最新半导体激光器材料的研究进展-第八组幻灯片.ppt
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1、进入夏天,少不了一个热字当头,电扇空调陆续登场,每逢此时,总会想起那一把蒲扇。蒲扇,是记忆中的农村,夏季经常用的一件物品。记忆中的故乡,每逢进入夏天,集市上最常见的便是蒲扇、凉席,不论男女老少,个个手持一把,忽闪忽闪个不停,嘴里叨叨着“怎么这么热”,于是三五成群,聚在大树下,或站着,或随即坐在石头上,手持那把扇子,边唠嗑边乘凉。孩子们却在周围跑跑跳跳,热得满头大汗,不时听到“强子,别跑了,快来我给你扇扇”。孩子们才不听这一套,跑个没完,直到累气喘吁吁,这才一跑一踮地围过了,这时母亲总是,好似生气的样子,边扇边训,“你看热的,跑什么?”此时这把蒲扇,是那么凉快,那么的温馨幸福,有母亲的味道!蒲扇
2、是中国传统工艺品,在我国已有三千年多年的历史。取材于棕榈树,制作简单,方便携带,且蒲扇的表面光滑,因而,古人常会在上面作画。古有棕扇、葵扇、蒲扇、蕉扇诸名,实即今日的蒲扇,江浙称之为芭蕉扇。六七十年代,人们最常用的就是这种,似圆非圆,轻巧又便宜的蒲扇。蒲扇流传至今,我的记忆中,它跨越了半个世纪,也走过了我们的半个人生的轨迹,携带着特有的念想,一年年,一天天,流向长长的时间隧道,袅半导体激光器材料的研究进展半导体激光器材料的研究进展n一、半导体激光器的发展历史一、半导体激光器的发展历史n二、半导体激光器的工作原理二、半导体激光器的工作原理n三、半导体激光器的制作工艺三、半导体激光器的制作工艺n四
3、、半导体激光器的应用现状四、半导体激光器的应用现状n五、半导体激光器材料的发展前景五、半导体激光器材料的发展前景一、半导体激光器的发展历史一、半导体激光器的发展历史n在20世纪80年代后期,人们又提出了应变量子阱激光器的结构,其阀值电流密度可降至约65A/cm2。n1994年,贝尔实验室报道了只有电子参加的基于子带跃迁和共振隧道机理上的量子级联激光器,突破了二极管激光器材料体系对发射波长的限制,将发射波长推至4um-17um中远红外波段。AlGalnP体系为可见波段红光波段。n1996年日本成功地研制出GaN基半导体量子阱激光器,将半导体激光器的发光波段推向了紫外至蓝紫波段。一、半导体激光器的
4、发展历史一、半导体激光器的发展历史 这些成果证明了量子阱激光器的特性远远优于双异质结激光器,奠定了量子阱激光器在半导体激光器领域的主导地位,同时推动了整个光电子产业的迅猛发展。 随着能带工程理论的运用,晶体外延材料生长工艺以及半导体制作工艺的不断发展和成熟,以及应用领域的不断拓宽,新材料、新波段和新结构的半导体激光器不断涌现,如应变量子阱激光器、分布反馈激光器、垂直腔面发射激光器、外腔激光器、量子阱级联激光器、量子点激光器、微腔激光器、光子晶体激光器、宽带隙 GaN 基半导体激光器等。一、半导体激光器的发展历史一、半导体激光器的发展历史 纵观半导体激光器近五十年的发展历史,结构从同质结发展到量
5、子阱,波长从 GaAs 基的红光发射到 GaN 基的蓝紫光发射已几乎涵盖全波段,连续输出功率可达上万瓦,寿命可长达上百万小时。新世纪以来,半导体激光器应用上的需求对其各方面性能提出了更高的标准,如何实现半导体激光器的大功率、高亮度和高可靠性已成为进一步发展LD技术产业和拓宽市场应用面临的三个关键问题。 如今半导体激光器已经广泛应用于我们的生活、工业甚至国防,例如激光打标、激光手术刀、激光武器等。利用激光照射核燃料使之发生核聚变反应,这样激光还可以用于核反应的控制。已经成为当今光电子科学的核心技术,受到了世界各国的高度重视。半导体激光器材料的研究进展半导体激光器材料的研究进展一、半导体激光器的发
6、展历史一、半导体激光器的发展历史二、半导体激光器的工作原理二、半导体激光器的工作原理三、半导体激光器的制作工艺三、半导体激光器的制作工艺四、半导体激光器的应用现状四、半导体激光器的应用现状五、半导体激光器材料的发展前景五、半导体激光器材料的发展前景二、半导体激光器的工作原理二、半导体激光器的工作原理1、半导体的能带结构和电子状态、半导体的能带结构和电子状态2、非本征半导体材料非本征半导体材料p-n结结3、半导体激光器的结构组成、半导体激光器的结构组成4、激光产生原理、激光产生原理1、半导体的能带结构和电子状态、半导体的能带结构和电子状态n(1)能带概念能带概念 量子力学计算表明,固体中若有N个
