最新半导体物理学-刘恩科幻灯片.ppt
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1、半导体器件半导体器件半导体物理学 教材教材:半导体物理学半导体物理学(第六版第六版),刘恩科等编著,刘恩科等编著,电子工业出版社电子工业出版社 参考书:参考书:半导体物理与器件半导体物理与器件(第三版),(第三版),Donald A.Neamen著,电子工业出版社著,电子工业出版社 半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体器件半导体中的电子状态半导体中的电子状态半导体中杂质和缺陷能级半导体中杂质和缺陷能级半导体中载流子的统计分布半导体中载流子的统计分布半导体的导电性半导体的导电性非平衡载流子非平衡载
2、流子pn结结金属和半导体的接触金属和半导体的接触半导体表面与半导体表面与MIS结构结构半导体物理学半导体器件半导体器件半导体的纯度和结构半导体的纯度和结构 纯度纯度极高,杂质1013cm-3 结构结构半导体器件半导体器件晶体结构晶体结构 单胞单胞对于任何给定的晶体,可以用来形成其晶体结构的对于任何给定的晶体,可以用来形成其晶体结构的最小单元最小单元注:注:(a)单胞无需是唯一的)单胞无需是唯一的 ( b)单胞无需是基本的)单胞无需是基本的半导体器件半导体器件晶体结构晶体结构 三维立方单胞三维立方单胞 简立方、简立方、 体心立方、体心立方、 面立方面立方半导体器件半导体器件金刚石晶体结构金刚石晶
3、体结构金刚石结构金刚石结构原子结合形式:共价键原子结合形式:共价键形成的晶体结构:形成的晶体结构: 构成一个正四构成一个正四面体,具有面体,具有 金金 刚刚 石石 晶晶 体体 结结 构构半导体器件半导体器件半半 导导 体体 有有: 元元 素素 半半 导导 体体 如如Si、Ge 金刚石晶体结构金刚石晶体结构半导体器件半导体器件半半 导导 体体 有有: 化化 合合 物物 半半 导导 体体 如如GaAs、InP、ZnS闪锌矿晶体结构闪锌矿晶体结构金刚石型 闪锌矿型半导体器件半导体器件练习练习1、单胞是基本的、不唯一的单元。(、单胞是基本的、不唯一的单元。( )2、按半导体结构来分,应用最为广泛的是、
4、按半导体结构来分,应用最为广泛的是( )。)。3、写出三种立方单胞的名称,并分别计算、写出三种立方单胞的名称,并分别计算单胞中所含的原子数。单胞中所含的原子数。4、计算金刚石型单胞中的原子数。、计算金刚石型单胞中的原子数。半导体器件半导体器件原子的能级原子的能级 电子壳层电子壳层 不同支壳层电子1s;2s,2p;3s,2p,3d; 共有化运动共有化运动半导体器件半导体器件+14 电子的能级是量子化的n=3n=3四个电子四个电子n=2n=28 8个电子个电子n=1n=12 2个电子个电子SiHSi原子的能级原子的能级半导体器件半导体器件原子的能级的分裂原子的能级的分裂 孤立原子的能级孤立原子的能
5、级 4个原子能级的分裂个原子能级的分裂 半导体器件半导体器件原子的能级的分裂原子的能级的分裂 原子能级分裂为能带原子能级分裂为能带 半导体器件半导体器件Si的的能带能带 (价带、导带和带隙价带、导带和带隙半导体器件半导体器件价带:价带:0K0K条件下被电子填充的能量的能带条件下被电子填充的能量的能带导带:导带:0K0K条件下未被电子填充的能量的能带条件下未被电子填充的能量的能带带隙:导带底与价带顶之间的能量差带隙:导带底与价带顶之间的能量差半导体的能带结构半导体的能带结构半导体器件半导体器件自由电子的运动自由电子的运动 微观粒子具有波粒二象性微观粒子具有波粒二象性 0pm u202pEm()(
