MOS-器件二次击穿行为的电路级宏模块建模剖析(共9页).doc

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1、精选优质文档-倾情为你奉上A Model of MOSFETs Second Breakdown Action in Circuit-LevelCUI Qiang1，HAN Yan1，LIU Jun-jie1,2，DONG Shu-rong1，SI Rui-jun11. Institute of Microelectronics and Photoelectronics, Zhejiang University, Hangzhou , China2. Department of Electrical and Computer Engineering, University of Central

2、 Florida, Orlando, FL 32816 USAAbstract: A method to exact the electrical parameters and model the second breakdown action of MOSFETs under ESD （Electro-Static Discharge） on circuit-level, using TCAD simulation, is presented. MOSFET is one of the most important ESD protection devices, and is widely

3、used as I/O protection device in integrated circuits. We present an accurate macro model of the MOSFET based on deep analyzing of the physical mechanism of the second breakdown, using TCAD simulation. This macro model owns fine convergency and accuracy which are of importance to the simulation of th

4、e ESD protection ability of the ESD protection network on circuit and system level.Keywords: MOS；second breakdown；circuit-level；macro block；modeling EEACC: 7230MMOS器件二次击穿行为的电路级宏模块建模崔强1，韩雁1，刘俊杰1,2，董树荣1,斯瑞珺11. 浙江大学微电子与光电子研究所，杭州，中国2. 中佛罗里达大学电机系，奥兰多32816，美国摘要：本文采用一种利用TCAD仿真提取MOS器件在静电放电现象瞬间大电流情况下的电学参数，对M

5、OS器件二次击穿行为进行电路级宏模块建模。MOS器件是一种重要的静电放电防护器件，被广泛地应用为集成电路输入输出口的静电保护器件。用TCAD仿真工具对MOS器件的二次击穿进行宏模块建模，该模型能够正确反映MOS器件二次击穿的深刻机理，具有良好的精确性和收敛性，这对在电路级以及系统级层面上仿真静电放电防护网络的抗静电冲击能力有重要意义。 关键词：MOS; 二次击穿；电路级；宏模块; 建模中图分类号：TN45 文献标识码：A 文章编号：MOS管器件是一种重要的静电放电防护器件，被广泛地应用为集成电路I/O口的静电保护器件。MOS管器件用于静电保护器件的时候需要将栅极，源极和衬底接地，漏极和I/O口

6、接同一电平。用MOS器件做ESD防护器件的时候，利用的是MOS管器件的雪崩击穿特性。栅极接地的MOS器件的外加偏压在一定值（触发电压）以下时，漏电流很小；而当外加偏压超过这个值后，MOS器件由于雪崩击穿导通泄放大电流，同时器件两端电压会回滞到某个电压值（维持电压），此时栅极接地的MOS管能够保护集成电路I/O口抵御静电冲击。如果静电电流继续上升到二次击穿电流值后，MOS器件会经历第二次击穿的现象。用来作为静电保护的MOS器件永久毁坏性的“二次击穿”行为的精确建模与深刻分析鲜见报道。本文将会介绍一种利用TCAD工具对MOS器件的电路级建模的方法。1 两次击穿的机理在经历ESD瞬态大电流情况下，如

7、果静电电流足够大，MOS管会有两次击穿现象，分别称之为“一次击穿”（雪崩击穿），和“二次击穿”（热电击穿）。MOS器件的“一次击穿”是由于漏极反偏PN结在强的反向偏压下势垒区的载流子和晶格原子发生碰撞，电流显著增大的物理机理。“二次击穿”则是由于漏极反偏PN结流过较大的反向电流产生大量的热，器件烧毁短路的物理现象。MOS管的“一次击穿”是可以恢复的，只要及时停止外部注入功率，MOS管不会永久损坏。135而“二次击穿”会造成 MOS器件的永久损坏。本文根据一次击穿和二次击穿的物理机理，用不同的模块搭建MOS管器件的电路级模型。1.1 雪崩击穿的机理MOS器件的“一次击穿”（雪崩击穿）可以用如图1

