最新半导体基础知识77359PPT课件.ppt
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1、SiliconTR半导体金属绝缘体电阻温度系数电阻温度系数无机半导体无机半导体晶体材料晶体材料元素半导体:元素半导体:化合物半导体:化合物半导体:固溶体半导体:固溶体半导体:有机分子晶体有机分子晶体有机半导体有机半导体高分子聚合物高分子聚合物有机分子络合物有机分子络合物半导体的分类半导体的分类玻璃半导体、稀土半导体玻璃半导体、稀土半导体能级能级(Enegy Level):在孤立原子中,原子核外的电子按照一定的壳层排列,每一壳层容纳一定数量的电子。每个壳层上的电子具有分立的能量值,具有分立的能量值,也就是电子按能级分布。孤立原子中的电子状态孤立原子中的电子状态 主量子数主量子数 n:1,2,3,
2、n:1,2,3,,决定能量的主要因素决定能量的主要因素 角量子数角量子数 l:0,1,2,(n1),决),决 定角动量,对能量有一定影响定角动量,对能量有一定影响 磁量子数磁量子数 ml:0,1,2,l,决定决定 L的空间取向,引起磁场中的能级分裂的空间取向,引起磁场中的能级分裂 自旋量子数自旋量子数 ms:1/2,产生能级精细结构产生能级精细结构电子的共有化运动电子的共有化运动:在晶体中,在晶体中,电子由一个原子转移到相邻电子由一个原子转移到相邻的原子去,因而,电子将可以在整个晶的原子去,因而,电子将可以在整个晶体中运动体中运动。2p2p2p2p3s3s3s3s禁带:价带:导带:2、能带特点
3、能带特点允带能带原子级能禁带禁带原子轨道dps能量Es 能级:共有化运动弱,能级分裂晚,形成能带窄; p、 d 能 级 : 共 有 化 运 动 强 , 能 级分 裂 早 , 形 成 的 能 带 宽 。 3、绝缘体、半导体、导体能带情况、绝缘体、半导体、导体能带情况导带导带半满带禁带价带禁带价带满带绝缘体半导体导体常温下: Si:Eg=1.12 eV Ge: Eg=0.67 eV GaAs: Eg =1.43 eV4、导电的条件:自由载流子半导体中的自由载流子:电子、空穴产生自由载流子的方式:电子热运动、 外场激发(电场) 单晶硅方棒(2) 半导体中人为地掺入少量杂质形成半导体中人为地掺入少量杂
4、质形成杂质半导体杂质半导体,杂质对半导体导电性能影,杂质对半导体导电性能影响很大。在技术上通常用控制杂质含量响很大。在技术上通常用控制杂质含量(即掺杂)来控制半导体导电特性。(即掺杂)来控制半导体导电特性。A、N型半导体 在四价原子硅(Si)晶体中掺入五价原子,例如磷(P)或砷(As),形成N型半导体。在晶格中某个硅原子被磷原子所替代,五价原子用四个价电子与周围的四价原子形成共价键,而多余一个电子,此多余电子受原子束缚力要比共价键上电子所受束缚力小得多,容易被五价原子释放,游离跃迁到导带上形成自由电子。 v易释放电子的原子称为施主,施主束缚电子的能量状态称为施主能级ED。ED位于禁带中,较靠近
5、材料的导带底。vED与Ec间的能量差称为施主电离能。vN型半导体由施主控制材料导电性。 电导率的高低与掺入施主杂质的浓度成正比。杂质硅的原子图像和能带图杂质硅的原子图像和能带图 B、P型半导体型半导体 在四价原子硅(Si)晶体中掺入三价原子,例如硼(B),形成P型半导体。晶体中某个硅原子被硼原子所替代,硼原子的三个价电子和周围的硅原子中四个价电子要组成共价键,形成八个电子的稳定结构,缺一个电子。于是很容易从硅晶体中获取一个电子形成稳定结构,使硼原子外层多了一个电子变成负离子,而在硅晶体中出现空穴。 v容易获取电子的原子称为受主受主。受主获取电子的能量状态称为受主能级受主能级EAvEA与Ev间能
