2022年半导体光电子器件复习总结.docx
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1、精选学习资料 - - - - - - - - - 半导体光电子器件课程梳理Chap 1 绪论1. 半导体激光器的进展第一进展阶段同质结构注入型激光器(二十世纪 60 岁月初)特点:对注入的载流子和光场没有限制,阈值电流密度高,只能在液氮和脉冲状态下工作其次进展阶段单异质结注入型激光器(二十世纪 60 岁月末)特点:利用异质结供应的势垒把注入电子限制在 密度GaAS P-n 结的结区内,降低阈值电流第三进展阶段双异质结注入型激光器(二十世纪 70 岁月初)特点: 1)窄带隙的有源区两侧的宽带隙材料对注入的载流子有限制作用;2)有源区为高折射率材料,两侧包层是低折射率材料,形成的光波导能够将光场的
2、大部分限制在有源区内,从而减小阈值电流密度;第四进展阶段量子阱激光器(二十世纪 80 岁月初)半导体物理讨论的深化及晶体外延生长技术的进展(包括分子外延 MBE,金属有机化学气相沉积 MOCVD和化学束外延 2. 半导体激光器的特点CBE),使得量子阱半导体激光器研制胜利;. 小而轻、转换效率高、省电、寿命长;. 制造工艺与电子器件和集成电路工艺兼容,便于实现单片光电集成;. 半导体激光器的激射功率和频率可直接调制;. 激射波长范畴宽;3. 半导体激光器的应用 光通讯、光储备、固体激光器的泵浦源、激光器武器、3D显示 4. LEDs 的应用 交通指示、照明、背光源、屏幕显示、投影仪光源、汽车、
3、医疗、闪光灯、栽培、防伪;Chap 2 异质结半导体异质结的定义: 由两种基本物理参数不同的半导体单晶材料形成的晶体界面(过渡层);1. 异质结的能带图(1)pN异质结的能带图名师归纳总结 - - - - - - -第 1 页,共 22 页精选学习资料 - - - - - - - - - -功函数, - 电子亲和势尖峰的位置与 pN结两边的掺杂浓度有关:p 区掺杂比 N 区多时,尖峰位于势垒的顶端,称为高势垒尖峰;p 区掺杂比 N区少时,尖峰位于势垒的根部,称为低势垒尖峰(2)nN同型异质结的能带图2. 异质结的参数平稳态下内建电场强度耗尽区内电中性条件内建电势差内建电势差安排比故名师归纳总结
4、 - - - - - - -第 2 页,共 22 页精选学习资料 - - - - - - - - - 由于带边的不连续,内建电势差不再代表势垒的总高度了; 空间电荷区宽度3. 异质 pN结的伏安特性(1)扩散模型电流电压方程对于 pN 型异质结,型异质结,Ec 和 Ev 都是正值,而且一般远大于k0T,故JnJp,说明通过异质结的电流主要由电子电流组成,空穴电流占很小的比例;(2)热电子发射模型忽视由 p 向 N 的电子,就电流密度可表示为:()(3)尖峰隧穿模型总电流 = 热电子发射电流 +电子隧穿电流4. 异质结的特性(1)高注入比 :pn 结在正向偏压时,n 区向 p 区注入的电子流和p
5、 区向 n 区注入的空穴流之比;式中,E= Ec+ Ev=Eg2-Eg1, Eg2 和 Eg1 分别表示宽带N 区和窄带 p 区的禁带宽度;Dnp、DpN、Lnp、LpN相差不大,都在同一数量级,而 大,即使 NDN 1 ,说明注入比很名师归纳总结 - - - - - - -第 3 页,共 22 页精选学习资料 - - - - - - - - - 由于 Ecp代入和得到含跃迁几率的光子密度表达式 与黑体辐射理论中的表达式比较,得到爱因斯坦系数关系:(8)粒子数反转分布条件(伯纳德杜拉福格关系)推导过程: 净受激发射速率受激发射产生条件:净受激发射速率大于零0 将 f2 和 f1 代入,并整理得
6、粒子数反转分布条件:;注:物理意义: 导带能级上被电子占据的几率必需大于与辐射跃迁相联系的价带能级上被电 子占据的几率, 只有这时在紧靠导带底和价带顶的与辐射跃迁相联系的能量范畴内才能 实现粒子数的反转;名师归纳总结 - - - - - - -第 6 页,共 22 页精选学习资料 - - - - - - - - - 异质结和利用高注入比和超注入实现,同质结可用重掺杂实现;(9)光增益推导过程 : ( 3) ( 4) ( 5)由( 3)、(4)和( 5)式得光增益系数与导带和价带的态密度成正比;与材料的能带、温度及注入水平有关,关系反应在( f2 f1 )项中;引入 光限制因子,反应光场的泄漏,
