太阳能实验室设备配置.doc
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1、【精品文档】如有侵权,请联系网站删除,仅供学习与交流太阳能实验室设备配置.精品文档.一、太阳能实验室具体建设方案2.1、太阳能光伏电池片生产线清洗制绒甩干扩散刻蚀去磷硅玻璃清洗甩干PECVD丝网印刷高温烧结检测分选名称(厂家、型号)技术指标图片数量单价合计用途制绒清洗机可处理硅片尺寸:max156*156;化学药液加热:室温1003;清洁方式:超声清洗和溢流清洗。1手动清洗、手动配液,硅片表面制绒,多晶包含冷冻机甩干机可处理硅片直径:150;旋转速度:3002400r/min;氮气烘干。1甩干硅片表面的水珠扩散炉可配工艺管外径:28英寸;可配工艺管数量:14管/台;恒温区长度及精度:30012
2、50mm 80013000.5;工作温度范围:4001300;用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。1P 扩散和氧化工艺刻蚀机额定放片量: 200-500 片/批;适用加工硅片尺寸:125mmX125mm;156mmX156mm;反应室限真空:1pa;自动调节真空压力。1硅片周边刻蚀去磷硅玻璃清洗机用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化
3、前等工艺的清洗工作。1清洗硅片表面石英管清洗机对石英管吸收层进行腐蚀清洗,并且通过石英管的旋转作用,使石英管腐蚀层均匀, 通过在水槽中的清洗,使石英管表层污物清洗干净。酸洗排液注纯水溢流注水水洗排液1清洗扩散炉的石英管PECVD每管最大装片量:320片/舟(125*125) 52片/舟(156*156);工艺指标:片内3%,片间3%,批间3%;控制:全进口自动压力闭环调节系统,精准控制反应真空;40KHz AE高频电源;工艺舟软着陆;全数字式控制,完善安全的过程控制保护。用于淀积氮化硅减反射钝化膜丝网印刷机定位方式:视觉定位+光栅定位;印刷面积:Max.210210(mm); 网框尺寸:356
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