7、原子,由于各原子间的相互作用,对应于原来孤立原子的每一个能级,变成了N条靠得很近的能级,称为能带能带。 由于N值通常很大(如:1023 /cm-3左右)分裂出的能级十分密集,形成一个能量上准连续的能带,称为允许能带,形成一个能量上准连续的能带,称为允许能带,简称允带简称允带。而由原子不同能级分裂成的允许能带之间则是禁戒能带,简称禁带。禁戒能带,简称禁带。1、半导体的能带结构和电子状态、半导体的能带结构和电子状态1满带(排满电子的允带)2价带(价电子能级分离后形成的能带,价电子能级分离后形成的能带,能带中一部分能级排满电子) 3. 导带 (允带有部分能级被电子填充允带有部分能级被电子填充)4空带
8、(完全未排电子的允带) 空带也是导带空带也是导带5禁带(不能排电子)1、半导体的能带结构和电子状态、半导体的能带结构和电子状态n能带能带的宽度记作E ,数量级为 EeV。若N1023,则能带中两能级的间距约10-23eV能带的特点:能带的特点:1. 越是外层电子,能带越宽,越是外层电子,能带越宽, E越大。越大。2. 点阵间距越小,能带越宽,点阵间距越小,能带越宽, E越大。越大。3. 两个能带有可能重叠。两个能带有可能重叠。1、半导体的能带结构和电子状态、半导体的能带结构和电子状态固体中的一个电子只能处在某个能带中的某一能级上。电子的填充原则:n 服从泡利不相容原理服从泡利不相容原理n 服从
9、能量最小原理服从能量最小原理(2)半导体中的电子状态半导体中的电子状态 用量子力学确定孤立原子的电子能量和运动状态是通过求解薛定鄂方程实现的。然而,由于固体中所含原子数量极大,对每个电子求解薛定鄂方程是根本不可能,只能采取某种近似的方法:1、半导体的能带结构和电子状态、半导体的能带结构和电子状态n其相应的能量本征值为其相应的能量本征值为222eh kEVmnk为波数,me 为电子质量nV-所有其他电子对某一电子的相互作用视为叠加在原子实周期势场上的等效平均场,并用V(r)表示, 势场的周期为晶格常数a则动能为则动能为222keh kEm1、半导体的能带结构和电子状态、半导体的能带结构和电子状态
10、n在k足够小的范围内,可将Ek 展开为Maclaurin(麦克劳林)级数,且只保留前两项,得到22( )(0)2effh kE kEm其中,meff 称为电子的有效质量,与me 不同,meff 既可以取正值,也可以取负值。在k=0附近,E(k)仍按抛物线规律随k变化,抛物线的开口方向由meff 的符号决定。当 eff时,开口向上开口向上,相应的能带称为导带导带当 eff时,开口向下开口向下,相应的能带称为价带价带2 2( )(0),02ccceffceffhkE kEmm22( )(0),02vvveffveffh kE kEmm1、半导体的能带结构和电子状态、半导体的能带结构和电子状态n导带
11、底和价带顶对应着相同k值,即k=0点,导带底和价带顶的能量间距称为禁带宽度禁带宽度禁带宽度用Eg表示。n导带和价带的极值位于k空间同一点(但一般不要求是k=0点)的半导体称为直接禁带半导体直接禁带半导体n另有一类在电子学中非常重要的半导体材料,如Si和Ge等,导带底和价带顶不在k空间同一点,称为间接禁间接禁带半导体带半导体 2、非本征半导体材料非本征半导体材料p-n结结 本征半导体本征半导体:杂质、缺陷极少的纯净、完整的半导体。其中自由电子和空穴都很少。常用的是非本征半导体又叫掺杂半导体。P型半导体:通过掺杂使空穴数目大大地多于电子数目的半导体。(GaAs-Zn)N型半导体:通过掺杂使电子数目
12、大大地多于空穴数目的半导体。(GaAs-Te)2、非本征半导体材料非本征半导体材料p-n结结GaAsVI0.003eVN在内掺入族元素,会在导带下面形成杂质能级。由于杂质能级与导带底的能量差很小,电子很容易跃迁到导带中去,同时在原来的能级上形成空穴。这种杂质称为施主杂质,相应的能级为施主能级,掺入施主杂质的半导体称为电子型半导体或 型半导体。2、非本征半导体材料非本征半导体材料p-n结结IIGaAsZneVP掺入 族元素,在价带上面形成受主能级,价带上的电子在热激发下,可以跃迁到受主能级上,同时在价带中形成空穴。中受主杂质的电离能为0.024,掺入受主杂质的半导体称为空穴型半导体或 型半导体。
