城市污水处理厂工艺流程设计ppt课件.ppt
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1、0%40%20%80%60%100%处理工艺工艺流程设计总结工艺选择废水概况PRESENTATION NAMECompany Name 水质要求水质要求废水特征废水特征 废水来源废水来源所处环境所处环境 所处环境:以废水以轻工、科研和文教事业为主的小城镇,其中,工业以五个工厂为主体,人口(A)为22万人。污水平均水温为25C(夏季)和15C左右(冬季);工业废水的水质不影响生物处理。废水来源:生活污水排放的生活污水排放的2700m3/d,以及五个工厂排放的污,以及五个工厂排放的污水水16000m3/d。共为:。共为:43000m3/d.废水特征:COD:605mg/l;BOD:303mg/l;
2、SS:255mg/l;NH4+N:259mg/l;PH:67约为中性污水水质要求:经当地环保部门商定:污水处理厂排水BOD530mg/l,SS30mg/l,NH4+-N30mg/l,满足河水水质要求。废水概况废水概况 工业废水与生活污水的水量与水质如下:工业废水与生活污水的水量与水质如下:类别类别 流量流量(m3/d) COD(mg/l) BOD5(mg/l) SS(mg/l) NH4+-N(mg/l) pH生活污水生活污水 27000 400 300200 56 67工业废水工业废水 甲厂甲厂 4800 600 350400 300 67乙厂乙厂 1300 1000 500700 0 6.8
3、7.5丙厂丙厂 1200 496 1850 0 中性中性丁厂丁厂 3700 657 281131 200 中性中性戊厂戊厂 5000 478 191 99 1000 中性中性城市污水处理工艺城市污水处理工艺厌氧水解一厌氧水解一接触氧化一接触氧化一沉淀工艺沉淀工艺AAO 工艺工艺方案方案A0工艺工艺方案方案生物曝气生物曝气过滤工艺过滤工艺活性污泥法活性污泥法(SBR)工艺工艺氧化沟(氧化沟(DO)工艺法工艺法 1.1.厌氧水解一接触氧化一沉淀工艺厌氧水解一接触氧化一沉淀工艺 该工艺集格栅、调节(集水)、厌氧水解、接触氧化、沉淀等多种功能于一个构筑物之中,厌氧水解区、好氧接触氧化区内悬挂填料,沉淀
4、采用斜板或斜管,污泥自然回流,机电设备少动力节省。处理水量大时按混凝土池体设计,小水量时可设备化,工艺布置紧凑,占地面积小。好氧区采用接触氧化产泥量小,回流污泥在此也可得到好氧消化,因此系统外排f亏泥量少,可定期由环卫吸粪车抽出,环境卫生条件好。厌氧水解区底部采用穿孔管布水,在填料上附着的生物膜及污泥层的作用下形成类似升流式滤池的流态,水力停留时间20h;接触氧化采用射流曝气的供氧方式,水力停留时问为40h一60h;容积负荷10一15kgCOD(m d);沉淀时间10h,沉淀区表面负荷15m3(m2D)厌氧水解、接触氧化、沉淀的总水力停留时间79h。可半年排泥一次,该工艺可完成有机物降解及硝化
5、功能。2.2.筒式筒式A AO O工艺工艺 该方案的基本设计原理是:在常规活性污泥工艺的基本流程基础之上,使生化反应池周期性的反复实现好氧、厌氧的状态,从而实现脱氮除磷的目的。可分为以除磷为主的厌氧好氧工艺和以脱氮为主的缺氧好氧工艺两种类型。 前者的工艺特点是 通过将富磷剩余污泥排出系统外实现,因而需要在短污泥条件下进行;排放的剩余污泥量较多,从而增加了污泥的处理量; 具有较宽范围的进水BOD负荷,抗冲击负荷能力强; 由于污泥停留时间短、负荷高,因此,节省了运行费用和能耗;污泥负荷与常规的活性污泥法相当,厌氧池在好氧池之前,更有利于抑制丝状菌生长、防止活性污泥的膨胀。 后者的工艺特点是: 在长
6、污泥龄、低污泥负荷条件下运行,剩余污泥量少; 回流混合液能耗大,运行费用高;缺氧池位于好氧池前面,一方面有利于控制污泥膨胀,另一方面可减轻好氧池的有机负荷,另外,反硝化过程中所产生的碱度还可以用来补偿硝化过程中消耗的碱度; 好氧池在前,缺氧池在后,有利于反硝化过程中残留有机物的进一步去除,进而提高出水水质;利用原污水碳源进行反硝化,不需要外加碳源。 3.3.氧化沟(氧化沟(DODO)工艺法)工艺法 氧化沟又名氧化渠,氧化沟工艺 Oxidation Dictch(DO),因其构筑物呈封闭的环形沟渠而得名。它是活性污泥法的一种变型。因为污水和活性污泥在曝气渠道中不断循环流动,因此有人称其为“循环曝
7、气池”、“无终端曝气池”。氧化沟的水力停留时间长,有机负荷低,其本质上属于延时曝气系统。氧化沟利用连续环式反应池(Cintinuous Loop Reator,简称CLR)作生物反应池,混合液在该反应池中一条闭合曝气渠道进行连续循环,氧化沟通常在延时曝气条件下使用。氧化沟使用一种带方向控制的曝气和搅动装置,向反应池中的物质传递水平速度,从而使被搅动的液体在闭合式渠道中循环。氧化沟一般由沟体、曝气设备、进出水装置、导流和混合设备组成,沟体的平面形状一般呈环形,也可以是长方形、L形、圆形或其他形状,沟端面形状多为矩形和梯形。 (1)一体化氧化沟。 一体化氧化沟(图2)不设调节池及单独的二沉池,沉淀
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