FPC塑胶基板之真空镀膜技术及其应用技术 .docx
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1、精品名师归纳总结塑膠基板之真空鍍膜技術及其應用Recent Trends in Vacuum Coating Technology on a Plastic Substrate作者:邱大偉 黃佩服可编辑资料 - - - 欢迎下载精品名师归纳总结在塑膠基板具輕、薄、耐衝擊及可撓曲的優勢下,取代玻璃基板應用於各種光學鍍膜及導電膜製鍍是未來發展之趨勢。但塑膠基板上在鍍膜上也遭受到一些瓶頸待克服,如薄膜附著性、低溫鍍膜所造成膜質不佳等問題。本文旨將針對在塑膠基板上製鍍各種薄膜之技術,包含光學級塑膠基板選擇、鍍膜前處理及表面改質、各種鍍膜製程及其應用的近況做一簡單介紹。More attentionsar
2、e being givento pPlastic baseddevices havereceivedincreasing attention because of owing to their potential properties such as lightweight, thin, flexible and highimpact resistance on the applications of integrated circuits IC and flat panel displays. Nowadays the Current demands on the flexible devi
3、ces are more robust, high-thermal enduring that could be suitable appropriate for various kind of vacuum coating processes. This paperwill illustratearticle describes the applications of vacuum coating technology on a plastic substrate. ThatExactly how to select a moderately plastic substrate for th
4、e vacuum coating purpose, pre-treatment of plastic substrate and various of coating process are is also discussed in this paper.一、前言未來塑膠基板取代玻璃基板成為次世代顯示器材料是可期的。因為塑膠基板擁有較玻璃基板之輕、薄、耐衝擊、可捲曲等優勢,可應用於許多可攜式及穿戴式顯示裝置,以提高使用壽命並增加使用範圍。目前塑膠基板鍍膜在光電產業的應用有: 一透亮導電薄膜 Transparent Con-ductive Film:利用塑膠基材的特性 ,鍍上透亮導電膜作為電極,
5、應用於觸控式面板螢幕 、液晶顯示面板 LCD panel 、有機發光二極體OLED 、電子書 e-book等,可增加產品的競爭力。除了更輕更薄外,可撓曲的基板優點更是未來被光電產業應用所吸引的主因。 二抗反射防靜電薄膜Anti-reflection/ Anti-static:抗反射膜能增加對比、降低反射並增加穿透率,同時經由膜層的設計,尚能有抗靜電、耐污、防紫外線照射破壞的功能。以往將抗反射膜鍍於玻璃上的需求已明顯降低,取而代之的是在鍍於塑膠基材如偏光板、 lightguide 等,以增加產品的功能性。 三表面硬化膜 hard coating:Hard Coating也是塑膠基板鍍膜的應用之一
6、,對於表面硬度不足的塑膠基材而言,鍍上hard coating, 如類鑽石膜 DiamondLikeCarbon 等,能大幅增加塑膠基材表面的硬度,增加產品的使用壽命。產品的應用如:觸控面板、偏光板、各式塑膠型顯示器等。 四光儲存:可编辑资料 - - - 欢迎下载精品名师归纳总结如 CD-R、 DVD-R等在 polycarbonate PC基板上製鍍反射層。 五其他:其他塑膠基板鍍膜之產品應用方面尚有如,在PI Polyimide膜上鍍上 Cu 薄膜以作為製鍍銅箔的導電電極,此為 FPCFlexiblePrintCircuit的製程之基板材料。另外如switchingglazing 圖一 、
7、optical filter以及降低水氧氣滲透所製鍍的阻絕層等,均是能利用塑膠基板以鍍膜方式增加其功能性所發展出來的用途。二、光電產業所需之塑膠基板特性基板在整個光電產業應用中所佔的成本比例雖不高,但卻影響整體產品性能甚鉅。因此,選擇與產品匹配度最高的塑膠基板是各廠家要跨進塑膠基板鍍膜首要面臨的課題,基本上塑膠基材的選擇其中有幾個大方向是不變的,光電、顯示器產業應用需考量較高的穿透率、其他如堅固不易碎的物理性質、基材尺寸較不易受外力影響而改變、較平整的表面 、較低的水氧氣透過率等等,當然價格也是主要考量的因素。 表一 是目前常用的塑膠基材材料特性表。其中O-PET目前常應用於觸控式螢幕中透亮導
8、電膜ITO film、EL Emitting Light以及可撓曲式面板的應用。PC則常應用於光儲存媒介產品,以上兩種皆 是價格較低廉的塑膠基材適合用於大量且價格低廉的產品。PES由於有著較高的Tg 值,能用於較高溫的製程,目前 Sharp 公司已於 1999 年開發出以 PES為基材之 plastic LCD面板,其重量與玻璃基板比較下,約減少了24%。ARTON與 COC均有較高的穿透率92%及較高的耐熱溫度Tg可高於 170以上,是蠻適合發展的材料,惟其價格昂貴 ,目前僅見於高單價的產品如光通訊和光儲存用件、lightguide 等。在台灣廠商以價格取向的競爭策略下,唯有待其經濟規模開出
9、访價格降低,方能符合其他產品的生產效益。另外新日鐵Nippon Steel Chemical開發出以 Acrylic及 Epoxy 為 base 的塑膠基板,其Tg 值可達 400 ,但價格仍是一道高門檻。可编辑资料 - - - 欢迎下载精品名师归纳总结三、塑膠基材鍍膜之前處理與表面改質塑膠基材在大氣下較玻璃基板易吸附水氣,因此在鍍膜過程中會因真空環境及受熱的關係而有釋氣outgas的現象。釋氣會造成鍍膜時成膜氣氛的不穩定,使得鍍膜製程參數不易把握。為了將釋氣的影響減至最低,在鍍膜前要先將塑膠基材內所含的氣體大部分釋放出來, 圖二 為捲式塑膠基材釋氣設備。其利用溫度與溼度的把握,將基材所吸附的
10、氣體釋放出來,且有安定塑膠基材尺寸的功能,使基材再經過往後鍍膜製程或其他加熱程序時尺寸不易產生變化。r塑膠基材表面改質的目的在於清潔基材表面、增加基材尺寸的安定性、強化鍍膜時基材與薄膜之間的附著性、增加基材表面的硬度、或是形成一降低水氧氣滲透的阻絕層等。常見的處理方式有紫外光臭氧處理 UV-Ozone treatment、電漿法 plasma treatment、電暈法 corona discharge、離子束轟擊Ion Beam Bombardment等。可编辑资料 - - - 欢迎下载精品名师归纳总结紫外光臭氧處理其主要功能除了清潔基材表面的污染物質外,尚能利用於 OLED製程中提昇 IT
11、O 透亮導電膜表面之功函數,對於元件的發光效率及亮度有顯著的影響。業界目前尚有發展出Excimer UV 光照射法 圖三 ,其優點為所發出之紫外光的波長範圍窄,屬於單一短波長型態 monochromatic 可於大氣下進行連續性處理,不產生高溫且處理成效佳,設備簡單,其缺點是 Excimer UV光燈管壽命有限 約9001,500 小時 ,需考慮汰換成本。 Plasma Treatment 其優點為可連續性大面積處理且成效佳,利用通入氣體的不同可做不同的表面處理,缺點是須於真空下進行,且設備成本昂貴,且須考慮到與現有鍍 膜設備之相容性。 Corona Discharge優點為方法簡單,亦可於大
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