尔效应法测量半导体的载流子浓度、欢迎下载精品学习资源一、试验目的电导率和迁移率欢迎下载精品学习资源磁其中 e 为载流子电子电量,感V 为载流子在电流方向上的平均定向漂移速率,应强度B 为;无论载流子是正电荷仍是负电荷,Fg 的方向均沿Y 方向, 在此力的作用下, 载流子发生便移,就在Y 方向即试样 A、A电极两侧就开头聚积异号电荷而在试样A、A两侧产生一个电位差 VH,形成相应的附加电场E霍尔电场, 相应的电压VH 称为霍尔电压, 电极A、A称为霍尔电极;电场的指向取决于试样的导电类型;N 型半导体的多数载流子为电子,P 型半导体的多数载流子为空穴;对 N型试样, 霍尔电
2、场逆 Y 方向, P 型试样就沿 Y 方向,有明显,该电场是阻挡载流子连续向侧面偏移,试样中载流子将受一个与Fg方向相反的横向电场力:1. 明白霍尔效应试验原理以及有关霍尔元件对材料要求的学问;2. 学习用“对称测量法”排除副效应的影响,测量并绘制试样的VH IS 和VH IM 曲线;3确定试样的导电类型、载流子浓度以及迁移率;二、试验原理霍尔效应从本质上讲是运动的带电粒子在磁场中受洛仑兹力作用而引起的偏转;当带电粒子电子或空穴 被约束在固体材料中, 这种偏转就导致在垂直电流和磁场的方向上产生正负电荷的聚积, 从而形成附加的横向电场,即霍尔电场;对于图 1a所示的 N 型半导体试样,假设在X
3、方向的电极 D、 E 上通以电流 Is,在 Z 方向加磁场 B,试样中载流子电子将受洛仑兹力:其中 EH 为霍尔电场强度;欢迎下载精品学习资源FE 随电荷积存增多而增大,当到达稳恒状态时,两个力平稳,即载流子所受的横向电场力 e EH 与洛仑兹力 eVB 相等,样品两侧电荷的积存就到达平稳,故有设试样的宽度为b,厚度为 d,载流子浓度为n,就电流强度V Is 与的 关系为由 3、4两式可得即霍尔电压 VHA、A电极之间的电压与IsB 乘积成正比与试样厚度d 成反比;比例系数称为霍尔系数, 它是反映材料霍尔效应强弱的重要参数;依据霍尔效应制作的元件称为霍尔元件;由式5 可见,只要测出VH伏以及知
4、道Is安、B高斯和 d厘米可按下式运算RH;上式中的 10 8 是由于磁感应强度B 用电磁单位高斯而其它各量均采纳C、G、S 有用单位而引入;注:磁感应强度B 的大小与励磁电流IM 的关系由制造厂家给定并标明在试验仪上;霍尔元件就是利用上述霍尔效应制成的电磁转换元件,对于成品的霍尔元件, 其 RH 和d已知,因此在实际应用中式5常以如下形式显现:. .= .7 欢迎下载精品学习资源. = . =1称为霍尔元件灵敏度其值由制造厂家给出,其中比例系数它表示该器欢迎下载精品学习资源.欢迎下载精品学习资源件在单位工作电流和单位磁感应强度下输出的霍尔电压;Is 称为掌握电流;7 式中的单位取 Is 为
5、mA 、B 为 KGS、VH 为 mV ,就 KH 的单位为mV/ mA KGS;KH 越大,霍尔电压VH 越大,霍尔效应越明显;从应用上讲,KH 愈大愈好;KH 与载流子浓度n 成反比,半导体的载流子浓度远比金属的载流子浓度小,因此用半导体材料制成的霍尔元件,霍尔效应明显, 灵敏度较高, 这也是一般霍尔元件不用金属导体而用半导体制成的缘由;另外, KH 仍与 d 成反比, 因此霍尔元件一般都很薄;本试验所用的霍尔元件就是用N型半导体硅单晶切薄片制成的;由于霍尔效应的建立所需时间很短约10-12 10-14s ,因此使用霍尔元件时用直流电或沟通电均可;只是使用沟通电时,所得的霍尔电压也是交变的
6、,此时,式7中的 Is 和 VH 应懂得为有效值;依据 RH 可进一步确定以下参数1. 由 RH 的符号或霍尔电压的正、负判定试样的导电类型A 判定的方法是按图 1所示的 Is 和 B 的方向, 假设测得的 VH VAA 0,即点 A 的电位低于点A的电位就 RH 为负,样品属N 型,反之就为P 型;2. 由 RH 求载流子浓度n欢迎下载精品学习资源由比例系数 . =1.得.1.= |.| .;.欢迎下载精品学习资源应当指出,这个关系式是假定全部的载流子都具有相同的漂移速率得到的,严格一点, 考虑载流子的漂移速率听从统计分布规律,需引入 3 /8 的修正因子 可参阅黄昆、谢希德著半导体物理学;
7、但影响不大,本试验中可以忽视此因素;3. 结合电导率的测量,求载流子的迁移率电导率与载流子浓度n 以及迁移率 之间有如下关系: n e 8欢迎下载精品学习资源由比例系数 . =1.得. , |RH| ,通过试验测出值即可求出 ;欢迎下载精品学习资源依据上述可知,要得到大的霍尔电压,关键是要挑选霍尔系数大即迁移率 高、电阻率 亦较高的材料;因 |RH|,就金属导体而言, 和 均很低,而不良导体 虽高,但 微小,因而上述两种材料的霍尔系数都很小, 不能用来制造霍尔器件; 半导体 高, 适中,是制造霍尔器件较抱负的材料,由于电子的迁移率比空穴的迁移率大,所以霍尔器件都采纳 N 型材料,其次霍尔电压的
8、大小与材料的厚度成反比,因此薄膜型的霍尔器件的输出电压较片状要高得多; 就霍尔元件而言, 其厚度是肯定的, 所以有用上采纳来表示霍尔元件的灵敏度, KH 称为霍尔元件灵敏度,单位为 mV/ mA T 或 mV/ mA KGS ;1欢迎下载精品学习资源三、试验仪器.= 9 .欢迎下载精品学习资源1. TH H 型霍尔效应试验仪,主要由规格为2500GS/A电磁铁、 N 型半导体硅单晶切薄片式样、样品架、IS 和 IM 换向开关、 VH 和 V即 VAC测量挑选开关组成;2. TH H 型霍尔效应测试仪,主要由样品工作电流源、励磁电流源和直流数字毫伏表组成;四、试验方法1. 霍尔电压 VH 的测量
9、应当说明, 在产生霍尔效应的同时, 因相伴着多种副效应, 以致试验测得的A 、A 两电极之间的电压并不等于真实的VH 值,而是包含着各种副效应引起的附加电压,因此必需设法排除;依据副效应产生的机理参阅附录可知,采纳电流和磁场换向的对称测量法,基本上能够把副效应的影响从测量的结果中排除,详细的做法是Is 和 B即 lM 的大小不变, 并在设定电流和磁场的正、 反方向后, 依次测量由以下四组不同方向的Is 和 B 组合的 A、A两点之间的电压 V1、V2 、V3、和 V4 ,即+Is+BV1+Is-BV2-Is-BV3-Is+BV4然后求上述四组数据V1、V2、V3 和 V4 的代数平均值,可得:
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