6、量差称为受主电离能。P型半导体由受主控制材料导电性。 杂质硅的原子图像和能带图杂质硅的原子图像和能带图 C、 N型半导体与型半导体与P型半导体的比较型半导体的比较 半导体所掺杂质多数载流子(多子)少数载流子(少子)特性N型施主杂质电子空穴电子浓度n空穴浓度pP型受主杂质空穴电子电子浓度n空穴浓度p在在 一一 定定 的的 温温 度度 下下 , N N 型型 半半 导导 体体 中中存存 在在 : 三、热平衡状态和热平衡载流子三、热平衡状态和热平衡载流子EcEv产生产生复合复合ED在一定温度一定温度 T 下,载流子的产生过程与复合过程之间处于动态 的平衡,这种状态状态就叫热平衡状态热平衡状态。2、热
7、平衡载流子浓度、热平衡载流子浓度 在一定温度下,若没有其他的外界作用,半导在一定温度下,若没有其他的外界作用,半导体中的自由电子和空穴是由热激发产生的。电子从体中的自由电子和空穴是由热激发产生的。电子从不断热振动的晶体中获得一定的能量,从价带跃迁不断热振动的晶体中获得一定的能量,从价带跃迁到导带,形成自由电子,同时在价带中出现自由空到导带,形成自由电子,同时在价带中出现自由空穴。在热激发同时,电子也从高能量的量子态跃迁穴。在热激发同时,电子也从高能量的量子态跃迁到低能量的量子状态,向晶格放出能量,这就是到低能量的量子状态,向晶格放出能量,这就是载载流子的复合流子的复合。 在一定温度下,若没有其
8、他外界作用,激发和复在一定温度下,若没有其他外界作用,激发和复合两种过程形成平衡,称为热平衡状态,此时载流合两种过程形成平衡,称为热平衡状态,此时载流子称子称热平衡载流子。热平衡载流子。其其浓度即为某一稳定值。浓度即为某一稳定值。 热平衡载流子热平衡载流子11)(kTEEFeEf11)(1kTEEFeEf费米分布函数空穴的费米分布函数11)(kTEEFeEf11)(kTEEFeEfT=0K1/2T2T1ET1T2FE)(Ef1例:例:量子态的能量量子态的能量 E 比比 EF 高或低高或低 5kT (0.13eV)当当 EEF 5 kT 时:时: f (E) 0.007当当 EEF 5 kT 时
9、:时: f (E) 0.993温度不很高时温度不很高时: 能量大于能量大于 EF 的量子态基本没有被电子占据的量子态基本没有被电子占据 能量小于能量小于 EF 的量子态基本为电子所占据的量子态基本为电子所占据 电子占据电子占据 EF 的概率在各种温度下总是的概率在各种温度下总是 1/2费米能级由温度和杂质浓度决定费米能级由温度和杂质浓度决定杂质半导体中,杂质半导体中,EF的位置既反映的位置既反映其导电类型,又反映其掺杂水平其导电类型,又反映其掺杂水平四、非平衡载流子四、非平衡载流子 半导体在外界条件有变化(如受光照、外电场作用、温度变化)时,载流子浓度要随之发生变化,此时系统的状态称为非平衡态
10、。相对于热平衡状态时,增加的载流子称为非平衡载流子。 注入方式:注入方式: 电注入:电注入: 光注入:光注入: 产生与复合产生与复合v使非平衡载流子浓度增加的过程称为载流子的产生,单位时间、单位体积内增加的电子空穴对数目称为产生率G。v使非平衡载流子浓度减少的过程称为载流子的复合,是指电子与空穴相遇时,成对消失,以热或发光方式释放出多余的能量。单位时间、单位体积内减少的电子空穴对数目称为复合率R。非平衡载流子寿命非平衡载流子寿命 v非平衡载流子寿命:非平衡载流子从产生到复合之前的平均存在时间。它表征复合的强弱,小表示复合快,大表示复合慢。v决定了光电器件的时间特性,采用光激发方式的光生载流子寿
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