原子吸收光谱的产生ppt课件.ppt
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1、2022年8月1日星期一邢 志清华大学分析中心地址:清华大学理科楼4205电话:62781687Email: 概概 述述原子吸收光谱的原理原子吸收光谱的原理原子吸收光谱分析的仪器原子吸收光谱分析的仪器原子吸收光谱的干扰与消除原子吸收光谱的干扰与消除实验技术实验技术 一、历史一、历史 原子吸收光谱法是一种基于待测基态原子对特原子吸收光谱法是一种基于待测基态原子对特征谱线的吸收而建立的一种分析方法。这一方法的征谱线的吸收而建立的一种分析方法。这一方法的发展经历了发展经历了3 3个发展阶段个发展阶段:1 1、原子吸收现象的发现、原子吸收现象的发现18021802年年WollastonWollasto
2、n发现太阳光谱的暗线;发现太阳光谱的暗线;18591859年年KirchhoffKirchhoff和和BunsonBunson解释了暗线产生的原解释了暗线产生的原因;因;概概 述述太阳光暗线 ECE = h = h基态第一激发态热能热能2 2、空心阴极灯的发明、空心阴极灯的发明 1955年Walsh发表了一篇论文“Application of atomic absorption spectrometry to analytical chemistry”,解决了原子吸收光谱的光源问题,50年代末 Varian 和 PerkinElmer公司先后推出了原子吸收商品仪器。空心阴极灯火焰棱镜光电管Va
3、rian Model AA-4 Circa 19661952-531952-53瓦里安终生顾问、澳洲人瓦里安终生顾问、澳洲人 Alan WalshAlan Walsh先生发表了原子吸收分析的先生发表了原子吸收分析的突突破性破性论文论文19601960世界上世界上第一台商品化的原子吸收第一台商品化的原子吸收问世问世19661966第一次采用第一次采用氧化亚氮氧化亚氮/ /乙炔火焰原子吸收乙炔火焰原子吸收19711971世界上第一台世界上第一台纵纵向加热石墨炉向加热石墨炉19711971首先发展首先发展ZeemanZeeman 背景校正技术,并获专利背景校正技术,并获专利1981 1981 首家实
4、现操作自动化首家实现操作自动化19841984第一台连续氢化物发生器第一台连续氢化物发生器19901990推出世界上最先进的推出世界上最先进的Mark VI Mark VI 火焰燃烧头火焰燃烧头19921992Varian-OSI Varian-OSI 获得获得 ISO-9001 ISO-9001 质量认证证书质量认证证书19951995独家推出在线火焰自动进样器(独家推出在线火焰自动进样器(SIPS8SIPS8)1991998 8世界上第一台快速分析火焰原子吸收世界上第一台快速分析火焰原子吸收220FS220FS20022002世界上第一世界上第一套实现火焰和石墨炉同时分析的原子吸收光谱仪套
5、实现火焰和石墨炉同时分析的原子吸收光谱仪3 3、电热原子化技术的提出、电热原子化技术的提出 19591959年里沃夫提出电热原子化技术,大大提高了年里沃夫提出电热原子化技术,大大提高了原子吸收的灵敏度原子吸收的灵敏度1、灵敏度高(火焰法:1 ng/ml;石 墨炉:100-0.01 pg )2、准确度好(火焰法:RSD 1%,石墨炉 :3-5%)3、选择性高(可测元素达70个,相互干扰很小)缺点:不能多元素同时分析二、原子吸收光谱法的特点二、原子吸收光谱法的特点概概 述述原子吸收光谱的原理原子吸收光谱的原理原子吸收光谱分析的仪器原子吸收光谱分析的仪器原子吸收光谱的干扰与消除原子吸收光谱的干扰与消