6、 , )i K rtr tAe pKEhv半导体器件半导体器件半导体中电子的运动半导体中电子的运动 薛定谔方程及其解的形式薛定谔方程及其解的形式 2220( )()( )( )( )( )2V xV xsadxV xxExmdx( )( )( )()ikxkkkkxux euxuxna布洛赫波函数布洛赫波函数半导体器件半导体器件固体材料分成:固体材料分成:超导体、导体、半导体、绝缘体超导体、导体、半导体、绝缘体固体材料的能带图固体材料的能带图半导体器件半导体器件半导体、绝缘体和导体半导体、绝缘体和导体半导体器件半导体器件半导体的能带半导体的能带 本征激发本征激发 半导体器件半导体器件练习练习1
7、、什么是共有化运动?、什么是共有化运动?2、画出、画出Si原子结构图(画出原子结构图(画出s态和态和p态并注明该态并注明该能级层上的电子数)能级层上的电子数)3、电子所处能级越低越稳定。、电子所处能级越低越稳定。 ( )4、无论是自由电子还是晶体材料中的电子,他们、无论是自由电子还是晶体材料中的电子,他们在某处出现的几率是恒定不变的。在某处出现的几率是恒定不变的。 ( )5、分别叙述半导体与金属和绝缘体在导电过程中、分别叙述半导体与金属和绝缘体在导电过程中的差别。的差别。半导体器件半导体器件半导体中半导体中E(K)与)与K的关系的关系 在导带底部,波数在导带底部,波数 ,附近,附近 值很小,值
8、很小,将将 在在 附近泰勒展开附近泰勒展开 220021( )(0)()().2kkdEd EE kEkkdkdk0k k( )E k0k 22021( )(0)()2kd EE kEkdk半导体器件半导体器件半导体中半导体中E(K)与)与K的关系的关系22021( )(0)()2kd EE kEkdk令令 代入上式得代入上式得2022*11()knd Edkm22*( )(0)2nkE kEm半导体器件半导体器件自由电子的能量自由电子的能量 微观粒子具有波粒二象性微观粒子具有波粒二象性 0pm u202pEm()( , )i K rtr tAe pKEhv2202kEm半导体器件半导体器件半
9、导体中电子的平均速度半导体中电子的平均速度 在周期性势场内,电子的平均速度在周期性势场内,电子的平均速度u可表示可表示为波包的群速度为波包的群速度 dvudk1 dEudk22*( )(0)2nh kE kEm*nkumEhv半导体器件半导体器件自由电子的速度自由电子的速度 微观粒子具有波粒二象性微观粒子具有波粒二象性 0pm u202pEm()( , )i K rtr tAe pKEhv0kum半导体器件半导体器件半导体中电子的加速度半导体中电子的加速度 半导体中电子在一强度为半导体中电子在一强度为 E的外加电场作用的外加电场作用下,外力对电子做功为电子能量的变化下,外力对电子做功为电子能量
10、的变化dEfdsfudt1 dEudkf dEdEdtdkdkfdt 2222211()duddEd E dkf d Eadtdt dkdkdtdk半导体器件半导体器件半导体中电子的加速度半导体中电子的加速度令令 即即2*2211nd Emdk*nfam2*22nmd Edk半导体器件半导体器件有效质量的意义有效质量的意义 自由电子只受外力作用;半导体中的电子自由电子只受外力作用;半导体中的电子不仅受到外力的作用,同时还受半导体内不仅受到外力的作用,同时还受半导体内部势场的作用部势场的作用 意义:有效质量概括了半导体内部势场的意义:有效质量概括了半导体内部势场的作用,使得研究半导体中电子的运动
