半导体物理与器件-PPT课件-教学-作者-裴素华-第1章-半导体材料的基本性质.ppt
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1、第1章 半导体材料的基本性质 1.1 半导体与基本晶体结构1.1.1 半导体导电能力介于导体于绝缘体之间的一些单晶体,就叫半导体。1.杂质敏感性2.负温度系数3.光敏性4.电场、磁场效应1.1.2半导体材料的基本特性 晶体结构是值原子在三维空间中周期性排列着的单晶体。n晶胞:单晶体结构可以用任意一个最基本的单元所代表,称这个最基本的单元叫晶胞。n晶格:单晶体是由晶胞在三维空间周期性重复排列而成,整个晶体就像网格一样,称为晶格。n格点与点阵,组成晶体的原子重心所在的位置称为格点,格点的总体称点阵。1.1.3 半导体的晶体结构3种常见的立方晶体的晶胞a)简单立方 b)体心立方 c)面心立方金刚石结
2、构的晶胞与平面示意图a)金刚石型结构的晶胞 b)硅晶体的平面结构示意图金刚石型结构a)正四面体 b)结构1.1.4晶面及其表示方法密勒指数:密勒指数是界定晶体中不同平面的简单办法,它可以由以下步骤确定:1.找出晶面在3个直角坐标轴的截距值(以晶格常数为计量单位);2.取这3个截距值的倒数,将其换算成最小的整数比;3.把结果用圆括号括起来(hkl),即为该晶面的密勒指数。1.1.5 半导体材料简介n材料永远起着决定一代社会科技水平的关键作用n锗是最早实现提纯和完美晶体生长的半导体材料 n硅是最典型、用量最广泛而数量最多的半导体材料 n近年来一些化合物半导体材料已被应用于各种器件的制作中 n半导体
3、已经发展成为种类繁多的大科门类材料 1.2半导体的能带1.2.1 孤立原子中电子能级孤立氢原子中电子能量公式:m0 是自由电子的惯性质量;q为电子电荷;0 为真空介电常数;h为普朗克常数;n为量子数取正整数。根据上式可得氢原子能级图。1.2.2 晶体中电子的能带本节重点讨论有原子结合成晶体时电子的运动规律1.晶体中电子的共有化运动价电子轨道重叠运动区域连成一片示意图2.晶体中电子能带的形成N个原子结合成晶体前后的能级状态单个原子的能级与晶体能带的对应图1.2.3 硅晶体能带的形成过程1.2.4 能带图的意义及简化表示晶体实际的能带图比较复杂,可以把复杂的能带图进行简化绝缘体、半导体和导体的简化
4、能带图a) 绝缘体 b)半导体 c)导体半导体能带简化表示a)能带简化表示 b) 能带最简化表示一般用“Ec”表示导带底的能量,用Ev表示价带底的能量,Eg表示禁带宽度。1.3 本征半导体与本征载流子浓度1.3.1 本征半导体的导电结构半导体填充能带的情况a)T=0K b) T0K本征半导体是指完全纯净的 结构完整的 不含任何杂质和缺陷的半导体.n本征半导体导带电子和价带空穴均能在外加电场作用下,产生定向运动形成电流,把上述两种荷载电流的粒子称为半导体的俩种载流子.n导带电子浓度和价带空穴浓度永远相等,这是本征半导体导电机构的一个重要特点.1.3.2 热平衡状态与热平衡载流子浓度n在本征半导体
5、中,载流子是由价带电子受晶格热运动的影响激发到导电带中而产生的,热激发有使载流子增加的倾向.n导带电子以某种形式放出原来吸收的能量与空穴复合,复合作用又使电子和空穴的数目减少.n我们把载流子的热激发产生率与复合率达到平衡的状态,称为半导体的热平衡状态.热平衡状态下的载流子浓度值称为热平衡载流子浓度.1.3.3 本征载流子浓度n要分析载流子在外界作用下的运动规律,必须要知道它们的浓度及浓度分布情况.n在半导体的导带和价带中,有很多能级存在,相邻间隔很小,约为 数量级,可近似认为能级是连续的,故可把能带分为一个一个能量很小的间隔来处理. n设电子浓度为n,首先计算能量增量dE范围内的电子浓度. n