6、除实验技术实验技术 原子吸收是一个受激吸收跃迁的过程。当有辐射通过自由原子蒸气,且入射辐射的频率等于原子中外层电子由基态跃迁到较高能态所需能量的频率时,原子就产生共振吸收。原子吸收分光光度法就是根据物质产生的原子蒸气对特定波长光的吸收作用来进行定量分析的。 原子吸收光的波长通常在紫外和可见区。h共振吸收一、原子吸收光谱的产生一、原子吸收光谱的产生 当光源发射的某一特征波长的辐射通过原子蒸气时,被原子中的外层电子选择性地吸收,使透过原子蒸气的入射辐射强度减弱,其减弱程度与蒸气相中该元素的原子浓度成正比。当实验条件一定时,蒸气相中的原子浓度与试样中该元素的含量(浓度)成正比。因此,入射辐射减弱的程
7、度与试样中该元素的含量(浓度)成正比。其定量关系式是:KcLIIA0lg式中:A吸光度; I0入射辐射强度; I透过原子蒸气吸收层的透射辐射强度; K吸收系数; c样品溶液中被测元素的浓度; L原子吸收层的厚度。 当在一定条件下达到热平衡后,处在激发态和基态的当在一定条件下达到热平衡后,处在激发态和基态的原子数的比值遵循原子数的比值遵循BoltzmanBoltzman分布:分布:NiN0=gig0Exp(- )EiKTNi, N0 激发态和基态原子数gi, g0 激发态和基态统计权重K Boltzman常数T 热力学温度Ei 激发能由此表可以看出:T Ni/NoEi Ni/NoT 3000 N
8、i/No 10-3 可以忽略EOE1E2 原子吸收线指强度随频率变化的曲线,从理论上讲原子吸收线应是一条无限窄的线,但实际上它有一定宽度。1、自然宽度 由于激发寿命原因,原子吸收线有一定自然宽度,约为10-5 nmIo Io 二、原子吸收线的轮廓二、原子吸收线的轮廓2. Dopple 变宽 由于原子的热运动而引起的变宽D=2 oC2(ln2)KTmKBoltzmann常数光速Cm原子质量若用M(原子量)代替m, 则:m=1.660510-24MD= 7.16 10-7 oTMTDDopple 变宽可达10-3 nm 数量级 3、压力变宽 压力变宽指压力增大后,原子之间相互碰撞引起的变宽。分为:
9、 Lorentz 变宽:指被测元素原子和其它粒子碰撞引起的变宽( 5000,第一项起支配作用当液体流量大,Qg/QL 5000,第二项起支配作用平均直径均在10-20 m 之间。do= 0.5+597 0.45 1000 1.5585a- s( )0.5QgQL式中: a : 气流速度; s:液体速度; : 表面张力; :溶液密度; :溶液粘度;QL :溶液流量;Qg:气体流量;do:气溶胶平均直径据实验: do 30 m 在火焰中通过 30 mm 才脱溶剂因此应创造条件,产生直径小于10 m 的气溶胶IO 超声雾化产生的气溶胶平均直径分布范围窄,直径小,雾化效率高。但记忆效应大。 超声雾化的
10、气溶胶直径计算公式为:do=( ) 4 F21/ 3F 超声频率 火焰原子吸收的灵敏度目前受雾化效率制约,因为目前商品雾化器的雾化效率小于15%。(2)燃烧过程两个关键因素: 燃烧温度 火焰氧化-还原性燃烧温度由火焰种类决定:燃气助燃气温度(K)乙炔空气2500笑气3000氢气空气2300火焰的氧化-还原性火焰的氧化-还原性与火焰组成有关化学计量火焰贫燃火焰富燃火焰燃气=助燃气燃气助燃气中性火焰氧化性火焰还原性火焰温度 中温度 低温度 高适于多种元素适于易电离元素适于难解离氧化物火焰的氧化-还原性还与火焰高度有关 火焰高度增加,氧化性增加火焰高度对不同稳定性氧化物的影响MgAgCrA火焰高度M