13、2、非本征半导体材料非本征半导体材料p-n结结掺杂的净效果掺杂的净效果是在导带和价带中形成过剩的自由载流子。nP型半导体掺杂三价元素(杂质),载流子主要是空穴,而杂质称为受主nN型半导体掺杂五价元素(杂质),载流子主要是电子,而杂质称为施主np型半导体材料和n型半导体材料接触时形成p-n结。2、非本征半导体材料非本征半导体材料p-n结结2、非本征半导体材料非本征半导体材料p-n结结DDDnpVnpeVp-neV()()FNFPEE在空间电荷区内,形成内建电场,电场方向由 区指向 区。内建电场将阻止扩散过程继续发生,完全阻止时,系统达到平衡。在界面上出现了接触电位差,电子在由 区扩散到 区的过程
14、中,能量增加了,等于结两端费米能级能量差。在系统平衡后,费米能级为一直线。从左到右,电子填充水平不断增加;从右到左,空穴填充水平不断增加。 3、半导体激光器的结构组成半导体激光器的结构组成 半导体激光器半导体激光器是指以注入电流做为激励源,由半导体材料和光学谐振腔构成的激光自激励振荡器。 3、半导体激光器的结构组成半导体激光器的结构组成n(1)电流:电流作为激励源,注入电流的大小决定半导体激光器的输出功率。n(2)半导体材料:具有晶体结构的P型半导体N型半导体结合在一起形成PN结,在输入电流的激励下,实现粒子数反转分布,当受激辐射大于受激吸收时,就产生光的放大作用。半导体材料的种类决定输出激光
15、的波长,如AlGaINP/GaAs输出激光波长为610nm690nm,AlGaAs/GaAs输出激光波长为780nm800nm,InGaAs/GaAs输出激光波长为800nm1100nm等。 3、半导体激光器的结构组成半导体激光器的结构组成n(3)光学谐振腔:受激辐射光在光学谐振腔中来回反射,不断反馈振荡,当达到一定强度后,就输出激光。光学谐振腔和半导体材料的结构决定半导体激光器的性能和寿命。 4、激光产生原理激光产生原理n半导体激光器的工作原理简单概述是,通过一定的激励方式,在半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,
16、当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用 。粒子数反转(光放大的必要条件):仅当激发态的电子数大于基态中的电子数时,受激辐射超过吸收,要利用“泵浦(激励)”方法。电子与空穴复合,即电子由导带进入价带,多出的能量以光子的形式释放出来。4、激光产生原理、激光产生原理普朗克定律:基态到激发态的跃迁吸收一个光子,激发态到基态的跃迁发射一个光子,光子的能量为h=E2-E1。激光发射跃迁过程:吸收激发、自发辐射和受激辐射。吸收激发:E1基态的电子吸收光子能量,激发到高能态E2;自发发射:E2能态的电子处于不稳定状态,自发返回基态E1,自发发射一个光子(位相随机)。受激发射:E2能态的
17、电子处于不稳定状态,向下进入亚稳态,外来光子会激励电子向下跃迁到基态E1,受激发射一个光子(位相和频率相同)。4、激光产生原理、激光产生原理 4、激光产生原理、激光产生原理n半导体激光器是一种相干辐射光源,要使它能产生激光,必须具备三个基本条件:(1)形成分布反转:建立起激射媒质(有源区)内载流子的反转分布,在半导体中代表电子能量的是由一系列接近于连续的能级所组成的能带,因此在半导体中要实现粒子数反转,必须在两个能带区域之间,处在高能态导带底的电子数比处在低能态价带顶的空穴数大很多,这靠给同质结或异质结加正向偏压,向有源层内注人必要的载流子来实现。将电子从能量较低的价带激发到能量较高的导带中去
18、。当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用。4、激光产生原理、激光产生原理有源区在p-n结附近,导带中有价电子,价带中有空穴,这部分区域称为有源区。在此区域可以实现粒子数反转和光放大。(2)要实际获得相干受激辐射,必须使受激辐射在光学谐振腔内得到多次反馈而形成激光振荡以实现光量子放大,激光器的谐振腔是由半导体晶体的自然解理面作为反射镜形成的,通常在不出光的那一端镀上高反多层介质膜,而出光面镀上减反膜。对Fp腔(法布里一珀罗腔)半导体激光器可以很方便地利用晶体的与Pn结平面相垂直的自然解理面一110面构成FP腔。4、激光产生原理、激光产生原理4、激光产生原理、激光产生原理4
