PCB生产工艺流程详解ppt课件.ppt
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1、第2页 主要内容主要内容第3页1、PCB产品简介 PCBPCB是为是为完成第一完成第一层次的层次的元件元件和和其它其它电电子电路子电路零件接合零件接合提供提供的的一个一个组装组装基地基地,组装成组装成一个具特定功能的一个具特定功能的模块模块或或产品产品。 所以所以PCBPCB在整在整个电子产个电子产品中,扮演了品中,扮演了连连接接所有功能的角色,也因此所有功能的角色,也因此电子产电子产品品的的功功能能出现出现故障时,最先被故障时,最先被怀疑怀疑往往就是往往就是PCBPCB,又因为又因为PCBPCB的加工工艺相对复杂,所以的加工工艺相对复杂,所以PCBPCB的生产控制尤为严格和重要的生产控制尤为
2、严格和重要。晶圓第0層次第1層次(Module)第2層次(Card)第3層次(Board)第4層次(Gate)第4页 1.1.早於早於19031903年年Mr. Albert HansonMr. Albert Hanson(阿尔伯特(阿尔伯特. .汉森)汉森)首首创创利用利用“线线路路”(Circuit)(Circuit)观观念念应应用用于电话交换系统上于电话交换系统上。它是用金。它是用金属属箔切割成箔切割成线线路路导体导体,将将之之粘于粘于石石蜡纸蜡纸上,上面同上,上面同样粘样粘上一上一层层石石蜡纸蜡纸,成了,成了现现今今PCBPCB的的构造雏形构造雏形。如下图:如下图: 2. 2. 到到1
3、9361936年,年,Dr Paul EisnerDr Paul Eisner(保罗(保罗. .艾斯纳)艾斯纳)真正真正发发明了明了PCBPCB的的制制作作技术技术,也,也发发表多表多项专项专利利。而而今天的加工工艺今天的加工工艺“图形转移技术(photoimagephotoimage transfer) transfer) ,就是,就是沿袭沿袭其其发发明明而来而来的。的。 图2、PCB的演变第5页 PCBPCB在材料、层数、制程上的多样化以适合不同的电子产品及其特殊需求。在材料、层数、制程上的多样化以适合不同的电子产品及其特殊需求。因此其种类划分比较多,以下就归纳一些通用的区别办法因此其种类
4、划分比较多,以下就归纳一些通用的区别办法, ,来简单介绍来简单介绍PCBPCB的的 分类以及它的制造工艺。分类以及它的制造工艺。 A. 以材料分 a. a. 有机材料有机材料 酚醛树脂、玻璃纤维酚醛树脂、玻璃纤维/ /环氧树脂、环氧树脂、PolyimidePolyimide、BTBT等皆属之。等皆属之。 b. b. 无机材料无机材料 铝基板、铜基板、陶瓷基板等皆属之,主要取其散熱功能。铝基板、铜基板、陶瓷基板等皆属之,主要取其散熱功能。 B. 以成品软硬区分 a. a. 硬板硬板 Rigid PCB Rigid PCB b. b. 软板软板 Flexible PCB Flexible PCB
5、见图见图1.3 1.3 c. c. 软硬结合板软硬结合板 Rigid-Flex PCB Rigid-Flex PCB 见图见图1.41.4 C. 以结构分 a. a. 单面板单面板 见图见图1.5 1.5 b. b. 双面板双面板 见图见图1.6 1.6 c. c. 多层板多层板 见图见图1.71.7 3、PCB的分类的分类第6页圖1.3圖1.4圖1.5圖1.6圖1.7圖1.8第7页4、PCB流程介绍 我们以多层板的工艺流程作为我们以多层板的工艺流程作为PCBPCB工艺介绍的引线,选择其中的工艺介绍的引线,选择其中的图形电图形电镀工艺镀工艺进行流程说明,具体分为八部分进行介绍,分类及流程如下进