6、定义n(E)是单位体积内允许的能态密度N(E)与电子占据该能量的机率函数f(E)的乘积.对N(E) f(E) dE从导带底Ec到导带顶Etop进行积分,可得电子浓度n. 2210eVn式中N(E)称为能态密度,在单位体积晶体中,允许的能态密度表达式为3/21/234 (2)( )()nCmN EEEh( )( ) ( )EtopEtopEcEcnn E dEN E f E dEn对于价带空穴,单位体积中允许的能态密度表达式为3/21/234 (2)( )()pVmN EEEhn式中mn代表电子的有效质量;mp代表空穴的有效质量.n电子占据能量为E的机率函数称为费米分布函数,其表达式为nk为玻尔
7、兹曼常数;T为热力学温度;EF是费米能级.n可以用曲线把费米分布函数式表示出来. ()/1()1FEEkTf Ee不同温度下费米分布函数随(E-EF)的变化关系 a) T=0K b)T0K(T2T1)下图从左到右形象描绘出了能级分布,费米分布及本征半导体与空穴在能带中的分布情况.a)能级分布图 b) 费米分布曲线 c) 电子与空穴的分布d) 载流子浓度1.费米能级 费米能级在能带中所处的位置,直接决定半导体电子和空穴浓度. 费米能级的位置1.3.4 费米能级与载流子浓度的关系2.两种载流子浓度的乘积由上式可以看出,随温度的升高.半导体np乘积的数值是要增大的.利用本征半导体电子和空穴浓度的关系
8、可以得到 因此半导体两种载流子浓度的乘积等于它的本质载流子浓度的平方./()/()()gCVEkTEEkTCVCVnpN NeN Ne/2()gEkTCVinpN Nen3.本征载流子浓度与本征费米能级右图为 Si和GaAs中本征载流子浓度与温度倒数间的关系1.4 杂质半导体与杂质半导体的载流子浓度1.4.1 N型半导体与P型半导体nN型半导体:在纯净的本征半导体材料中掺入施主杂质后,施主杂质电离放出大量能导电的电子,使这种半导体的电子浓度n大于空穴浓度p,把这种主要依靠电子导电的半导体称为N型半导体,如图a所示。nP 型半导体:在纯净的本征半导体材料中掺入受主杂质后,受主杂质电离放出大量能导
9、电的空穴,使这种半导体的空穴浓度p大于电子浓度n,把这种主要依靠空穴导电的半导体称为P 型半导体,如图b所示。硅中的施主杂质和受主杂质a)硅中掺入磷原子 b)硅中掺入硼原子1.4.2 施主与受主杂质能级半导体的杂质能级和杂质的电离过程能带图1.4.3 杂质半导体的载流子浓度在室温下对杂质半导体来说,要同时考虑杂质激发和本征激发两种结构,杂质半导体载流子的产生情况如图杂质半导体中的杂质激发和本征激发a) N型半导体 b)P型半导体22iiDnnpnN22iiAnnnpN对于N型半导体,其少数载流子的浓度p为对于P型半导体,其少数载流子的浓度n为1.4.4 杂质半导体的费米能级及其与杂质浓度的关系
10、杂质半导体费米能级位置a)本征半导体 b)N型半导体 c)P型半导体1.4.5 杂质半导体随温度的变化不论半导体中的杂质激发还是本征激发,都是依靠吸收晶格热振动能量而发生的。由于晶格的热振动能量是随温度变化的,因而载流子的激发也要随温度而变化。载流子激发随温度的变化a)温度很低 b)室温临近 c)温度较高 d)温度很高伴随着温度的升高,半导体的费米能级也相应地发生变化杂质半导体费米能级随温度的变化a)N型半导体 b)P型半导体Si、GaAs的费米能级随温度变化曲线a)Si b)GaAs1.5 非平衡流子处于热平衡状态的载流子浓度称为热平衡载流子浓度,用n0和p0分别表示热平衡电子浓度和热平衡空
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