15--专题15--工艺流程综合题(十五)衡水中学疫情期间居家自学高三二轮复习 化学学案训练练习题.doc
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1、第(15)期 班级学号 姓名 专题十五:【工艺流程综合】练习题 编写: 校对: 日期:2.101【2019全国I】硼酸(H3BO3)是一种重要的化工原料,广泛应用于玻璃、医药、肥料等工艺。一种以硼镁矿(含Mg2B2O5H2O、SiO2及少量Fe2O3、Al2O3)为原料生产硼酸及轻质氧化镁的工艺流程如下:回答下列问题: 在95 “溶浸”硼镁矿粉,产生的气体在“吸收”中反应的化学方程式为。 “滤渣1”的主要成分有。为检验“过滤1”后的滤液中是否含有Fe3+离子,可 选用的化学试剂是。 根据H3BO3的解离反应:H3BO3 + H2OH+ + B(OH) 4,Ka=5.811010,可判断H3BO
2、3是 酸;在“过滤2”前,将溶液pH调节至3.5,目的是。 在“沉镁”中生成Mg(OH)2MgCO3沉淀的离子方程式为, 母液经加热后可返回工序循环使用。由碱式碳酸镁制备轻质氧化镁的方法是: 。2随着人们对硒的性质深入认识及产品硒的纯度提高,硒的应用范围越来越广。某科学小组以硫铁矿生产硫酸过程中产生的含硒物料(主要含S、Se、Fe2O3、CuO、ZnO、SiO2等)提取硒,设计流程如下:回答下列问题:“脱硫”时,测得脱硫率随温度的变化如图。随着温度的升高,脱硫率呈上升趋势,其原因是 。最佳温度是 。“氧化酸浸”中,Se转化成H2SeO3,该反应的离子方程式为 。 采用硫脲(NH2)2CS联合亚
3、硫酸钠进行“控电位还原”,将电位高的物质先还原,电位低的物质保留在溶液中,以达到硒与杂质金属的分离。下表是“氧化酸浸”液中主要粒子的电位。 控制电位在0.7401.511V范围内,在氧化酸浸液中添加硫脲,可选择性还原ClO2。该过程的还原反应(半反应)式为 。 为使硒和杂质金属分离,用亚硫酸钠还原时的最低电位应控制在 V。 粗硒的精制过程:Na2SO3浸出Se转化成硒代硫酸钠(Na2SeSO3)Na2S净化H2SO4酸化等步骤。 净化后的溶液中c(Na2S)达到0.026 molL1,此时溶液中的c(Cu2+)的最大值为 ,精硒中基本不含铜。Ksp(CuS)=1.31036 硒代硫酸钠酸化生成
4、硒的化学方程式为 。 对精硒成分进行荧光分析发现,精硒中铁含量为32 gg1,则精硒中铁的质量分数为: ,与粗硒中铁含量为0.89%相比,铁含量明显降低。3PbCl2是一种重要的化工原料,常用作制备铅黄等染料。工业生产中利用方铅矿(主要成分为PbS,含有FeS2等杂质)和软锰矿(主要成分为MnO2)制备PbCl2的工艺流程如下:已知:. PbCl2难溶于冷水,易溶于热水 . PbCl2(s) + 2Cl(aq)PbCl42(aq) H0 根据下图分析“浸取”过程的最佳反应条件是 。 “浸取”过程中盐酸与MnO2、PbS发生反应生成PbCl2的化学方程式为: 。 由于PbCl2难溶于冷水,容易附
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