19、、激光产生原理、激光产生原理(3)为了形成稳定振荡,激光媒质必须能提供足够大的增益,以弥补谐振腔引起的光损耗及从腔面的激光输出等引起的损耗,不断增加腔内的光场。这就必须要有足够强的电流注入,即有足够的粒子数反转,粒子数反转程度越高,得到的增益就越大,即要求必须满足一定的电流阀值条件。当激光器达到阀值时,具有特定波长的光就能在腔内谐振并被放大,最后形成激光而连续地输出。增益:在注入电流的作用下,激活区受激辐射不断增强。增益:在注入电流的作用下,激活区受激辐射不断增强。损耗:受激辐射在谐振腔中来回反射时的能量损耗。包括损耗:受激辐射在谐振腔中来回反射时的能量损耗。包括载流子吸收、缺陷散射及端面透射
20、损耗等。载流子吸收、缺陷散射及端面透射损耗等。阈值电流:增益等于损耗时的注入电流阈值电流:增益等于损耗时的注入电流。半导体激光器材料的研究进展半导体激光器材料的研究进展n一、半导体激光器的发展历史一、半导体激光器的发展历史n二、半导体激光器的工作原理二、半导体激光器的工作原理n三、半导体激光器的制作工艺三、半导体激光器的制作工艺n四、半导体激光器的应用现状四、半导体激光器的应用现状n五、半导体激光器材料的发展前景五、半导体激光器材料的发展前景三、半导体激光器的制作工艺三、半导体激光器的制作工艺n1、半导体激光器的工作特性、半导体激光器的工作特性 n2、半导体激光器制备流程、半导体激光器制备流程
21、n3、同质结半导体激光器、同质结半导体激光器n4、异质结半导体激光器、异质结半导体激光器n5、量子阱激光器、量子阱激光器1、半导体激光器的工作特性、半导体激光器的工作特性n(1 ) 阈值电流 当注入p-n结的电流较低时,只有自发辐射产生,随电流值的增大增益也增大,达阈值电流时,p-n结产生激光。影响阈值的几个因素:影响阈值的几个因素: 晶体的掺杂浓度越大,阈值越小。晶体的掺杂浓度越大,阈值越小。 谐振腔的损耗小,如增大反射率,阈值就低。谐振腔的损耗小,如增大反射率,阈值就低。 与半导体材料结型有关,异质结阈值电流比同质与半导体材料结型有关,异质结阈值电流比同质结低得多。结低得多。目前,室温下同
22、质结的阈值电流大于30000A/cm2;单异质结约为8000A/cm2;双异质结约为1600A/cm2。现在已用双异质结制成在室温下能连续输出几十毫瓦的半导体激光器。 1、半导体激光器的工作特性、半导体激光器的工作特性 温度愈高,阈值越高。温度愈高,阈值越高。100K以上,阈值随T的三次方增加。因此,半导体激光器最好在低温和室温下工作。n(2)方向性 由于半导体激光器的谐振腔短小,激光方向性较差,在结的垂直平面内,发散角最大,可达20-30;在结的水平面内约为10左右。1、半导体激光器的工作特性、半导体激光器的工作特性n(3)效率 量子效率 每秒发射的光子数每秒到达结区的电子空穴对数 77K时
23、,GaAs激光器量子效率达7080;300K时,降到30左右。 功率效率1辐射的光功率加在激光器上的电功率由于各种损耗,目前的双异质结器件,室温时的1最高10,只有在低温下才能达到3040。1、半导体激光器的工作特性、半导体激光器的工作特性n(4 )光谱特性。 由于半导体材料的特殊电子结构,受激复合辐射发生在能带(导带与价带)之间,所以激光线宽较宽,GaAs激光器,室温下谱线宽度约为几纳米,可见其单色性较差。输出激光的峰值波长:77K时为840nm;300K时为902nm。2、半导体激光器制备流程、半导体激光器制备流程 半导体激光器的寿命与其制备工艺密切相关,每一半导体激光器的寿命与其制备工艺
24、密切相关,每一步工艺都可能对其可靠性产生重大影响。步工艺都可能对其可靠性产生重大影响。为研究其寿命和失效机理,首先应了解器件的制备工艺。尽管各种半导体激光器的结构设计不同,制作工艺存在差别,但都大同小异。基本工艺应包括:衬底的选择和制备、外延生长、化学腐蚀、扩散、电极制作、解理或划片、装架制管、老化筛选、封装耦合、终测等。 大体的制备流程分为前工艺和后工艺两部分。2、半导体激光器制备流程、半导体激光器制备流程n(1)管芯制作工艺(前工艺) 衬底是用于外延生长的基片。由于外延生长的质量明显地受衬底结晶质量的影响,因此要求衬底应该具备规定的晶向及一定的偏离范围;一定的厚度;适宜的掺杂浓度;表面光亮
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- 最新 半导体激光器 材料 研究进展 第八 幻灯片
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