6、行流程说明,具体分为八部分进行介绍,分类及流程如下:A、内层线路、内层线路(光成像工序)(光成像工序)D、孔金属化、孔金属化 (湿区工序)(湿区工序)E、外层干膜、外层干膜(光成像工序)(光成像工序)F、外层线路、外层线路G、丝印、丝印I、后工序、后工序B、层压、层压H、表面工艺、表面工艺C、钻孔、钻孔第8页A、内层线路流程介绍、内层线路流程介绍前处理前处理压膜压膜曝光曝光DESDES开料开料冲孔冲孔第9页内层线路内层线路-开料介绍开料介绍第10页目的目的:铜箔铜箔绝缘层绝缘层前处理后前处理后铜面状况铜面状况示意图示意图内层线路内层线路-前处理前处理介绍介绍第11页干膜干膜压膜前压膜前压膜后压
7、膜后内层线路内层线路压膜压膜介绍介绍压膜压膜第12页UV光光曝光前曝光前曝光后曝光后内层线路内层线路曝光曝光介绍介绍第13页显影后显影后显影前显影前内层线路内层线路显影显影介绍介绍第14页蚀刻后蚀刻后蚀刻前蚀刻前内层线路内层线路蚀刻蚀刻介绍介绍第15页去膜后去膜后去膜前去膜前内层线路内层线路退膜退膜介绍介绍第16页内层线路内层线路冲孔冲孔介绍介绍第17页全称为Automatic Optical Inspection,自动光学检测自动光学检测 目的:目的:通过光学反射原理将图像回馈至设备处理,与设定的逻辑判断原则或资料图形相比较,找出缺点位置注意事項:注意事項:由于AOI所用的测试方式为逻辑比较
8、,一定会存在一些误判的缺点,故需通过人工加以确认。内层检查工艺内层检查工艺LONG WIDTHVIOLATIONNICKSPROTRUSIONDISHDOWNFINE OPENSURFACE SHORTWIDE SHORTFINE SHORTSHAVED PADSPACING WIDTHVIOLATIONPINHOLENICKOVERETCHED PADCOPPER SPLASHMISSING PADMissing JunctionMissing Open返回主流程返回主流程第18页B、层压流程介绍、层压流程介绍棕棕化化铆铆合合叠叠板板压压合合后处理后处理钻钻孔孔第19页层压工艺层压工艺棕化棕
9、化介绍介绍第20页2L3L 4L 5L铆钉层压工艺层压工艺铆合铆合介绍介绍第21页Layer 1Layer 2Layer 3Layer 4Layer 5Layer 6层压工艺层压工艺叠板叠板介绍介绍2L3L 4L 5L第22页钢板压力牛皮纸承载盘热板可叠很多层可叠很多层层压工艺层压工艺压合压合介绍介绍第23页层压工艺层压工艺后处理后处理介绍介绍返回主流程返回主流程第24页C C、钻孔工艺、钻孔工艺钻孔钻孔介绍介绍铝盖板垫板钻头墊木板鋁板返回主流程返回主流程第25页 流程介流程介绍绍去毛去毛刺刺( (DeburrDeburr) )去去胶胶渣渣(Desmear)化化学铜学铜(PTH)(PTH)一次
10、一次铜铜Panel platingPanel plating 目的目的: : 使孔璧上的非导体部分之树脂及玻璃纤维进行金属化 方便进行后面的电镀制程,提供足够导电及保护的金属孔璧。D、孔金属化工艺流程介绍、孔金属化工艺流程介绍第26页 去毛去毛刺刺( (DeburrDeburr):): 毛毛刺刺形成原因形成原因: :钻钻孔孔后孔边缘后孔边缘未切未切断断的的铜丝铜丝及未切及未切断断的玻璃布的玻璃布 去毛刺的去毛刺的目的目的: :去除孔去除孔边缘边缘的的毛刺毛刺, ,防止防止镀镀孔不良孔不良 重要的原物料:磨刷重要的原物料:磨刷沉铜工艺沉铜工艺去毛刺除胶渣去毛刺除胶渣介绍介绍 去去胶胶渣渣( (D