11、O+C=M+COMX = M+XM=M+ + eM+O=MO原子吸收分析中需要研究的条件之二:火焰原子化条件的选择火焰类型燃气-助燃气比例测量高度2、石墨炉电热原子化6mm 4mm30 mm石墨炉外型 常用的非火焰原子化器是管式石墨炉原子化器,管式石常用的非火焰原子化器是管式石墨炉原子化器,管式石墨炉是用石墨管做成,是将样品用进样器定量注入到石墨管墨炉是用石墨管做成,是将样品用进样器定量注入到石墨管中,并以石墨管作为电阻发热体,通电后迅速升温,使试样中,并以石墨管作为电阻发热体,通电后迅速升温,使试样达到原子化的目的。它由加热电源、保护气控制系统和石墨达到原子化的目的。它由加热电源、保护气控制
12、系统和石墨管状炉组成。外电源加于石墨管两端,供给原子化器能量,管状炉组成。外电源加于石墨管两端,供给原子化器能量,电流通过石墨管产生高达电流通过石墨管产生高达30003000的温度,使置于石墨管中被的温度,使置于石墨管中被测元素变为基态原子蒸气。保护气控制系统是控制保护气的,测元素变为基态原子蒸气。保护气控制系统是控制保护气的,仪器启动,保护气仪器启动,保护气ArAr气流通,空烧完毕,切断气流通,空烧完毕,切断ArAr气流。外气气流。外气路中的路中的ArAr气沿石墨管外壁流动,以保护石墨管不被烧蚀,内气沿石墨管外壁流动,以保护石墨管不被烧蚀,内路的路的ArAr气从管两端流向管中心,由管中心孔流
13、出,以有效地气从管两端流向管中心,由管中心孔流出,以有效地除去在干燥和灰化过程中产生的基体蒸气,同时保护已经原除去在干燥和灰化过程中产生的基体蒸气,同时保护已经原子化了的原子不再被氧化。在原子化阶段,停止通气,以延子化了的原子不再被氧化。在原子化阶段,停止通气,以延长原子在吸收区内的平均停留时间,避免对原子蒸气的稀释。长原子在吸收区内的平均停留时间,避免对原子蒸气的稀释。 在石墨炉原子化系统中,火焰被置于氩气环境下的电加热石墨管所代替。在石墨炉原子化系统中,火焰被置于氩气环境下的电加热石墨管所代替。氩气可防止石氩气可防止石 墨管在高温状态下迅速氧化并在干燥、灰化阶段将基体组份墨管在高温状态下迅
14、速氧化并在干燥、灰化阶段将基体组份及其它干扰物质从光路中除及其它干扰物质从光路中除 去。少量样品(去。少量样品(1至至70 mL, 通常在通常在 20 mL左右)左右)被加入热解涂层石墨管中。石墨管上的热解涂层可有效防止石墨管的氧化,被加入热解涂层石墨管中。石墨管上的热解涂层可有效防止石墨管的氧化,从从 而延长石墨管的使用寿命。同时,涂层也可防止样品侵入石墨管从而提而延长石墨管的使用寿命。同时,涂层也可防止样品侵入石墨管从而提高灵敏度和重复高灵敏度和重复 性。性。 石墨管被电流加热,电流的大小由可编程控制电路控石墨管被电流加热,电流的大小由可编程控制电路控制,从而在加热过程中可按制,从而在加热
15、过程中可按 一系列升温步骤对石墨管中的样品进行加热,一系列升温步骤对石墨管中的样品进行加热,达到除去溶剂和大多数基体组份然后将样达到除去溶剂和大多数基体组份然后将样 品原子化产生基态自由原子。分品原子化产生基态自由原子。分子的分解情况取决于原子化温度、加热速率及热石墨管子的分解情况取决于原子化温度、加热速率及热石墨管 管壁周围环境等因管壁周围环境等因素。素。 石墨管中的样品得以完全原子化,并在光路中滞留较长时间(相对火焰石墨管中的样品得以完全原子化,并在光路中滞留较长时间(相对火焰法而言)。因而法而言)。因而 该方法可是灵敏度大大提高,使检出限降低到该方法可是灵敏度大大提高,使检出限降低到pp