8、所示的宏模块来建模。雪崩电流Igen=（M-1）（Ic +Ids）；雪崩倍增因子M=exph1（vd-vd1）+ exph2（vd-vd2）；体电阻Rsub=R0 + R1 +R2，其中R1是漏极电阻，R2是MOS器件的沟道电阻，R3是器件的源极电阻；寄生BJT管采用Gummel-Pool模型；Rd代表该MOS器件的接触电阻。图1 雪崩击穿宏模块1.2 热电击穿的热源机理利用图2，图3所示的热源模型来对MOS管的二次击穿行为进行电路级宏模块建模。二次击穿的建模需要对进入二次击穿状态的器件端口的电学判决条件和二次击穿后的器件电学特性进行建模。电学判决条件的建模需要一个能够精确描述MOS管二次击穿

9、机理的模型。MOS管中的二次击穿主要原因是外界注入的强电流使漏极和阱区之间产生的温度积聚效应。当漏极和衬底间的区域由于温度升高产生的载流子越来越多，器件电阻率下降，这样将允许通过更大的电流，这反过来又会进一步提高器件温度。器件内部的强电流不会再均匀流过结区，而是会集中于一个小区域。小区域中的电流集中及其引起的加热将在器件内部形成热斑。当热斑的温度达到1688K时，MOS管将会熔化，漏极和衬底间的的结区将会彻底短路46-8。我们可以用黑箱热源模型来对进入二次击穿状态的电学判决条件进行建模2。这个修正的模型假设所有的功率集中在漏极和阱区之间的水平方向为b，立方体的上下方向长度为c，立方体的纵向深度

10、方向为a立方体内（如图3所示）。而器件内部最热点温度Tmax=T0+T，其中T0是器件的初始温度，T与P（t） 关系满足分段函数式14：P=abcCpTtt(0tc)（1）P=(tcttb)（2）P=4KaTlnt/t(tbtta)（3）b+2c/bP=(tta)（4）这里，K是热导率，Cp是比热，D是热扩散率（式5），是硅的密度，ta， tb， tc分别是三个时间常数（式68）。这样我们就能够计算出每个时刻下的最热点温度Tmax（t），以及计算出此时由于最热温度引起的热产生载流子nd。如果这个nd超过了器件的背景掺杂浓度，则说明了该ESD防护器件会进入热电失控状态。换算公式如式（9）所示。D

11、=K（5） Cpta=a2（6） 4Dt=b2b （7） 4Dt（8）c=c4D33n26.37710d=1.691019expTmaxT300 （9） max对二次击穿后的器件电学特性进行建模，主要是对高温下的热电阻的建模。可以利用TCAD工具对MOS器件设置一个特定的高温，仿真出MOS器件此时的电阻大小，将这个电阻率写入到“二次击穿”的热电阻模块中，可以在电路级层面上较为精确地描述MOS器件“二次击穿”之后的电阻。图2 NMOS器件结构图3 矩形热源黑箱模型2 电路级宏模块建模如图4所示，可以用一个标准单元库中的MOS管（100um宽），5个辅助寄生模块以及1个调节电阻来等效瞬间大电流情况

12、下4端口MOS管器件的击穿特性。调节电阻Rd用来等效MOS管结构的接触电阻。雪崩电流模块IGEN，雪崩电阻模块RSUB，和寄生三极管模块PBJT可以刻画出“一次击穿”（雪崩击穿）特性。热敏感失控行为模块Switch和热电阻模块Rthermal可以较为精确地仿真出“二次击穿”（热电击穿）的电学行为。图4 “二次击穿”宏模块电路图第一步，计算出MOS管内部的功率。V（Sin,Path0）=Nd0） begin V（Path,Path1）+0; I（Path,Path0）+0; end else begin V（Path,Path0）+0; I（Path,Path1）+0; end热电阻模块Rthe

13、rmal中描述热电击穿后MOS管结构电阻的VerilogA源代码如下：V（Ia,Ic）+0; V（Ra,Rc） + R0*I（Ra,Rc）+ V0;其中Ia，Ic作为热电阻的电流输入输出端，Ra，Rc是作为热电阻的电压端口，V0是MOS管的起始参考电压。雪崩电流模块IGEN，雪崩电阻模块RSUB，和寄生三极管模块PBJT可以利用现有的模型参数导入到VerilongA源代码中，这可以描述MOS管的“一次击穿”特性。在5个模块用VerilogA源代码编写好之后，建立相应的模块可以导入到Candence集成工具中建立电路级模型。3 结果与分析在搭建好MOS管宏模块电路级模型之后，可以用这个宏模块模型

