场效应管工作基础学习知识原理.doc

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编号:2595035    类型:共享资源    大小:302.54KB    格式:DOC    上传时间:2020-04-22
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场效应 工作 基础 学习 知识 原理
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!- 场效应管工作原理 MOS场效应管电源开关电路。 这是该装置的核心,在介绍该部分工作原理之前,先简单解释一下MOS 场效应管的工作原理。 MOS 场效应管也被称为MOS FET, 既Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor(金属氧化物半导体场效应管)的缩写。它一般有耗尽型和增强型两种。本文使用的为增强型MOS场效应管,其内部结构见图5。它可分为NPN型PNP型。NPN型通常称为N沟道型,PNP型也叫P沟道型。由图可看出,对于N沟道的场效应管其源极和漏极接在N型半导体上,同样对于P沟道的场效应管其源极和漏极则接在P型半导体上。我们知道一般三极管是由输入的电流控制输出的电流。但对于场效应管,其输出电流是由输入的电压(或称电场)控制,可以认为输入电流极小或没有输入电流,这使得该器件有很高的输入阻抗,同时这也是我们称之为场效应管的原因。 为解释MOS场效应管的工作原理,我们先了解一下仅含有一个P—N结的二极管的工作过程。如图6所示,我们知道在二极管加上正向电压(P端接正极,N端接负极)时,二极管导通,其PN结有电流通过。这是因为在P型半导体端为正电压时,N型半导体内的负电子被吸引而涌向加有正电压的P型半导体端,而P型半导体端内的正电子则朝N型半导体端运动,从而形成导通电流。同理,当二极管加上反向电压(P端接负极,N端接正极)时,这时在P型半导体端为负电压,正电子被聚集在P型半导体端,负电子则聚集在N型半导体端,电子不移动,其PN结没有电流通过,二极管截止。 对于场效应管(见图7),在栅极没有电压时,由前面分析可知,在源极与漏极之间不会有电流流过,此时场效应管处与截止状态(图7a)。当有一个正电压加在N沟道的MOS场效应管栅极上时,由于电场的作用,此时N型半导体的源极和漏极的负电子被吸引出来而涌向栅极,但由于氧化膜的阻挡,使得电子聚集在两个N沟道之间的P型半导体中(见图7b),从而形成电流,使源极和漏极之间导通。我们也可以想像为两个N型半导体之间为一条沟,栅极电压的建立相当于为它们之间搭了一座桥梁,该桥的大小由栅压的大小决定。图8给出了P沟道的MOS场效应管的工作过程,其工作原理类似这里不再重复。 下面简述一下用C-MOS场效应管(增强型MOS场效应管)组成的应用电路的工作过程(见图9)。电路将一个增强型P沟道MOS场效应管和一个增强型N沟道MOS场效应管组合在一起使用。当输入端为低电平时,P沟道MOS场效应管导通,输出端与电源正极接通。当输入端为高电平时,N沟道MOS场效应管导通,输出端与电源地接通。在该电路中,P沟道MOS场效应管和N沟道MOS场效应管总是在相反的状态下工作,其相位输入端和输出端相反。通过这种工作方式我们可以获得较大的电流输出。同时由于漏电流的影响,使得栅压在还没有到0V,通常在栅极电压小于1到2V时,MOS场效应管既被关断。不同场效应管其关断电压略有不同。也正因为如此, 使得该电路不会因为两管同时导通而造成电源短路。 由以上分析我们可以画出原理图中MOS场效应管电路部分的工作过程(见图10)。