电子工程物理基础.pptx
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1、第5章 半导体中电子的控制5.1 半导体与外界作用5.2 半导体与半导体半导体与半导体5.3 半导体与金属5.4 半导体与绝缘体第1页/共92页5.1 半导体与外界作用一.半导体与热温度可以影响温度可以影响载流子的浓度载流子的浓度载流子的分布载流子的分布载流子浓度不均匀载流子浓度不均匀扩散运动扩散运动低温弱电离低温弱电离中温全电离中温全电离高温本征激发高温本征激发温度不均匀温度不均匀第2页/共92页 费米能级费米能级 载流子浓度载流子浓度)2ln(21210CDDCFNNTkEEETkECDDeNNn021202)ln(0CDCFNNTkEEDNn 0CVVCiFNNTkEEEEln21210
2、TkEVCigeNNnpn021200中温中温高温高温低温低温1.温度对浓度的影响由4.2得知第3页/共92页(1)n T分析、讨论TkECDDeNNn021202DNn 0TkEVCigeNNn0212希望器件工作在此温区希望器件工作在此温区第4页/共92页(2)EF T)2ln(21210CDDCFNNTkEEE)ln(0CDCFNNTkEEEF ED的相对位置反映了半导体中载流子的电离程度低温中温(掺杂一定)(掺杂一定)第5页/共92页(3)EF 掺杂(掺杂(T一定,则一定,则NC也一定)也一定)T一定,一定,ND越大,越大,EF越靠近越靠近ECT一定,一定,NA越大,越大,EF越靠近越
3、靠近EV。)ln(0CDCFNNTkEE中温第6页/共92页2.局部热对分布的影响温度不均匀温度不均匀载流子浓度不均匀载流子浓度不均匀载流子扩散载流子扩散内建电场内建电场温差电动势0032CFskEETqk T 均匀温度梯度下的半导体的能带图+-FsdEqqVTdT 温差电动势的方向与半导体导电类型相关。温差电动势的方向与半导体导电类型相关。所以可以利用热探针法判断半导体导电类所以可以利用热探针法判断半导体导电类型。型。第7页/共92页二.半导体与光产生非平衡载流子gEh 第8页/共92页半导体中会出现阻碍多半导体中会出现阻碍多子扩散的内建电场,导子扩散的内建电场,导致能带弯曲。但当光注致能带
4、弯曲。但当光注入入载流子量很小时载流子量很小时,该该内建电场可以忽略内建电场可以忽略。类似于温差电动势,半导体吸收光子也会产生电动势类似于温差电动势,半导体吸收光子也会产生电动势光生伏特效应。光生伏特效应。一类是发生在均匀半导体材料内一类是发生在均匀半导体材料内部部丹倍效应丹倍效应非平衡载流子扩散速度的差异而引非平衡载流子扩散速度的差异而引导起的光照方向产生电场和电位差。导起的光照方向产生电场和电位差。一类是发生在半导体的界面pn结光生伏特效应 (常用于太阳能电池)光在界面层被吸收,产生电子空穴对。通光在界面层被吸收,产生电子空穴对。通过空间电荷的电场作用被相互分离。电子和过空间电荷的电场作用
5、被相互分离。电子和空穴向相反方向运动。产生一个向外的可测空穴向相反方向运动。产生一个向外的可测试的电压。试的电压。光生伏特效应光生伏特效应第9页/共92页三三. .半导体与磁半导体与磁1.1.霍耳效应霍耳效应 通了电流通了电流的半导体在垂直电流方向的的半导体在垂直电流方向的磁场磁场作用下,在与电流和磁场垂直作用下,在与电流和磁场垂直的方向上形成电荷积累和出现的方向上形成电荷积累和出现电势差电势差的现象。的现象。 磁场磁场 洛仑兹力洛仑兹力 改变载流子运动的方向改变载流子运动的方向磁场作用下的通电磁场作用下的通电n型半导体的霍尔效应型半导体的霍尔效应xyzEH比例系数比例系数RH 霍尔系数霍尔系