14、来仿真ESD情况下的二次击穿行为。如图5所示，MOS管用作集成电路的输入输出I/O保护时通常栅极（Gate），源级（Source）以及体端（Body）接地，漏极（Drain）和输入输出I/O并联接在一起。直流电流源I2是用来扫描不同取值的ESD电流。图5 仿真电路在如图6所示的图中一次击穿的触发点电压7.49V，触发电流是1mA；器件触发回滞之后维持电压4.91V；二次击穿电流2.39A，二次击穿电压6.01V；二次击穿后的器件电压是955mV。“一次击穿”点触发电压值和维持电压值由雪崩电流模块IGEN中的雪崩因子M的表达式来决定，雪崩因子M的表达式可以通过实测数据或者TCAD仿真数据提取出来

15、。“一次击穿”点和“二次击穿”点之间维持电压状态的导通电阻值Ron由MOS管宏模块中的调节电阻Rd的取值决定。“二次击穿”点的电流电压值和热敏感失控行为模块Switch中该MOS管的空间尺寸以及该工艺下的漏极和P型阱的掺杂浓度有关。该宏模块模型参数的定义正确地反映了MOS管器件“二次击穿”行为的物理机理，仿真速度快，具有良好的精确性和收敛性。图6 Cadence软件中Spectre工具的仿真结果4 结论本文用TCAD仿真工具对MOS器件的“二次击穿”进行宏模块建模，该模型基于MOS器件 “二次击穿”的深刻机理，通过热敏感失控行为模块Switch和热电阻模块Rthermal描述MOS器件的“二次

16、击穿”行为。该宏模块电路级模型具有良好的精确性和收敛性，对在电路级以及系统级层面上仿真ESD防护网络的抗静电冲击能力有重要意义。参考文献1 X. Y. Zhang, Modeling and Characterization of SubstrateResistance for Deep Submicron ESD Protection Devices D.U.S.A:Stanford University, August 2002.2 Amerasekera A.,van Roozendaal L., Bruines J., andKuper F., Characterization and

17、 Modeling of Second Breakdown in NMOSTs for the Extraction of ESD-Related Process and Design Parameters J. IEEETransactions on Electro Devices, 1991, 38 （9）: 2161-2168.3 Ajith Amerasekera, Charvaka Duvvury, Warren Anderson,Horst Gieser, and Sridhar Ramaswamy, ESD in Silicon Integrated Circuits M, Ed

18、ition 2, JOHN WILEY and SONS ,2002: 350-3894 Javier A. Salcedo, Juin J. Liou, Zhiwei Liu, and James E.Vinson , TCAD Methodology for Design of SCR Devices for Electrostatic Discharge （ESD） Applications J, IEEE Trans. Electron Devices, 2007, 54 （54）: 822-832. 5 Tremouilles D., Bertrand G.,Bafleur M.,

19、Beaudoin F.,Perdu P., and Lescouzeres L., TCAD and SPICE modeling help solve ESD protection issues in analog CMOS technologyC, Microelectronics, 2002. MIEL 2002. 23rd International Conference on, 2: 749 -752. 6 Salamero C., Nolhier N., Gendron A., Bafleur M., BesseP. , and Zecri M., TCAD Methodology

20、 for ESD Robustness Prediction of Smart Power ESD Devices J, IEEE Trans. Device and Materials Reliability, 2006, 6（6）: 399-407.7 Amerasekera. A, Chatterjee. A, and Chang M.-C.,Prediction of ESD robustness in a process using 2D device simulationsC, Reliability Physics Symposium, 2: 161-167.8 Salamero

21、 C., Nolhier N., Bafleur M., and Besse P.,Efficient TCAD methodology for ESD failure current prediction of smart power ESD protection C, Proceeding of 7th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs, 2: 115118.作者简介崔强 1984年生，男，硕士研究生，主要研究方向是集成电路中ESD防护器件的设计及其建模。韩雁 1959年生，女，博士，浙江大学微电子与光电子研究所教授，博士生导师，主要研究方向是高压大功率IC技术，高精度数模混合IC设计研究，微纳米IC ESD防护技术研究。刘俊杰 1954年生，男，博士，美国中佛罗里达大学教授，浙江大学光彪讲座教授，IEEE电子器件分会副主席，IEE FELLOW， 博士生导师，主要研究方向是微纳米电子TCAD、RF器件建模及仿真、半导体制造和可靠性工程。专心-专注-专业