7、它相当于受激发射的有效面积减小;就光增益系数变为吸取系数增益谱增益峰值随注入载流子浓度的增加而增加,并向高能量方向移动 并向高能量方向移动增益为负值,即为吸取缘由:由于带填充效应(band filling effect,载流子被填充到高能态,而高能态的态密度比低能态的态密度大,所以,增益峰向高能量方向移动且增益变大;名师归纳总结 - - - - - - -第 7 页,共 22 页精选学习资料 - - - - - - - - - (10)光子在谐振腔内的振荡激光器的阈值增益推导 1:设光子以如下的平面电磁波在谐振腔内传播其中;阈值条件要求光子在谐振腔内来回一次后r1 、r2 为场光场在两个谐振腔
8、面上的场反射系数由由(1)式可以得到阈值增益为;功率反射系数 R1r1r1* ,R2r2r2* ;第一项为内部损耗,包括介质对光子的吸取、散射等;右边其次项为腔面损耗,即激光器的输出;当 R1 R2R时,上式简化为推导 2:光强为 Iz 的光沿着 z 方向传播 dz 距离后,光强的总变化量 dIz 为: 设谐振腔内 A 处的光强为 IA,要使在谐振腔内实现激射,光强为 IA 的光经过两次镜面反射后回到A 处时的光强应等于或大于IA: 物理意义: 当光子从单位长度介质所获得的增益等于或大于介质的内部损耗及腔面损耗时,开头形成激射;谐振腔内稳固振荡条件方程( 2)名师归纳总结 - - - - -
9、- -第 8 页,共 22 页精选学习资料 - - - - - - - - - 物理意义: 如形成稳固振荡的驻波,光子在谐振腔内来回一周所经受的光程必需是波长的整数倍, 或者说谐振腔的长度为半波长的整数倍;荡频率或波长,或者说对应一个纵模模式;纵模间距(11)增益系数与电流密度的关系每一个 q 值对应光子的一个振透亮电流密度J0:增益曲线在电流密度坐标上的截距,对应刚好满意粒子数反转条件 正值的电流密度;Fc-Fv=h , 增益由负值转为透亮载流子浓度 n0: 对应刚好满意粒子数反转条件增益由负值转为正值的载流子密度;(12)速率方程速率方程是描述半导体激光器在外界作用下(电注入,光注入),电
10、子与空穴复合产生光子时 , 载流子浓度与光子密度随时间的变化,它包括载流子浓度和光子密度随时间变化两个方程,建立了光子和载流子之间的相互作用关系;名师归纳总结 载流子速率方程:第 9 页,共 22 页- - - - - - -精选学习资料 - - - - - - - - - 第一项:电流的注入而引起的载流子的产生;其次项:受激辐射复合;第三项:自发辐射复合和非辐射复合;受激发射光子速率方程:第一项 gnS 是由于受激辐射引起的光子增加,其次项(-S/ ph 是由于腔内吸取和激光器腔外发射引起光子的削减,第三项 spn/ r 是部分自发辐射耦合到激射模式中而引起光子的增加;(13)速率方程的推论
11、阈值电流密度由载流子速率方程,当 JJth 时时,受激发射的光子密度很少,可以忽视,即 S=0;在稳态状态下 dn/dt=0 nth 为阈值载流子浓度;物理意义:激光器在受激发射之前,所注入的载流子全部用于自发辐射和非辐射复合;阈值载流子浓度由受激发射光子的速率方程,当 JJth 时,对于一般半导体激光器 , 自发辐射耦合因子很小, sp10-5 ,先临时忽视;在稳态状态下,dS/dt=0 在激光器阈值电流之前,载流子浓度随电流密度的增加而增加;到达阈值电流后,载流子浓度被钳制在阈值载流子浓度处,不再增加(此时增益稳固下来);阈值载流子浓度以上的那部分注入载流子全部用于激光器输出;载流子浓度及
12、光子密度与电流密度的关系名师归纳总结 忽视自发辐射耦合的影响( sp=0),稳态时第 10 页,共 22 页- - - - - - -精选学习资料 - - - - - - - - - 考虑自发辐射耦合的影响( sp 0),稳态时2. F-P 腔半导体激光器的结构及特性(1)半导体激光器的分类无导引激光器结构:在平行于结平面的方向上没有对光场的限制结构;增益导引激光器结构:在平行于结平面的方向上没有对光场的限制结构,唯独的侧 向变化是由注入电流和载流子的侧向扩展来打算的载流子浓度在有源区内的分布,即在电极接触条下方的有源层中心区域有较高的载流子浓度,向两侧就逐步减小,受激辐射率和增益也有类似的变
13、化;因此,把这一物理事实描述为“ 增益导引”;折射率导引激光器结构:在平行于结平面的方向上设有对光场的限制结构,这种限制结构是通过有源区两侧材料的折射率差来实现的,因此,称为“ 折射率导引”;(2)半导体激光器的特性名师归纳总结 电流电压特性(I-V )第 11 页,共 22 页功率电流特性(P-I )- - - - - - -精选学习资料 - - - - - - - - - 半导体激光器的效率功率效率 P表征由所加于激光器上的电能(即电功率)转换为输出的光能(即光功率)的效率Po 为激光器输出的光功率,内量子效率 i Vf 为激光器 pp-n n 结正向压降, Rs为串联电阻;Pi 为有源区
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