6、数BvqF洛JBEHJBREHH- - - -+ + + +第10页/共92页洛仑兹力洛仑兹力电场力电场力霍尔效应霍尔效应可以测定可以测定载流子浓度载流子浓度及载流子及载流子迁移率迁移率等重要参数,以及判断等重要参数,以及判断材料的材料的导电类型导电类型。还可制作。还可制作霍尔器件霍尔器件。霍尔电压的正负相反霍尔电压的正负相反p p型型n型 (1)判断导电类型)判断导电类型n型型 RH0EHqvBqEH-JBRBnqJBvEHH- )(10HRnq 10HRpq同理:同理:JBREHH第11页/共92页(2)测定载流子浓度及迁移率)测定载流子浓度及迁移率1HRnq 1HRpq或三参量已知,测出
7、VH求出RH求出n或p测出电导率测出电导率可求出霍尔迁移率(3)霍尔器件)霍尔器件HxxVI B保持其中一个量不变,另一个或两个作变量,应用保持其中一个量不变,另一个或两个作变量,应用于不同场合。于不同场合。JBREHHBbdIRbVHHBIdVRHH(b-宽 d-厚)第12页/共92页2. 回旋共振回旋共振 u Cyclotron resonance experiments测测 m* m* 能带结构能带结构一些物质如半导体中的载一些物质如半导体中的载( (电电) )流子在一定的恒定流子在一定的恒定( (直流直流) )磁场和高频磁场同磁场和高频磁场同时作用下会发生抗磁共振时作用下会发生抗磁共振
8、( (常称回旋共振常称回旋共振) )第13页/共92页电子的初速度为电子的初速度为v ,在恒定磁场(在恒定磁场(B)中:)中:ncmqBBvqfBqvqvBfsin2nvfmrcvr 回旋频率原原 理理fv/vrBv第14页/共92页均匀均匀磁场磁场实验方法实验方法ncmqBc发生共振吸收发生共振吸收第15页/共92页以以硅硅为例为例,回旋共振回旋共振实验现象实验现象:(1)B沿沿111方向,观察到一个吸收峰。方向,观察到一个吸收峰。(2)B沿沿110方向,观察到两个吸收峰。方向,观察到两个吸收峰。(3)B沿沿100方向,观察到两个吸收峰。方向,观察到两个吸收峰。(4)B沿任意轴方向,观察到三
9、个吸收峰。沿任意轴方向,观察到三个吸收峰。第16页/共92页四四. .半导体与力半导体与力压阻效应压阻效应是指半导体受到应力作用时,由于载流子迁移率的变化,使其电阻是指半导体受到应力作用时,由于载流子迁移率的变化,使其电阻率发生变化的现象。它是率发生变化的现象。它是C.SC.S史密斯在史密斯在19541954年对硅和锗的电阻率与应力变化特年对硅和锗的电阻率与应力变化特性测试中发现的。性测试中发现的。半导体半导体施加力施加力晶格间距变化晶格间距变化周期势场变化周期势场变化能带结构变化能带结构变化迁移率变化迁移率变化电导率变化电导率变化( ,1,2,3,4)abTa b压阻系数,四阶张量。反映压电
10、效应的强弱。压阻系数,四阶张量。反映压电效应的强弱。T应力(单位截面所受力)半导体应变计压敏二极管压敏晶体管控制载流子的迁移率应用:压阻式压力传感器、压阻式加速度计传感器应用:压阻式压力传感器、压阻式加速度计传感器第17页/共92页第5章 半导体中电子的控制5.1 半导体与外界作用5.3 半导体与金属5.2 半导体与半导体5.4 半导体与绝缘体第18页/共92页5.2 半导体与半导体半导体与半导体半导体与半导体同质结同质结异质结异质结p-n结结n+-n、p+-p结同型n-n、p-p异型n-p、p-n第19页/共92页p-n结基本结构结基本结构(1) Alloyed Junctions (合金结
11、合金结)(2) Diffused Junctions (扩散结扩散结) (3) Ion Implantation (离子注入离子注入) (4) Epitaxial Growth (外延生长外延生长)1. 制备方法制备方法最最常常用用一一.p-n.p-n结结第20页/共92页合金温度合金温度降温再结晶降温再结晶(1) Alloyed Junctions (合金结合金结)第21页/共92页(2) Diffused Junctions (扩散结扩散结)第22页/共92页扩散系统第23页/共92页 (3) Ion Implantation (离子注入离子注入)第24页/共92页第25页/共92页2 .