11、规律作用,使得研究半导体中电子的运动规律时更为简便(有效质量可由试验测定)时更为简便(有效质量可由试验测定)半导体器件半导体器件空穴空穴 只有非满带电子才可导电只有非满带电子才可导电 导带电子和价带空穴具有导电特性;电子导带电子和价带空穴具有导电特性;电子带负电带负电-q(导带底),空穴带正电(导带底),空穴带正电+q(价(价带顶)带顶)半导体器件半导体器件K空间等能面空间等能面 在在k=0处为能带极值处为能带极值22*( )(0)2nkE kEm22*( )(0)2pkE kEm 导带底附近导带底附近价带顶附近价带顶附近半导体器件半导体器件K空间等能面空间等能面 以以 、 、 为坐标轴构成为
12、坐标轴构成 空间,空间, 空间空间任一矢量代表波矢任一矢量代表波矢 导带底附近导带底附近xk2222xyzkkkkykzkkkk2222*( )(0)()2xyznE kEkkkm半导体器件半导体器件K空间等能面空间等能面 对应于某一对应于某一 值,有许多组不同的值,有许多组不同的 ,这些组构成一个封闭面,这些组构成一个封闭面,在着个面上能量值为一恒值,这个面称在着个面上能量值为一恒值,这个面称为等能量面,简称等能面。为等能量面,简称等能面。 等能面为一球面(理想)等能面为一球面(理想)( )E k(,)xyzk kk2222*( )(0)()2xyznE kEkkkm半导体器件半导体器件半导
13、体中的电子状态半导体中的电子状态半导体中杂质和缺陷能级半导体中杂质和缺陷能级半导体中载流子的统计分布半导体中载流子的统计分布半导体的导电性半导体的导电性非平衡载流子非平衡载流子pn结结金属和半导体的接触金属和半导体的接触半导体表面与半导体表面与MIS结构结构半导体物理学半导体器件半导体器件与理想情况的偏离与理想情况的偏离 晶格原子是振动的晶格原子是振动的 材料含杂质材料含杂质 晶格中存在缺陷晶格中存在缺陷点缺陷(空位、间隙原子)点缺陷(空位、间隙原子)线缺陷(位错)线缺陷(位错)面缺陷(层错)面缺陷(层错)半导体器件半导体器件与理想情况的偏离的影响与理想情况的偏离的影响 极微量的杂质和缺陷,会
14、对半导体材料极微量的杂质和缺陷,会对半导体材料的物理性质和化学性质产生决定性的影的物理性质和化学性质产生决定性的影响,同时也严重影响半导体器件的质量。响,同时也严重影响半导体器件的质量。1个个B原子原子/ 个个Si原子原子 在室温下电导率提高在室温下电导率提高 倍倍Si单晶位错密度要求低于单晶位错密度要求低于5103103210 cm半导体器件半导体器件与理想情况的偏离的原因与理想情况的偏离的原因 理论分析认为,杂质和缺陷的存在使得理论分析认为,杂质和缺陷的存在使得原本周期性排列的原子所产生的周期性原本周期性排列的原子所产生的周期性势场受到破坏,并在禁带中引入了能级,势场受到破坏,并在禁带中引
15、入了能级,允许电子在禁带中存在,从而使半导体允许电子在禁带中存在,从而使半导体的性质发生改变。的性质发生改变。半导体器件半导体器件硅、锗晶体中的杂质能级硅、锗晶体中的杂质能级例:如图所示为一晶格常数为例:如图所示为一晶格常数为a的的Si晶胞,求:晶胞,求: (a)Si原子半径原子半径 (b)晶胞中所有)晶胞中所有Si原子占据晶胞的百分比原子占据晶胞的百分比解:(解:(a)1 13(3 )2 48raa(b)3348330.3416ra半导体器件半导体器件间隙式杂质、替位式杂质间隙式杂质、替位式杂质 杂质原子位于晶格原子间的间隙位置,杂质原子位于晶格原子间的间隙位置,该杂质称为该杂质称为间隙式杂
