材料现代分析方法试题(共6页).doc
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1、精选优质文档-倾情为你奉上材料现代分析方法试题 一、基本概念题(共 10题,每题 5分) 1什么是光电效应?光电效应在材料分析中有哪些用途? 2当波长为的X射线在晶体上发生衍射时,相邻两个(hkl)晶面衍射线的波程差是多少?相邻两个HKL干涉面的波程差又是多少? 3测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成 30 0角,则计数管与入射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面是何种几何关系? 4宏观应力对 X射线衍射花样的影响是什么?衍射仪法测定宏观应力的方法有哪些? 5薄膜样品的基本要求是什么? 具体工艺过程如何? 双喷减薄与离子减薄各适用于制备什么样品? 6图说明衍衬成像原
2、理,并说明什么是明场像、暗场像和中心暗场像。 7说明透射电子显微镜成像系统的主要构成、安装位置、特点及其作用。 8何为晶带定理和零层倒易截面? 说明同一晶带中各晶面及其倒易矢量与晶带轴之间的关系。 9含苯环的红外谱图中,吸收峰可能出现在哪4个波数范围? 10陶瓷纳米/微米颗粒的红外光谱的分析样品该如何制,为什么? 二、综合及分析题(共 5题,每题 10分) 1请说明多相混合物物相定性分析的原理与方法? 2对于晶粒直径分别为100,75,50,25nm的粉末衍射图形,请计算由于晶粒细化引起的衍射线条宽化幅度 B(设=450,=0.15nm)。对于晶粒直径为25nm的粉末,试计算=100、450、
3、800时的B 值。 3二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相同与不同之处? 4何为波谱仪和能谱仪?说明其工作的三种基本方式及其典型应用,并比较波谱仪和能谱仪的优缺点。要分析钢中碳化物成分和基体中碳含量,应选用哪种电子探针仪? 为什么? 5分别指出谱图中标记的各吸收峰所对应的基团? 材料现代分析方法试题 (参考答案) 一、基本概念题(共 10题,每题 5分) 1什么是光电效应?光电效应在材料分析中有哪些用途? 答:光电效应是指:当用 X射线轰击物质时 ,若 X射线的能量大于物质原子对其内层电子的束缚力时,入射X射线光子的能量就会被吸收,从而导致其内层电子被激发,产生光电子。材料分析中
4、应用光电效应原理研制了光电子能谱仪和荧光光谱仪,对材料物质的元素组成等进行分析。 2什么叫干涉面?当波长为的X射线在晶体上发生衍射时,相邻两个(hkl)晶面衍射线的波程差是多少?相邻两个HKL干涉面的波程差又是多少? 答:晶面间距为d/n、干涉指数为nh、 nk、 nl的假想晶面称为干涉面。当波长为的X射线照射到晶体上发生衍射,相邻两个(hkl)晶面的波程差是 n,相邻两个(HKL)晶面的波程差是。 3测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成 30 0角,则计数管与入射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面是何种几何关系? 答:当试样表面与入射X射线束成30角时,计数管与
5、入射X射线束的夹角是600。能产生衍射的晶面与试样的自由表面平行。 4宏观应力对 X射线衍射花样的影响是什么?衍射仪法测定宏观应力的方法有哪些? 答:宏观应力对X射线衍射花样的影响是造成衍射线位移。衍射仪法测定宏观应力的方法有两种,一种是0-45法。另一种是sin 2 法。 5薄膜样品的基本要求是什么? 具体工艺过程如何? 双喷减薄与离子减薄各适用于制备什么样品? 答:样品的基本要求: 1)薄膜样品的组织结构必须和大块样品相同,在制备过程中,组织结构不变化; 2)样品相对于电子束必须有足够的透明度; 3)薄膜样品应有一定强度和刚度,在制备、夹持和操作过程中不会引起变形和损坏; 4)在样品制备过