工作原理同前所述。 场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。一般的晶体管是由两种极性的载流子,即多数载流子和反极性的少数载流子参与导电,因此称为双极型晶体管,而FET仅是由多数载流子参与导电,它与双极型相反,也称为单极型晶体管。它属于电压控制型半导体器件,具有输入电阻高(108~109Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者。 一、场效应管的分类 场效应管分结型、绝缘栅型两大类。结型场效应管(JFET)因有两个PN结而得名,绝缘栅型场效应管(JGFET)则因栅极与其它电极完全绝缘而得名。目前在绝缘栅型场效应管中,应用最为广泛的是MOS场效应管,简称MOS管(即金属-氧化物-半导体场效应管MOSFET);此外还有PMOS、NMOS和VMOS功率场效应管,以及最近刚问世的πMOS场效应管、VMOS功率模块等。   按沟道半导体材料的不同,结型和绝缘栅型各分沟道和P沟道两种。若按导电方式来划分,场效应管又可分成耗尽型与增强型。结型场效应管均为耗尽型,绝缘栅型场效应管既有耗尽型的,也有增强型的。   场效应晶体管可分为结场效应晶体管和MOS场效应晶体管。而MOS场效应晶体管又分为N沟耗尽型和增强型;P沟耗尽型和增强型四大类。见下图。 二、场效应三极管的型号命名方法 现行有两种命名方法。第一种命名方法与双极型三极管相同,第三位字母J代表结型场效应管,O代表绝缘栅场效应管。第二位字母代表 材料,D是P型硅,反型层是N沟道;C是N型硅P沟道。例如,3DJ6D是结型N沟道场效应三极管,3DO6C 是绝缘栅型N沟道场效应三极管。   第二种命名方法是CS#,CS代表场效应管,以数字代表型号的序号,#用字母代表同一型号中的不同规格。例如CS14A、CS45G等。 三、场效应管的参数 场效应管的参数很多,包括直流参数、交流参数和极限参数,但一般使用时关注以下主要参数: 1、I DSS — 饱和漏源电流。是指结型或耗尽型绝缘栅场效应管中,栅极电压U GS=0时的漏源电流。 2、UP — 夹断电压。是指结型或耗尽型绝缘栅场效应管中,使漏源间刚截止时的栅极电压。 3、UT — 开启电压。是指增强型绝缘栅场效管中,使漏源间刚导通时的栅极电压。 4、gM — 跨导。是表示栅源电压U GS — 对漏极电流I D的控制能力,即漏极电流I D变化量与栅源电压UGS变化量的比值。gM 是衡量场效应管放大能力的重要参数。 5、BUDS — 漏源击穿电压。是指栅源电压UGS一定时,场效应管正常工作所能承受的最大漏源电压。这是一项极限参数,加在场效应管上的工作电压必须小于BUDS。 6、PDSM — 最大耗散功率。也是一项极限参数,是指场效应管性能不变坏时所允许的最大漏源耗散功率。使用时,场效应管实际功耗应小于PDSM并留有一定余量。 7、IDSM — 最大漏源电流。是一项极限参数,是指场效应管正常工作时,漏源间所允许通过的最大电流。场效应管的工作电流不应超过IDSM 几种常用的场效应三极管的主要参数 四、场效应管的作用 1、场效应管可应用于放大。由于场效应管放大器的输入阻抗很高,因此耦合电容可以容量较小,不必使用电解电容器。 2、场效应管很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。 3、场效应管可以用作可变电阻。 4、场效应管可以方便地用作恒流源。 5、场效应管可以用作电子开关。 五、场效应管的测试 1、结型场效应管的管脚识别:   场效应管的栅极相当于晶体管的基极,源极和漏极分别对应于晶体管的发射极和集电极。