16、质间隙式杂质。间隙式杂质原子一般比较小,如间隙式杂质原子一般比较小,如Si、Ge、GaAs材料中的离子锂(材料中的离子锂(0.068nm)。)。 杂质原子取代晶格原子而位于晶格点处,杂质原子取代晶格原子而位于晶格点处,该杂质称为该杂质称为替位式杂质替位式杂质。替位式杂质原子的大小和价电子壳层结构替位式杂质原子的大小和价电子壳层结构要求与被取代的晶格原子相近。如要求与被取代的晶格原子相近。如、族元素在族元素在Si、Ge晶体中都为替位式杂质。晶体中都为替位式杂质。半导体器件半导体器件间隙式杂质、替位式杂质间隙式杂质、替位式杂质 单位体积中的杂质原子数称为杂质浓度单位体积中的杂质原子数称为杂质浓度半
17、导体器件半导体器件练习练习1、实际情况下、实际情况下k空间的等能面与理想情况下的等空间的等能面与理想情况下的等能面分别是如何形状的?它们之间有差别的原因?能面分别是如何形状的?它们之间有差别的原因?2、实际情况的半导体材料与理想的半导体材料有、实际情况的半导体材料与理想的半导体材料有何不同?何不同?3、杂质和缺陷是如何影响半导体的特性的?、杂质和缺陷是如何影响半导体的特性的?半导体器件半导体器件施主施主:掺入在半导体中的杂质原子,能够向半导体中提供导电的电子,:掺入在半导体中的杂质原子,能够向半导体中提供导电的电子, 并成为带正电的离子。如并成为带正电的离子。如SiSi中的中的P P 和和As
18、 As N型半导体型半导体As半导体的掺杂半导体的掺杂DEDECEVE施主能级施主能级半导体器件半导体器件受主受主:掺入在半导体中的杂质原子,能够向半导体中提供导电的空穴,:掺入在半导体中的杂质原子,能够向半导体中提供导电的空穴, 并成为带负电的离子。如并成为带负电的离子。如SiSi中的中的B BP型半导体型半导体B半导体的掺杂半导体的掺杂CEVEAEAE受主能级受主能级半导体器件半导体器件半导体的掺杂半导体的掺杂 、族杂质在族杂质在Si、Ge晶体中分别为受晶体中分别为受主和施主杂质,它们在禁带中引入了能主和施主杂质,它们在禁带中引入了能级;受主能级比价带顶高级;受主能级比价带顶高 ,施主能级
19、,施主能级比导带底低比导带底低 ,均为浅能级,这两种,均为浅能级,这两种杂质称为浅能级杂质。杂质称为浅能级杂质。 杂质处于两种状态:中性态和离化态。杂质处于两种状态:中性态和离化态。当处于离化态时,施主杂质向导带提供当处于离化态时,施主杂质向导带提供电子成为正电中心;受主杂质向价带提电子成为正电中心;受主杂质向价带提供空穴成为负电中心。供空穴成为负电中心。AEDE半导体器件半导体器件 半导体中同时存在施主和受主杂质,半导体中同时存在施主和受主杂质,且且 。DANNDANNN型半导体型半导体N型半导体型半导体半导体器件半导体器件 半导体中同时存在施主和受主杂质,半导体中同时存在施主和受主杂质,且
20、且 。ADNNADNNP型半导体型半导体P型半导体型半导体半导体器件半导体器件杂质的补偿作用杂质的补偿作用 半导体中同时存在施主和受主杂质半导体中同时存在施主和受主杂质时,半导体是时,半导体是N型还是型还是P型由杂质的型由杂质的浓度差决定浓度差决定 半导体中净杂质浓度称为有效杂质半导体中净杂质浓度称为有效杂质浓度(有效施主浓度;有效受主浓浓度(有效施主浓度;有效受主浓度)度) 杂质的高度补偿(杂质的高度补偿( )ADNN半导体器件半导体器件点缺陷点缺陷 弗仓克耳缺陷弗仓克耳缺陷间隙原子和空位成对出现间隙原子和空位成对出现 肖特基缺陷肖特基缺陷只存在空位而无间隙原子只存在空位而无间隙原子 间隙原