6、程中不允许表面产生氧化和腐蚀。 样品制备的工艺过程 1) 切薄片样品 2) 预减薄 3) 终减薄 离子减薄: 1)不导电的陶瓷样品 2)要求质量高的金属样品 3)不宜双喷电解的金属与合金样品 双喷电解减薄: 1)不易于腐蚀的裂纹端试样 2)非粉末冶金试样 3)组织中各相电解性能相差不大的材料 4)不易于脆断、不能清洗的试样 6图说明衍衬成像原理,并说明什么是明场像、暗场像和中心暗场像。 答:设薄膜有 A、B两晶粒 内的某(hkl)晶面严格满足 Bragg条件,或 B 晶粒内满足“双光束条件”,则通过(hkl)衍射使入射强度I0分解为Ihkl和IO-Ihkl 两部分 A晶粒内所有晶面与Bragg
7、角相差较大,不能产生衍射。 在物镜背焦面上的物镜光阑,将衍射束挡掉,只让透射束通过光阑孔进行成像(明场),此时,像平面上 A和 B晶粒的光强度或亮度不同,分别为 IA I0 IB I0 - Ihkl ,B晶粒相对 A晶粒的像衬度为: 明场成像: 只让中心透射束穿过物镜光栏形成的衍衬像称为明场镜。 暗场成像:只让某一衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为暗场像。 中心暗场像:入射电子束相对衍射晶面倾斜角,此时衍射斑将移到透镜的中心位置,该衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为中心暗场成像。 7说明透射电子显微镜成像系统的主要构成、安装位置、特点及其作用。 答:主要由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜和投影
8、镜组成. 1)物镜:强励磁短焦透镜(f=1-3mm),放大倍数100300倍。 作用:形成第一幅放大像 2)物镜光栏:装在物镜背焦面,直径20120um,无磁金属制成。 作用:a.提高像衬度,b.减小孔经角,从而减小像差。C.进行暗场成像 3)选区光栏:装在物镜像平面上,直径20-400um, 作用:对样品进行微区衍射分析。 4)中间镜:弱压短透镜,长焦,放大倍数可调节020倍 .作用a.控制电镜总放大倍数。B.成像/衍射模式选择。 5)投影镜:短焦、强磁透镜,进一步放大中间镜的像。投影镜内孔径较小,使电子束进入投影镜孔径角很小。 小孔径角有两个特点: a. 景深大,改变中间镜放大倍数,使总倍
9、数变化大,也不影响图象清晰度。 b.焦深长,放宽对荧光屏和底片平面严格位置要求。 8何为晶带定理和零层倒易截面? 说明同一晶带中各晶面及其倒易矢量与晶带轴之间的关系。 答:晶体中,与某一晶向uvw平行的所有晶面(HKL)属于同一晶带,称为uvw晶带,该晶向uvw称为此晶带的晶带轴,它们之间存在这样的关系: 取某点 O*为倒易原点,则该晶带所有晶面对应的倒易矢(倒易点)将处于同一倒易平面中,这个倒易平面与 Z 垂直。由正、倒空间的对应关系,与 Z 垂直的倒易面为(uvw)*,即 uvw(uvw)*,因此,由同晶带的晶面构成的倒易面就可以用(uvw)*表示,且因为过原点 O*,则称为0层倒易截面(
10、uvw)*。 9含苯环的红外谱图中,吸收峰可能出现在哪4个波数范围? 答:3000-3100cm -1 ;1660-2000cm -1 ;1450-1600cm -1 ;650-900cm -1 10陶瓷纳米/微米颗粒的红外光谱的分析样品该如何制,为什么? 答:陶瓷纳米/微米颗粒与 KBr压片制备测试样品,也可采用红外光谱的反射式测试方法直接测试粉状样品。 二、综合及分析题(共 5题,每题 10分) 1请说明多相混合物物相定性分析的原理与方法? 答:多相分析原理是:晶体对 X 射线的衍射效应是取决于它的晶体结构的,不同种类的晶体将给出不同的衍射花样。假如一个样品内包含了几种不同的物相,则各个物
11、相仍然保持各自特征的衍射花样不变。而整个样品的衍射花样则相当于它们的迭合,不会产生干扰。这就为我们鉴别这些混合物样品中和各个物相提供了可能。关键是如何将这几套衍射线分开。这也是多相分析的难点所在。 多相定性分析方法 (1)多相分析中若混合物是已知的,无非是通过X射线衍射分析方法进行验证。在实际工作中也能经常遇到这种情况。 (2)若多相混合物是未知且含量相近。则可从每个物相的 3 条强线考虑,采用单物相鉴定方法。 1)从样品的衍射花样中选择 5 相对强度最大的线来,显然,在这五条线中至少有三条是肯定属于同一个物相的。因此,若在此五条线中取三条进行组合,则共可得出十组不同的组合。其中至少有一组,其
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