将万用表置于R1k档,用两表笔分别测量每两个管脚间的正、反向电阻。当某两个管脚间的正、反向电阻相等,均为数KΩ时,则这两个管脚为漏极D和源极S(可互换),余下的一个管脚即为栅极G。对于有4个管脚的结型场效应管,另外一极是屏蔽极(使用中接地)。 2、判定栅极   用万用表黑表笔碰触管子的一个电极,红表笔分别碰触另外两个电极。若两次测出的阻值都很小,说明均是正向电阻,该管属于N沟道场效应管,黑表笔接的也是栅极。   制造工艺决定了场效应管的源极和漏极是对称的,可以互换使用,并不影响电路的正常工作,所以不必加以区分。源极与漏极间的电阻约为几千欧。   注意不能用此法判定绝缘栅型场效应管的栅极。因为这种管子的输入电阻极高,栅源间的极间电容又很小,测量时只要有少量的电荷,就可在极间电容上形成很高的电压,容易将管子损坏。 3、估测场效应管的放大能力   将万用表拨到R100档,红表笔接源极S,黑表笔接漏极D,相当于给场效应管加上1.5V的电源电压。这时表针指示出的是D-S极间电阻值。然后用手指捏栅极G,将人体的感应电压作为输入信号加到栅极上。由于管子的放大作用,UDS和ID都将发生变化,也相当于D-S极间电阻发生变化,可观察到表针有较大幅度的摆动。如果手捏栅极时表针摆动很小,说明管子的放大能力较弱;若表针不动,说明管子已经损坏。   由于人体感应的50Hz交流电压较高,而不同的场效应管用电阻档测量时的工作点可能不同,因此用手捏栅极时表针可能向右摆动,也可能向左摆动。少数的管子RDS减小,使表针向右摆动,多数管子的RDS增大,表针向左摆动。无论表针的摆动方向如何,只要能有明显地摆动,就说明管子具有放大能力。 本方法也适用于测MOS管。为了保护MOS场效应管,必须用手握住螺钉旋具绝缘柄,用金属杆去碰栅极,以防止人体感应电荷直接加到栅极上,将管子损坏。   MOS管每次测量完毕,G-S结电容上会充有少量电荷,建立起电压UGS,再接着测时表针可能不动,此时将G-S极间短路一下即可。 目前常用的结型场效应管和MOS型绝缘栅场效应管的管脚顺序如下图所示。 六、常用场效用管 1、MOS场效应管   即金属-氧化物-半导体型场效应管,英文缩写为MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor),属于绝缘栅型。其主要特点是在金属栅极与沟道之间有一层二氧化硅绝缘层,因此具有很高的输入电阻(最高可达1015Ω)。它也分N沟道管和P沟道管,符号如图1所示。通常是将衬底(基板)与源极S接在一起。根据导电方式的不同,MOSFET又分增强型、耗尽型。所谓增强型是指:当VGS=0时管子是呈截止状态,加上正确的VGS后,多数载流子被吸引到栅极,从而“增强”了该区域的载流子,形成导电沟道。耗尽型则是指,当VGS=0时即形成沟道,加上正确的VGS时,能使多数载流子流出沟道,因而“耗尽”了载流子,使管子转向截止。   以N沟道为例,它是在P型硅衬底上制成两个高掺杂浓度的源扩散区N+和漏扩散区N+,再分别引出源极S和漏极D。源极与衬底在内部连通,二者总保持等电位。图1(a)符号中的前头方向是从外向里,表示从P型材料(衬底)指身N型沟道。当漏接电源正极,源极接电源负极并使VGS=0时,沟道电流(即漏极电流)ID=0。随着VGS逐渐升高,受栅极正电压的吸引,在两个扩散区之间就感应出带负电的少数载流子,形成从漏极到源极的N型沟道,当VGS大于管子的开启电压VTN(一般约为+2V)时,N沟道管开始导通,形成漏极电流ID。 国产N沟道MOSFET的典型产品有3DO1、3DO2、3DO4(以上均为单栅管),4DO1(双栅管)。