第二章晶体二极管ppt课件.ppt
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1、2.1 半导体物理基础知识硅(硅(Si) 锗(锗(Ge) 砷化镓(砷化镓(GaAs) 4(a) 32(b) 4 14简化模型硅和锗的原子结构模型4444共价键共价键中的两个电子A(a)(b)价电子价电子 硅和锗共价键结构原子晶阵四面体结构一 本征半导体(Intrinsic Semiconductors)完全纯净,结构完整的半导体晶体。T=0K(273),本征半导体中没有可移动的带电粒子(载流子),不能导电,相当于绝缘体。1、本征激发 T(或光照)价电子获得能量挣脱共价键束缚自由电子共价键中留下空位(空穴)空穴 带正电能移动(价电子填补空位的运动) 载流子本征激发产生两种载流子 (自由)电子空穴
2、 特征:成对出现,数目相等。复合:本征激发逆过程(电子空穴相遇释放能量成对消失)2、热平衡载流子浓度niT一定时,本征激发和复合达到动态平衡,此时载流子浓度ni是一定的。 ni=p0 =n0 p0 热平衡空穴浓度 n0 热平衡电子浓度 ni是温度的函数。Tni 在室温(T=300K)时,硅的 ni1.510 10cm -3,锗的ni2.410 13cm -3 硅的原子密度为4.961022 cm -3 ,ni仅为三万亿分之一。问题:本征半导体导电能力很低。二、杂质半导体(Doped Semiconductor) 掺入一定量的杂质元素,导电能力显著增加。1、N型半导体掺入五价元素(磷),形成多电
3、子、少空穴的杂质半导体。多数载流子(多子):电子 少数载流子(少子):空穴n0p0=ni2n0=Nd+p0Nd(Ndni) 施主杂质(Donor)二、杂质半导体(Doped Semiconductor) 掺入一定量的杂质元素,导电能力显著增加。1、N型半导体掺入五价元素(磷),形成多电子、少空穴的杂质半导体。多数载流子(多子):电子 少数载流子(少子):空穴n0p0=ni2n0=Nd+p0Nd(Ndni) 施主杂质(Donor)2、P型半导体掺入三价元素(硼),形成多空穴、少电子的杂质半导体。 多数载流子(多子):空穴 少数载流子(少子):电子受主杂质(Acceptor)p0=Na+n0Na(
4、Nani)结论:多子的浓度由杂质浓度决定;少子的浓度与温度有关;半导体器件温度特性差的根源2、P型半导体掺入三价元素(硼),形成多空穴、少电子的杂质半导体。 多数载流子(多子):空穴 少数载流子(少子):电子受主杂质(Acceptor)p0=Na+n0Na(Nani)结论:多子的浓度由杂质浓度决定;少子的浓度与温度有关;半导体器件温度特性差的根源三、漂移和扩散(两种导电机理)1、漂移运动:载流子在电场的作用下的定向运动。漂移运动产生的电流漂移电流(Drift Current)2、扩散运动:由于载流子浓度分布不均匀而产生的运动。扩散运动产生的电流扩散电流(Diffusion Current) 小
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