最新半导体器件的材料物理基础精品课件.ppt
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1、基本特性参数基本特性参数 禁带宽度Eg 临界雪崩击穿电场强度Et 介电常数 载流子饱和速度Vs 载流子迁移率 载流子密度n(p) 少数载流子寿命载流子迁移率大小的影响因素 散射对载流子的迁移率具有重要影响 主要的散射机构有:晶格振动散射、电离杂质散射、载流子之间的散射等体材料中载流子散射以及表面散射 晶格振动的散射晶格振动的散射 用电子和声子相互作用来描述。 在轻参杂时,占主导地位。 载流子被晶格散射过程,可以是吸收或发射声学声子,也可以是吸收或发射光学声子。,0 ,( /300)Ln pn puuTn,p 两个常用的经验公式两个常用的经验公式 电子迁移率: 空穴迁移率:1.53.1312(
2、/300)( /300) (/( . )41952153LnTTucmVS1.53.2512( /300)( /300) (/( . )2502591LpTTucmVS 电离杂质的散射电离杂质的散射 半导体的杂质,电离后以静电力对运动于附近的电子和空穴产生散射作用。低温重掺杂时起主要作用 完全由电离杂质散射决定载流子迁移率大小时,迁移率与温度和电离杂质的浓度呈下列关系1 1.5IiuN T 载流子之间的散射载流子之间的散射 载流子对载流子的散射是运动着的多个电荷环绕其公共质心的相互散射。 相同极性载流子散射对迁移率没有影响或很小。 相反极性的载流子之间的散射可以使双方动量的弛豫,使迁移率下降。
3、 只考虑载流子散射作用的载流子迁移率:20111/31.428*10.ln1 4.54*10 ()c cunpnp 强电场作用下的载流子散射强电场作用下的载流子散射 弱电场下,为常数; 强电场下,随电场增加而减小 强电场下载流子漂移速度偏离弱场规律, 主要有两种表现: 速度饱和效应 负微分迁移率现象 迁移率与外场的关系迁移率与外场的关系021/21131() 228Eu0 0为电子与晶格处于热平衡时的迁移率,为热电子的迁移率,u为格波传播的速度,漂移速度的表示漂移速度的表示 弱电场下:弱电场下:Vd=uE 强电场下,以声学声子交换能量时:强电场下,以声学声子交换能量时: 更强的电场下,以光学声
4、子交换能量时:更强的电场下,以光学声子交换能量时:1/4032/3dVu u E2*0*2/sathvd Evhmdk其中m 速度饱和效应的物理解释: 当电场足够强时,电子在单位时间内能量高,和晶格进行能量交换时发射光学声子,这样载流子能量因发射声子而使其漂移速度趋于饱和。 负微分迁移效应 由于电子的不等价能谷间转移形成的。热电子有主能谷跃迁到能量较高的自能谷,子能谷的迁移率较低,如果迁移电子数量较多,平均的漂移速度会降低。 表面散射及表面迁移率表面散射:各种与表面相关联的因素对载流子迁移率的附加影响;越靠近表面,影响越大,对电子影响大于空穴;第二节 载流子密度和电阻率 材料电阻率和器件特性
5、载流子数量统计和来源 载流子密度的决定因素 禁带窄化第二节 载流子密度和电阻率1n q u由上式可知,由上式可知,与掺杂浓度密切相关,可作为半导体与掺杂浓度密切相关,可作为半导体纯度的反映;纯度的反映;材料电阻率与器件击穿电压 功率器件的击穿电压主要决定于本底材料电阻率。 功率器件的击穿是指承受反向偏压的pn结的雪崩击穿。器件击穿 雪崩击穿: 高电压击穿; 条件: 足够高U和适当的WK 器件穿通 若pn结轻参杂层设计的不够宽,以至雪崩击穿尚未发生而空间电荷区已扩展到与电极相接,则器件先于击穿的发生而失去阻断能力。这种现象称为穿通载流子统计003 / 23 / 233 / 23 / 232222
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