它们的管脚排列(底视图)见图2。   MOS场效应管比较“娇气”。这是由于它的输入电阻很高,而栅-源极间电容又非常小,极易受外界电磁场或静电的感应而带电,而少量电荷就可在极间电容上形成相当高的电压(U=Q/C),将管子损坏。因此了厂时各管脚都绞合在一起,或装在金属箔内,使G极与S极呈等电位,防止积累静电荷。管子不用时,全部引线也应短接。在测量时应格外小心,并采取相应的防静电感措施。 MOS场效应管的检测方法 (1).准备工作   测量之前,先把人体对地短路后,才能摸触MOSFET的管脚。最好在手腕上接一条导线与大地连通,使人体与大地保持等电位。再把管脚分开,然后拆掉导线。 (2).判定电极   将万用表拨于R100档,首先确定栅极。若某脚与其它脚的电阻都是无穷大,证明此脚就是栅极G。交换表笔重测量,S-D之间的电阻值应为几百欧至几千欧,其中阻值较小的那一次,黑表笔接的为D极,红表笔接的是S极。日本生产的3SK系列产品,S极与管壳接通,据此很容易确定S极。 (3).检查放大能力(跨导)   将G极悬空,黑表笔接D极,红表笔接S极,然后用手指触摸G极,表针应有较大的偏转。双栅MOS场效应管有两个栅极G1、G2。为区分之,可用手分别触摸G1、G2极,其中表针向左侧偏转幅度较大的为G2极。   目前有的MOSFET管在G-S极间增加了保护二极管,平时就不需要把各管脚短路了。   MOS场效应晶体管使用注意事项。   MOS场效应晶体管在使用时应注意分类,不能随意互换。MOS场效应晶体管由于输入阻抗高(包括MOS集成电路)极易被静电击穿,使用时应注意以下规则: (1). MOS器件出厂时通常装在黑色的导电泡沫塑料袋中,切勿自行随便拿个塑料袋装。也可用细铜线把各个引脚连接在一起,或用锡纸包装 (2).取出的MOS器件不能在塑料板上滑动,应用金属盘来盛放待用器件。 (3). 焊接用的电烙铁必须良好接地。 (4). 在焊接前应把电路板的电源线与地线短接,再MOS器件焊接完成后在分开。 (5). MOS器件各引脚的焊接顺序是漏极、源极、栅极。拆机时顺序相反。 (6).电路板在装机之前,要用接地的线夹子去碰一下机器的各接线端子,再把电路板接上去。 (7). MOS场效应晶体管的栅极在允许条件下,最好接入保护二极管。在检修电路时应注意查证原有的保护二极管是否损坏。 2、VMOS场效应管   VMOS场效应管(VMOSFET)简称VMOS管或功率场效应管,其全称为V型槽MOS场效应管。它是继MOSFET之后新发展起来的高效、功率开关器件。它不仅继承了MOS场效应管输入阻抗高(≥108W)、驱动电流小(左右0.1μA左右),还具有耐压高(最高可耐压1200V)、工作电流大(1.5A~100A)、输出功率高(1~250W)、跨导的线性好、开关速度快等优良特性。正是由于它将电子管与功率晶体管之优点集于一身,因此在电压放大器(电压放大倍数可达数千倍)、功率放大器、开关电源和逆变器中正获得广泛应用。   众所周知,传统的MOS场效应管的栅极、源极和漏极大大致处于同一水平面的芯片上,其工作电流基本上是沿水平方向流动。VMOS管则不同,从左下图上可以看出其两大结构特点:第一,金属栅极采用V型槽结构;第二,具有垂直导电性。由于漏极是从芯片的背面引出,所以ID不是沿芯片水平流动,而是自重掺杂N+区(源极S)出发,经过P沟道流入轻掺杂N-漂移区,最后垂直向下到达漏极D。电流方向如图中箭头所示,因为流通截面积增大,所以能通过大电流。由于在栅极与芯片之间有二氧化硅绝缘层,因此它仍属于绝缘栅型MOS场效应管。 国内生产VMOS场效应管的主要厂家有877厂、天津半导体器件四厂、杭州电子管厂等,典型产品有VN401、VN672、VMPT2等。