21、子和空位这两种点缺陷受温度影响较间隙原子和空位这两种点缺陷受温度影响较大,为大,为热缺陷热缺陷,它们不断产生和复合,直至,它们不断产生和复合,直至达到动态平衡,总是达到动态平衡,总是同时存在同时存在的。的。 空位空位表现为表现为受主作用受主作用;间隙原子间隙原子表现为表现为施主施主作用作用半导体器件半导体器件点缺陷点缺陷 替位原子(化合物半导体)替位原子(化合物半导体)半导体器件半导体器件位错位错 位错是半导体中的一种缺陷,它严重影位错是半导体中的一种缺陷,它严重影响材料和器件的性能。响材料和器件的性能。半导体器件半导体器件位错位错施主情况施主情况 受主情况受主情况半导体器件半导体器件练习练习
22、1、族杂质在族杂质在Si、Ge晶体中为深能级杂质。晶体中为深能级杂质。 ( )2、受主杂质向价带提供空穴成为正电中心。(、受主杂质向价带提供空穴成为正电中心。( )3、杂质处于两种状态:、杂质处于两种状态:( )和(和( )。)。4、空位表现为(、空位表现为( )作用,间隙原子表现为()作用,间隙原子表现为( )作)作用。用。5、以、以Si在在GaAs中的行为为例,说明中的行为为例,说明族杂质在族杂质在化合化合物中可能出现的双性行为。物中可能出现的双性行为。半导体器件半导体器件半导体中的电子状态半导体中的电子状态半导体中杂质和缺陷能级半导体中杂质和缺陷能级半导体中载流子的统计分布半导体中载流子
23、的统计分布半导体的导电性半导体的导电性非平衡载流子非平衡载流子pn结结金属和半导体的接触金属和半导体的接触半导体表面与半导体表面与MIS结构结构半导体物理学半导体器件半导体器件热平衡状态热平衡状态 在一定温度下,在一定温度下,载流子的产生载流子的产生和和载流子的复载流子的复合合建立起一动态平衡,这时的载流子称为建立起一动态平衡,这时的载流子称为热热平衡载流子平衡载流子。 半导体的热平衡状态受半导体的热平衡状态受温度温度影响,某一特定影响,某一特定温度对应某一特定的热平衡状态。温度对应某一特定的热平衡状态。 半导体的半导体的导电性导电性受受温度温度影响剧烈。影响剧烈。半导体器件半导体器件态密度的
24、概念态密度的概念 能带中能量能带中能量 附近每单位能量间隔内的量子态附近每单位能量间隔内的量子态数。数。 能带中能量为能带中能量为 无限小的能量间隔内无限小的能量间隔内有有 个量子态,则状态密度个量子态,则状态密度 为为( )g EEEdE()zd( )dzg EdEE半导体器件半导体器件态密度的计算态密度的计算 状态密度的计算状态密度的计算单位单位 空间的量子态数空间的量子态数能量能量 在在 空间中所对空间中所对应的体积应的体积前两者相乘得状态数前两者相乘得状态数根据定义公式求得态密度根据定义公式求得态密度( )g EEEdE()kdzk半导体器件半导体器件空间中的量子态空间中的量子态 在在
25、 空间中,电子的允许能量状态密度为空间中,电子的允许能量状态密度为 ,考虑电子的自旋情况,电子的允许量子态密度考虑电子的自旋情况,电子的允许量子态密度为为 ,每个量子态最多只能容纳,每个量子态最多只能容纳一个电子一个电子。2(0, 1, 2,2(0, 1, 2,2(0, 1, 2,xxxyyyzzznknLnknLnknL )3/ 8V()kk3/ 4V()半导体器件半导体器件态密度态密度 导带底附近状态密度(理想情况)导带底附近状态密度(理想情况)22*( )2CnkE kEm2344Vdzk dk*2nm dEkdk * 3/21/223(2)()2nCmVdzEEdE半导体器件半导体器件
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