位错之间的交互作用ppt课件.ppt
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1、第五节第五节 位错之间的交互作用位错之间的交互作用 晶体中存在位错时,在它的周围便产生一个应晶体中存在位错时,在它的周围便产生一个应力场。力场。实际晶体中往往有许多位错同时存在。实际晶体中往往有许多位错同时存在。任一位错任一位错在其在其相邻位错应力场作用相邻位错应力场作用下都会受到下都会受到作用力作用力,此交互作用力随,此交互作用力随位错类型位错类型、柏氏矢量大小柏氏矢量大小、位错线相对位向位错线相对位向的变化而变化。的变化而变化。一、两个平行螺位错间的作用力一、两个平行螺位错间的作用力位错位错S1在在(r,)处的处的应力场应力场为为 ,位错位错S2在此应力场中在此应力场中受到的力受到的力为:
2、为:两平行螺型位错两平行螺型位错间的作用力间的作用力fr:大小大小与两位错与两位错强度强度的的乘积乘积成成正比正比,而与两位错,而与两位错间距间距成成反比反比,其,其方向方向沿径沿径向向 ,垂直垂直于所作用的位错线。于所作用的位错线。同理,位错同理,位错S1在在 S2的应力场的的应力场的 作用下也将受到一个作用下也将受到一个大小相等,方大小相等,方 向相反向相反的作用力的作用力。rGbz 21 rbbGbfzr 2212 r当当 和和 同向时,即为同号螺位错,同向时,即为同号螺位错, fr0,作用力为排斥力,作用力为排斥力,若若 和和 反向时,即为异号螺位错,反向时,即为异号螺位错, fr|y
3、|时,若时,若x0,则,则fx0; 若若x0, 则则fx0,则,则fx0;若;若x0, 则则fx0,表,表明位于明位于同一滑移面上的同号位错总是互相排斥的同一滑移面上的同号位错总是互相排斥的。在在|x|0,则,则fx 0; 若若x0,表明位错表明位错e2位于位于 、 区时区时, 两位错互相吸引;两位错互相吸引;当当|x|=|y| 时,时,fx=0,不存在使位错,不存在使位错e2滑移的力,但滑移的力,但当它稍许偏离此位置时,所受到的力会使它当它稍许偏离此位置时,所受到的力会使它偏离的更偏离的更远远,即,即y=x和和y=-x两条线是位错两条线是位错e2的介稳定位置的介稳定位置。当当x=0, fx=
4、0,当它稍许偏离此位置时,所受到的,当它稍许偏离此位置时,所受到的力就使它力就使它退回原处退回原处,即,即Y轴是位错轴是位错e2的稳定平衡位置的稳定平衡位置。 处于处于相互平行的滑移面上的同号刃位错相互平行的滑移面上的同号刃位错,将力图沿,将力图沿着着与与柏氏矢量垂直柏氏矢量垂直的方向排列起来。的方向排列起来。这样的位错组态构成这样的位错组态构成小角度晶界小角度晶界,也叫做,也叫做位错壁位错壁(位位错墙错墙)。回复过程中多边化后的亚晶界就是由此形成的。回复过程中多边化后的亚晶界就是由此形成的。两刃位错在两刃位错在X-轴方向上的交互作用轴方向上的交互作用 (a)同号位错;同号位错; 对于对于两个
5、两个异号刃位错异号刃位错,其交互作用力与同号位错,其交互作用力与同号位错相反,位错相反,位错e e2 2的稳定平衡位置和亚稳定平衡位置对的稳定平衡位置和亚稳定平衡位置对换,即换,即| |x|=|y| x|=|y| 时,为稳定平衡时,为稳定平衡位置位置。两刃位错在两刃位错在X-轴方向上的交互作用轴方向上的交互作用(a)同号位错;同号位错;(b)异号位错异号位错fy是使是使e2沿沿y轴攀移的力。轴攀移的力。当当b1、b2同号同号时,时, fy与与y同号同号。位错位错e2在位错在位错e1的滑移面以上时,即的滑移面以上时,即 y0,则则fy0,位错将向上攀移;,位错将向上攀移;当当e2在在e1滑移面以
6、下时,滑移面以下时,fy0, 则则e2向下向下攀移。攀移。因此,两因此,两同号位错沿同号位错沿y轴方向互相排斥轴方向互相排斥。而而异号位错异号位错间的间的fy与与y异号异号,所以,所以沿沿y轴方轴方向互相吸引向互相吸引。第六节第六节 位错的增殖、塞积与交割位错的增殖、塞积与交割一位错的生成一位错的生成晶体中的晶体中的位错来源位错来源:1、晶体、晶体生长过程中生长过程中产生位错产生位错。先、后凝固部分先、后凝固部分点阵常数有差异,点阵常数有差异,形成位错作为形成位错作为过渡;过渡;生长着的生长着的晶体偏转晶体偏转或或弯曲弯曲引起引起相邻晶块之间有位相邻晶块之间有位相差,相差,它们之间会形成位错;
7、它们之间会形成位错;晶粒晶粒受力变形受力变形而形成位错。而形成位错。2、自自高温高温较快冷却时较快冷却时晶体内存在大量过饱和空晶体内存在大量过饱和空位,位,空位聚集形成位错空位聚集形成位错。3、晶体内部的某些界面晶体内部的某些界面出现应力集中出现应力集中现象,使现象,使该局部区域发生滑移该局部区域发生滑移,在该区域产生位错。,在该区域产生位错。二、位错的增殖二、位错的增殖充分退火的金属:充分退火的金属: =10101012/m2;经剧烈冷变形的金属:经剧烈冷变形的金属: =10151016/m2。高出高出45个数量级个数量级:变形过程中,位错肯定以某:变形过程中,位错肯定以某种方式不断增殖了。
8、种方式不断增殖了。位错源:位错源:能增殖位错的地方能增殖位错的地方。位错增殖的机制有多种,其中最重要的是位错增殖的机制有多种,其中最重要的是FrankRead源源,简称,简称F-R源源。F-RF-R源源过程:过程:位错线弯曲和扩展中,位错线弯曲和扩展中,b不不变,位错线各点性质在变变,位错线各点性质在变。1点为左螺旋,点为左螺旋,7点为右螺点为右螺旋,两点相遇时,彼此抵消,旋,两点相遇时,彼此抵消,位错线断开成两部分。位错线断开成两部分。外面是封闭的位错环,向外外面是封闭的位错环,向外扩展到晶体表面,产生一个扩展到晶体表面,产生一个b的的滑移量;滑移量;而环内的而环内的CD在在和和T的作用的作
9、用下变直,回到原始状态。下变直,回到原始状态。CD重复重复上述过程,上述过程,放出大放出大量位错环量位错环,造成,造成位错的增殖位错的增殖。启动启动F-RF-R源所需要的切应力源所需要的切应力当外加切应力当外加切应力作用时,作用时,CD上将受到的力有:上将受到的力有:f=b:驱动力驱动力, 使位错使位错向前弯曲向前弯曲。线张力线张力T:T = (1/2)Gb2,使位错,使位错变直变直。平衡时有:平衡时有:fds = 2Tsin(d/2)ds=rd,sin(d/2)d/2平衡半径平衡半径:r =Gb/2使位错弯曲到半径使位错弯曲到半径r所需的切应力所需的切应力: = Gb/2r半圆半圆时:时:r
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