表1列出六种VMOS管的主要参数。其中,IRFPC50的外型如右上图所示。   VMOS场效应管的检测方法 (1).判定栅极G   将万用表拨至R1k档分别测量三个管脚之间的电阻。若发现某脚与其字两脚的电阻均呈无穷大,并且交换表笔后仍为无穷大,则证明此脚为G极,因为它和另外两个管脚是绝缘的。 (2).判定源极S、漏极D 由图1可见,在源-漏之间有一个PN结,因此根据PN结正、反向电阻存在差异,可识别S极与D极。用交换表笔法测两次电阻,其中电阻值较低(一般为几千欧至十几千欧)的一次为正向电阻,此时红表笔的是S极,黑表笔接D极。(数字万用表) (3).测量漏-源通态电阻RDS(on) 将G-S极短路,选择万用表的R1档,红表笔接S极,黑表笔接D极,阻值应为几欧至十几欧。(数字万用表) 由于测试条件不同,测出的RDS(on)值比手册中给出的典型值要高一些。例如用500型万用表R1档实测一只IRFPC50型VMOS管,RDS(on)=3.2W,大于0.58W(典型值)。 (4).检查跨导    将万用表置于R1k(或R100)档,黑表笔接S极,红表笔接D极,手持螺丝刀去碰触栅极,表针应有明显偏转,偏转愈大,管子的跨导愈高。(数字万用表) 注意事项: (1)VMOS管亦分N沟道管与P沟道管,但绝大多数产品属于N沟道管。对于P沟道管,测量时应交换表笔的位置。 (2)有少数VMOS管在G-S之间并有保护二极管,本检测方法中的1、2项不再适用。 (3)目前市场上还有一种VMOS管功率模块,专供交流电机调速器、逆变器使用。例如美国IR公司生产的IRFT001型模块,内部有N沟道、P沟道管各三只,构成三相桥式结构。 (4)现在市售VNF系列(N沟道)产品,是美国Supertex公司生产的超高频功率场效应管,其最高工作频率fp=120MHz,IDSM=1A,PDM=30W,共源小信号低频跨导gm=2000μS。适用于高速开关电路和广播、通信设备中。 (5)使用VMOS管时必须加合适的散热器后。以VNF306为例,该管子加装1401404(mm)的散热器后,最大功率才能达到30W 七、场效应管与晶体管的比较 (1)场效应管是电压控制元件,而晶体管是电流控制元件。在只允许从信号源取较少电流的情况下,应选用场效应管;而在信号电压较低,又允许从信号源取较多电流的条件下,应选用晶体管。 (2)场效应管是利用多数载流子导电,所以称之为单极型器件,而晶体管是即有多数载流子,也利用少数载流子导电。被称之为双极型器件。 (3)有些场效应管的源极和漏极可以互换使用,栅压也可正可负,灵活性比晶体管好。 (4)场效应管能在很小电流和很低电压的条件下工作,而且它的制造工艺可以很方便地把很多场效应管集成在一块硅片上,因此场效应管在大规模集成电路中得到了广泛的应用。 由于半导体三极管工作在放大状态时,必须保证发射结正偏,故输入端始终存在输入电流。改变输入电流就可改变输出电流,所以三极管是电流控制器件,因而三极管组成的放大器,其输入电阻不高。 场效应管是通过改变输入电压(即利用电场效应)来控制输出电流的,属于电压控制器件,它不吸收信号源电流,不消耗信号源功率,因此输入电阻十分高,可高达上百兆欧。除此之外,场效应管还具有温度稳定性好,抗辐射能力强、噪声低、制造工艺简单、便于集成等优点,所得到广泛的应用。 场效应管分为结型场效应管(JFET)和绝缘栅场效应管(IGFET),目前最常用的MOS管。 由于半导体三极管参与导电的两种极性的载流子,电子和空穴,所以又称为半导体三极管双极性三极管。场效应管仅依靠一种极性的载流子导电,所以又称为单极性三极管。 