16、b级。主要级。主要原因是在测量时,溶剂不复存在,也没有火焰原子化系统那样,样品被气体原因是在测量时,溶剂不复存在,也没有火焰原子化系统那样,样品被气体稀释的情况出现。虽然基态自由原子仍然稀释的情况出现。虽然基态自由原子仍然 会被干扰,但却呈现出与火焰原会被干扰,但却呈现出与火焰原子化系统所不同的特性。通过正确地选择分析条件、化子化系统所不同的特性。通过正确地选择分析条件、化 学基体改进剂更易学基体改进剂更易于控制石墨炉原子化过程。由于采用石墨炉技术可对众多基体类型的于控制石墨炉原子化过程。由于采用石墨炉技术可对众多基体类型的 样品样品进行直接分析,从而可减少样品制备过程所带来的误差。同时,石墨
17、炉技术进行直接分析,从而可减少样品制备过程所带来的误差。同时,石墨炉技术可实现可实现 无人监管全自动分析。无人监管全自动分析。 石墨炉的优点是:试样原子化效率高,不被稀释,原子在试样原子化效率高,不被稀释,原子在吸收区域平均停留时间长,灵敏度比火焰法高。石墨炉加吸收区域平均停留时间长,灵敏度比火焰法高。石墨炉加热后,由于有大量碳存在,还原气氛强;石墨炉的温度可热后,由于有大量碳存在,还原气氛强;石墨炉的温度可调,如有低温蒸发干扰元素,可以在原子化温度前分馏除调,如有低温蒸发干扰元素,可以在原子化温度前分馏除去。样品用量少,并且可以直接固体进样。原子化温度可去。样品用量少,并且可以直接固体进样。
18、原子化温度可以自由调节,因此可以根据元素的原子化温度不同,选择以自由调节,因此可以根据元素的原子化温度不同,选择控制温度。控制温度。石墨炉的缺点是:装置复杂。样品基体蒸发时,可能造成装置复杂。样品基体蒸发时,可能造成较大的分子吸收,石墨管本身的氧化也会产生分子吸收,较大的分子吸收,石墨管本身的氧化也会产生分子吸收,石墨管等固体粒子还会使光散射,背景吸收大,要使用背石墨管等固体粒子还会使光散射,背景吸收大,要使用背景校正器校正。管壁能辐射较强的连续光,噪声大。因为景校正器校正。管壁能辐射较强的连续光,噪声大。因为石墨管本身的温度不均匀,所以要严格控制加入样品的位石墨管本身的温度不均匀,所以要严格
19、控制加入样品的位置,否则测定重现性不好,精度差。置,否则测定重现性不好,精度差。 平台的作用是推迟样品原子化的时间,使原子化在石墨管达到稳定高温状态时发生。其 好处是在较高温度下,可减少干扰及背景。 热解平台是一片固体热解涂层石墨,中央有一可盛40mL样品的凹槽。平台可安装在石墨管中。石墨管与平台只在平台边沿部分与石墨管管壁保持最少的接触点。 但平台的使用有一定局限性,一是最大进样量只能到40mL;再者,平台的安装,略微降低了光通量因此需要仔细调整石墨炉炉体的位置,尽量是光通量最大;编程时温度需 略微高一些,同时所得结果的托尾现象也较严重。因此,在管壁法能满足要求时应尽量 采用管壁法。 无涂层
20、管无涂层管热解涂层热解涂层涂层平台涂层平台石墨炉特性 :(1)自由原子在吸收区停留时间长,达火焰的103倍(2)原子化在Ar气气氛中进行,有利于氧化物分解(3)原子化效率高,检出限比火焰低(4)样品量小缺点:基体干扰管壁的时间不等温性管内的空间不等温性实现等温原子化的措施:(1)采用里沃夫平台 AtomizeAshDryTimeProtective Sheath GasPyrolytic Graphite Coating水冷水冷气体出口气体出口光路光路密封的石英窗密封的石英窗惰性气体惰性气体密封密封(2)提高升温速率石墨炉原子化采用程序升温过程程序干燥灰化原子化清除温度稍高于沸点800度左右2