11、esmearDesmear):): 胶渣胶渣形成原因形成原因: : 钻钻孔孔时时造成的高造成的高温的过玻璃化转变温度温的过玻璃化转变温度 (Tg (Tg值值),),而形成融熔而形成融熔态态, ,产生胶渣产生胶渣 去胶渣的去胶渣的目的目的: :裸露出各裸露出各层层需互需互连连的的铜环铜环,另膨松,另膨松剂剂可可 改善孔壁改善孔壁结构结构,增,增强电镀铜强电镀铜附著力。附著力。 重要的原物料:重要的原物料:KMnOKMnO4 4( (除胶剂除胶剂) )第27页 化化学学銅銅(PTH)(PTH) 化化学铜学铜之目的之目的: : 通過通過化化学沉积学沉积的方式的方式时时表面沉表面沉积积上厚度上厚度为为
12、20-4020-40微英寸微英寸的化的化学铜学铜。 孔壁变化过程:如下图孔壁变化过程:如下图化学铜原理:如右图化学铜原理:如右图PTH沉铜工艺沉铜工艺化学铜化学铜介绍介绍第28页 一次一次铜铜 一次一次铜铜之目的之目的: : 镀镀上上200-500200-500微英寸微英寸的厚度的的厚度的铜铜以保以保护仅护仅有有20-40 micro 20-40 micro inchinch厚度的化厚度的化学铜学铜不被不被后后制制程破程破坏坏造成孔破造成孔破。 重要重要生产生产物料物料: : 铜球铜球 一次銅电镀工艺电镀工艺电镀铜电镀铜介绍介绍返回主流程返回主流程第29页 流程介绍流程介绍:前处前处理理压膜压
13、膜曝光曝光显影显影 目的目的: : 经过钻经过钻孔及通孔孔及通孔电镀后电镀后, ,内外层已经连通内外层已经连通, ,本制程本制程制作制作外外层干膜层干膜, ,为外层线路的制作提供图形。为外层线路的制作提供图形。E、外层干膜流程介绍、外层干膜流程介绍第30页 前处前处理理: : 目的目的: :去除铜面上的污染物,去除铜面上的污染物,增加增加铜铜面粗糙度面粗糙度, ,以利以利于压于压膜制程膜制程重要原物料:磨刷重要原物料:磨刷外层干膜外层干膜前处理前处理介绍介绍 压压膜膜(Lamination):(Lamination): 目的目的: : 通通过热压过热压法使法使干干膜膜紧紧密附著在密附著在铜铜面
14、上面上. .重要原物料:干膜重要原物料:干膜(Dry film)(Dry film)Photo Resist第31页 曝光曝光(Exposure):(Exposure):目的目的: : 通通过图形转移技术过图形转移技术在在干干膜上曝出所需的膜上曝出所需的线线路路。 重要的原物料:底片重要的原物料:底片乾膜底片UV光外层干膜外层干膜曝光曝光介绍介绍V V光光第32页 显影显影(Developing):(Developing):目的目的: : 把尚未发生聚合反把尚未发生聚合反应的应的区域用显像液区域用显像液将之将之冲洗掉冲洗掉, ,已感已感光部分则因已发生聚合反应而洗光部分则因已发生聚合反应而洗不
15、掉而留在铜面上成不掉而留在铜面上成为蚀为蚀刻或刻或电电镀镀之阻之阻剂膜剂膜. .主要生产物料:弱碱主要生产物料:弱碱(K(K2 2COCO3 3) )一次銅乾膜外层干膜外层干膜显影显影介绍介绍返回主流程返回主流程第33页 流程流程介绍介绍: :二次二次镀铜镀铜退膜退膜线路蚀刻线路蚀刻退锡退锡 目的目的: : 将铜将铜厚度镀至客户所需求的厚度厚度镀至客户所需求的厚度。 完成客户所需求的完成客户所需求的线线路外形路外形。镀锡镀锡F、外层线路流程介绍、外层线路流程介绍第34页 二次二次镀镀铜铜: : 目的目的: :将显影将显影后的裸露后的裸露铜面的厚度加铜面的厚度加后后, ,以以达到客达到客户所要求
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