FET-Field Effect transistor JFET-Junction Field Effect transistor IGFET-Insulated Gate Field Effect Transistor MOS-Metal-Oxide-Semiconductor 1 结型场效应管 一、结构 结型场效应管有两种结构形式。N型沟道结型场效应管和P型沟道结型场效应管。以N沟道为例。在一块N型硅半导体材料的的两边,利用合金法、扩散法或其它工艺做成高浓度的P+型区,使之形成两个PN结,然后将两边的P+型区连在一起,引出一个电极,称为栅极G。在N型半导体两端各引出一个电极,分别作为源极S和漏极D。夹在两个PN结中间的N型区是源极与漏极之间的电流通道,称为导电沟道。由于N型半导体多数载流子是电子,故此沟道称为N型沟道。同理,P型沟道结型场效应管中,沟道是P型区,称为P型沟道,栅极与N型区相连。电路符号如图所示,箭头方向可理解为两个PN结的正向导电方向。 二、工作原理 从结型场效应管的结构可看出,我们在D、S间加上电压UDS,则在源极和漏极之间形成电流ID。我们通过改变栅极和源极的反向电压UGS,则可以改变两个PN结阻档层(耗尽层)的宽度。由于栅极区是高掺杂区,所以阻挡层主要降在沟道区。故|UGS|的改变,会引起沟道宽度的变化,其沟道电阻也随之而变,从而改变了漏极电流ID。如|UGS|上升,则沟道变窄,电阻增加,ID下降。反之亦然。所以改变UGS的大小,可以控制漏极电流。这是场效应管工作的基本原理,也是核心部分。下面我们详细讨论。 1.UGS对导电沟道的影响 为了便于讨论,先假设UDS=0。 (a)UGS=0 (b)UGS<0 当UGS由零向负值增大时,PN结的阻挡层加厚,沟道变窄,电阻增大。 (c)UGS=–Up 若UGS的负值再进一步增大,当UGS=–Up时,两个PN结的阻挡层相遇,沟道消失,我们称沟道被“夹断”了,UP称为夹断电压,此时ID=0。 2.ID与UDS、UGS之间的关系 假定:栅、源电压|UGS|<|Up|,如UGS=–1V,Up=–4V。 ⑴ 当UDS=2V时,沟道中将有电流ID通过。此电流将沿着沟道方向产生一个电压降,这样沟道上各点的电位就不同,因而沟道内各点的电位就不同,因而沟道内各点与栅极的电位差也就不相等。漏极端与栅极之间的反向电压最高,如:UDG=UDS–UGS=2–(–1)=3V,沿着沟道向下逐渐降低,源极端为最低,如:USG=–UGS=1V,两个PN结阻挡层将出现楔形,使得靠近源极端沟道较宽,而靠近漏极端的沟道较窄。如下图(a)所示。此时再增大UDS,由于沟道电阻增长较慢,所以ID随之增加。 ⑵预夹断 当进一步增加UDS,当栅、漏间电压UGD等于Up时,即 UGD=UGS–UDS=Up 则在D极附近,两个PN结的阻挡层相遇,如下图(b)所示。我们称为预夹断。如果继续升高UDS,就会使夹断区向源极端方向发展,沟道电阻增加。由于沟道电阻的增长速率与UDS的增加速率基本相同,故这一期间ID趋于一恒定值,不随UDS的增大而增大,此时,漏极电流的大小仅取决于UGS的大小。UGS越负,沟道电阻越大,ID便越小。 ⑶ 当UGS=Up时,沟道被全部夹断,ID=0,如下图(c)所示。 注意:预夹断后还能有电流。不要认为预夹断后就没有电流。 由于结型场效应管工作时,我们总是要栅源之间加一个反向偏置电压,使得PN结始终处于反向接法,故ID≈0,所以,场效应管的输入电阻rgs很高。 三、特性曲线 1、输出特性曲线 以UGS为参变量时,漏极电流ID与与漏、源电压UDS之间的关系,称为输出特性,即 根据工作情况,输出特性可划分为四个区域。 ⑴可变电阻区。