21、500度左右高于原子化温度200度左右目的除去溶剂除去易挥发测量清除残留物基体有机物Tt干燥灰化原子化清除石墨炉程序通常有下列三个步骤:石墨炉程序通常有下列三个步骤: 干燥:干燥:当样品被注入到石墨管中后,石墨管被升温至溶剂的沸点附当样品被注入到石墨管中后,石墨管被升温至溶剂的沸点附近(略低于沸点通常为近(略低于沸点通常为 8080 200oC200oC)。溶剂被蒸发,样品)。溶剂被蒸发,样品在石墨管管壁(或平台)表面形成一固体薄膜。在石墨管管壁(或平台)表面形成一固体薄膜。 灰化:灰化:在该步骤中,温度升到一定温度,尽可能多地除掉基在该步骤中,温度升到一定温度,尽可能多地除掉基 体物体物质,
22、同时不能使被分析元质,同时不能使被分析元 素受到损失。灰化素受到损失。灰化 温度通常在温度通常在350 - 1600oC350 - 1600oC。灰化阶段,固体物质被分解,使被分析元素。灰化阶段,固体物质被分解,使被分析元素成为难熔组份,如氧化物。成为难熔组份,如氧化物。 原子化:原子化: 第三步是原子化阶段,温度从灰化温度迅速升到原子化高温第三步是原子化阶段,温度从灰化温度迅速升到原子化高温状态,使灰化阶段所剩下的物质分解、蒸发,形成自由原子状态,使灰化阶段所剩下的物质分解、蒸发,形成自由原子基态云,出现在光路中。原子化温度的高低,取决于被基态云,出现在光路中。原子化温度的高低,取决于被 分
23、分析元素的挥发性,通常在析元素的挥发性,通常在1800oC1800oC(钙)到(钙)到3000oC3000oC(硼)之间。(硼)之间。 石墨炉升温程序中干燥阶段的参数设置是否合理,对是石墨炉升温程序中干燥阶段的参数设置是否合理,对是否能够得到最佳分析信号及最好精度,是至关重要的。在分否能够得到最佳分析信号及最好精度,是至关重要的。在分析过程中,对不同特性的样品,可能需要通过试验观察不同析过程中,对不同特性的样品,可能需要通过试验观察不同干燥时间及温度下所得结果,来找到最佳参数。样品必须恒干燥时间及温度下所得结果,来找到最佳参数。样品必须恒定地沉积在热解石墨管或石墨管平台上,得以充分干燥而又定地
24、沉积在热解石墨管或石墨管平台上,得以充分干燥而又不损失或浸入石墨管的石墨层内,因此作为方法研究的一个不损失或浸入石墨管的石墨层内,因此作为方法研究的一个重要环节就是观察样品的干燥情况,以正确地设置干燥参数。重要环节就是观察样品的干燥情况,以正确地设置干燥参数。 采用石墨炉方法分析样品比用火焰法要花费更长时间,采用石墨炉方法分析样品比用火焰法要花费更长时间,且所能分析的元素数量也较火焰法少。但由于且所能分析的元素数量也较火焰法少。但由于石墨炉法可大大提高元素分析的灵敏度,因而应用领域广泛。 原子吸收分析中需要研究的条件之三:石墨炉原子化条件的选择灰化、原子化 条件的选择l思考题l原子吸收空心阴极
25、灯发射的是宽度很窄的锐线,也是待测元素的特征谱线,因此分光系统可以省略,这种说法对不对?3、低温原子化 低温原子化是利用某些元素自身或其氢化物在低温下的易挥发性实现原子化的。例如AsO33- +BH4- + H+ AsH3 AsH3+_三 、分光器狭缝光栅反射镜检测元件 作 用 将所需要的共振吸收线分离出来 部 件 狭 缝、反射镜、色散元件 要 求 能分辨开 Ni 三线Ni 230.003 nmNi 231.603 nmNi 231.096 nm1.600 nm0.507 nm或能分辨Mn的两条谱线Mn 279.5 nmMn 279.8 nm0.3 nm分辨率 0.3 nm四、检测系统作用 检
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