可变电阻区位于输出特性曲线的起始部分,此区的特点是:固定UGS时,ID随UDS增大而线性上升,相当于线性电阻;改变UGS时,特性曲线的斜率变化,相当于电阻的阻值不同,UGS增大,相应的电阻增大。 ⑵恒流区。该区的特点是:ID基本不随UDS而变化,仅取决于UGS的值,输出特性曲线趋于水平,故称为恒流区或饱和区。 ⑶击穿区。位于特性曲线的最右部分,当UDS升高到一定程度时,反向偏置的PN结被击穿,ID将突然增大。UGS愈负时,达到雪崩击穿所需的UDS电压愈小。当UGS=0时其击穿电压用BUDSS ⑷截止区。当|UGS|≥|UP|时,管子的导电沟道处于完全夹断状态,ID=0,场效应管截止。 2、转移特性曲线 当漏、源之间电压UDS保持不变时,漏极电流ID和栅、源之间电压UGS的关系称为转移特性。即 它描述了栅、源之间的电压UGS对漏极电流ID的控制作用。由图可见: UGS=0时,ID=IDSS漏极电流最大,称为饱合漏极电流IDSS |UGS|增大,ID减小,当UGS=–Up时,ID=0。Up称为夹断电压。 结型场效应管的转移特性在UGS=0~Up范围内可用下面近似公式表示: 根据输出特性曲线可以做出转移特性曲线。 2 绝缘栅场效应管 绝缘栅场效应管通常由金属、氧化物和半导体制成,所以又称为金属-氧化物-半导体场效应管,简称为MOS场效应管。由于这种场效应管的栅极被绝缘层(SiO2)隔离(所以称为绝缘栅)。因此其输入电阻更高,可达109Ω以上。 N沟道 P沟道 增强型 耗尽型 共有四种类型。 一、N沟道增强型MOS场效应管 1.结构 N沟道增强型MOS场效应管的结构示意图如右图所示。把一块掺杂浓度较低的P型半导体作为衬底,然后在其表面上覆盖一层SiO2的绝缘层,再在SiO2层上刻出两个窗口,通过扩散工艺形成两个高掺杂的N型区(用N+表示),并在N+区和SiO2的表面各自喷上一层金属铝,分别引出源极、漏极和控制栅极。衬底上也引出一根引线,通常情况下将它和源极在内部相连。 2.工作原理 结型场效应管是通过改变UGS来控制PN结的阻挡层宽窄,从而改变导电沟道的宽度,达到控制漏极电流ID的目的。而绝缘栅场效应管则是利用UGS来控制“感应电荷”的多少,以改变由这些“感应电荷”形成的导电沟道的状况,然后达到控制漏极电流ID的目的。 对N沟道增强型的MOS场效应管,当UGS=0时,在漏极和源极的两个N+区之间是P型衬底,因此漏、源之间相当于两个背靠背的PN结。所以无论漏、源之间加上何种极性的电压,总是不导通的,ID=0。 当UGS>0时,(为方便假定UDS=0),则在SiO2的绝缘层中,产生了一个垂直半导体表面,由栅极指向P型衬底的电场。这个电场排斥空穴吸引电子,当UGS>UT时,在绝缘栅下的P型区中形成了一层以电子为主的N型层。由于源极和漏极均为N+型,故此N型层在漏、源极间形成电子导电的沟道,称为N型沟道。UT称为开启电压,此时在漏、源极间加UDS,则形成电流ID。显然,此时改变UGS则可改变沟道的宽窄,即改变沟道电阻大小,从而控制了漏极电流ID的大小。由于这类场效应管在UGS=0时,ID=0,只有在UGS>UT后才出现沟道,形成电流,故称为增强型。 3.特性曲线 N沟道增强型场效应管,也用转移特性、输出特性表示ID、UGS、UDS之间的关系,如下图所示。 转移特性:UGS0时,将产生较大的漏极电流ID。如果使UGS<0,则它将削弱正离子所形成的电场,使N沟道变窄,从而使ID减小。当UGS更负,达到某一数值时沟道消失,ID=0。使ID=0的UGS我们也称为夹断电压,仍用UP表示。UGS0,而耗尽型工作在UGS<0。 1. 1. 自给偏压偏置电路 右图给出的是一种称为自给偏压电路的偏置电路,它适用于结型场效应管或耗尽型场效应管。它依靠漏极电流ID在Re上的电压降提供栅极偏压。即 UGS=–IDRS 同样,在RS上要并联一个足够大的旁路电容。 由场效应管的工作原理我们知道ID是随UGS变化的,而现在UGS又取决于ID的大小,怎么确定静态工作点的ID和UGS的值呢?一般可采用两种方法:图解法和计算法。 ⑴图解法 首先,作直流负载线,由漏极回路写出方程 UDS=UDD-ID(RD+RS) 由此在输出特性曲线上做出直流负载线AB,将此直流负载线逐点转到uGS~iD坐标,得到对应直流负载线的转移特性曲线CD,再由UGS=–IDRS在转移特性坐标中作另一条直线,两线的交点即为Q点。 ⑵计算法 【例】电路如上页图,场效应管为3DJG,其输出特性曲线如下图所示,已知RD=2kΩ,RS=1.2kΩ,UDD=15V,试用图解法确定该放大器的静态工作点。 解:写出输出回路的电压电流方程,即直流负载线方程。 UDS=UDD-ID(RD+RS) 设 UDS=0V时 ID=0mA时 在输出特性图上将上述两点相连得直流负载线。 再根据上述直流负载线与输出特性曲线簇的交点,转移到uGS~iD坐标系中,画出相应于该直流负载线的转移特性曲线。 在转移特性曲线上,做出UGS=–IDRS的曲线。它在uGS~iD坐标系中是一条直线,找出两点即可。 令 ID=0 UGS=0 ID=3mA UGS=3.6V 连接这两点,在uGS~iD坐标系中得一直线,此直线与转移特性曲线的交点即为Q点,对应Q点的值为: ID=2.5mA UGS=–3V UDS=7V 2.分压式偏置电路 分压式偏置电路也是一种常用的偏置电路,该种电路适用于所有类型的场效应管,如下图所示,为了不使分压电阻R1、R2对放大电路的输入电阻影响太大,故通过RG与栅极相连。该电路栅、源电压为: ⑴图解法 同上,不过ID=0,UGS不等于0,而为 ⑵计算法 联立解下面方程组: 【例】试计算上图的静态工作点。已知R1=50kΩ,R2=150kΩ,RG=1MΩ,RD=RS=10kΩ,RL=1MΩ,CS=100μF,UDD=20V,场效应管为3DJF,其Up=–5V,IDSS=1mA。 解: 即 将UGS代入ID式得: 漏极对地电压为:UD=UDD–IDRD=20–0.6110=13.9V 二、场效应管的微变等效电路 由于场效应管输入端不取电流,输入电阻极大,故输入端可视为开路。场效应管仅存在如下关系: rD很大,可以认为开路。 根据电路方程可画出等效电路如右上图所示。 三、共源极放大电路 放大电路和微变等效电路如下图与示。场效应管放大电路的动态分析同双极性三极管,也是求电压放大倍数Au、输入电阻ri和输出电阻ro。 1.电压放大倍数 根据电压放大倍数的定义 由等效电路可得: 再找出Uo和Ui的关系,即Ugs和Ui的关系,从等效电路可得: Ui=Ugs 所以: 2.输入电阻 3.输出电阻 四、共漏极放大器(源极输出器) 电路和等效电路如下图所示。 同样求电压放大倍数、输入电阻、输出电阻。 1.电压放大倍数 根据电压放大倍数的定义 从等效电路可得: 又有 Ui=Ugs+Uo Ugs=Ui – Uo 2.输入电阻 ri=RG 3.输出电阻 根据求输出电阻的方法,令:Us=0,并在输出端加一信号U2如下图所示 则: 【例】计算下面电路的电压放大倍数、输入电阻、输出电阻。电路参数为:R1=50kΩ,R2=150kΩ,RG=1MΩ,RD=RS=10kΩ,RL=1MΩ,CS=100μF,UDD=20V,场效应管为3DJF,其Up=–5V,IDSS=1mA,
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