12、 pn结区(Space charge region)的形成漂移运动漂移运动扩散运动扩散运动+-内建电场内建电场E 刚接触,扩散刚接触,扩散(达到动态平衡达到动态平衡)扩散扩散=漂移漂移建立内建电场建立内建电场漂移漂移P型半导体型半导体n型半导体型半导体第26页/共92页阻挡层阻挡层 耗尽区耗尽区Depletion region空间电荷区空间电荷区Space charge region 当当p p型半导体和型半导体和n n型半导体接触在一起时型半导体接触在一起时, ,扩散和漂移这一对相反的扩散和漂移这一对相反的运动最终达到平衡,相当于两个区之间没有电荷运动,空间电荷区的厚运动最终达到平衡,相当于
13、两个区之间没有电荷运动,空间电荷区的厚度固定不变。度固定不变。在两者的交界面处存在着一个过渡区在两者的交界面处存在着一个过渡区, ,通常称为通常称为p-np-n结结. .中性区中性区第27页/共92页缓变结缓变结与与突变结突变结1. Alloyed Junctions (合金结合金结)2. Diffused Junctions (扩散结扩散结) 3. Ion Implantation (离子注入离子注入) 4. Epitaxial Growth (外延生长外延生长)合金结、高表面合金结、高表面浓度的浅扩散结浓度的浅扩散结深扩深扩散结散结第28页/共92页0E(x)()AprqNxx D0E(x
14、)()nrqNxx ApDnN xN x1022X()()rADDDADNNVqN N 20A20D2)2()(prnrxqNxxxqNxV突变结空间电荷区的突变结空间电荷区的电场电场E(x)、电势电势V(x)、宽度、宽度XD第29页/共92页dxdExdxVdr022)(泊松方程poissons equation:In the p-region:1000)(ECxqNdxqNdxxrArAr0E,pxxprAxqNC01)(E0prAxxqN所以所以In the n-region:)(E0DxxqNnrprnrxqNxqN0A0DmaxE第30页/共92页Edx,)(V x及及0V,pxx是
15、连续函数 V(x), 0 x20A20D2)2()(prnrxqNxxxqNxV第31页/共92页突变结突变结ApDnqN xSqN xSpnDxxXDDAAnXNNNxDDADpXNNNx空间电荷区宽度XD 掺杂浓度高的一侧,空间电荷区域窄。掺杂浓度高的一侧,空间电荷区域窄。1022X()()rADDDADNNVqN N 其中:其中:第32页/共92页,VnDxxV)(22A20DpnDrDxNxNqNVDDAAnXNNNx1022X()()rADDDADNNVqN N DDADpXNNNx20A20D2)2()(prnrxqNxxxqNxV空间电荷区宽度(Space charge regi
16、on width)第33页/共92页3. pn结能带 (Enery band )势垒区势垒区- +0 VDnnoppo第34页/共92页势垒区势垒区- +0 VDnnoppo 势垒区势垒区 高度高度qV ? 空间电荷区的接触电势差空间电荷区的接触电势差 V? 势垒区势垒区 宽度宽度 XD ? 空间电荷区空间电荷区 宽度宽度XD ? 各区域的载流子浓度分布各区域的载流子浓度分布 n(X)、)、p(X)?)? n(x)4. pn结的物理参量结的物理参量第35页/共92页TkEEpnFpFnenn000000DqVk Tnpnen平衡时TkEEiniFnenn00n型半导体中的电子浓度为型半导体中的
17、电子浓度为p型半导体中的电子浓度为型半导体中的电子浓度为TkEEipiFpenn00FpFnDEEqV接触电势差VD 000lnnDpnqVk Tn第36页/共92页ApDnNpNn00,全电离非简并20lniADDnNNqTkV * 势垒高度势垒高度 qVD ND、NA 、Eg 2000000lnlnipnpnDnpnqTknnqTkV接触电势差 (The Contact Potential)1022X()()rADDDADNNVqN N 势垒区或空间电荷区宽度第37页/共92页 载流子分布 0( )0qV xk Tpn xn e 0( )0qV xk Tpp xp e0nn0np0pn0p
18、p)(xn( )qV x-Xp Xn 0-Xp Xn 0-Xp Xn 中性区中性区Carrier distributions TkxqVqVnDenxn0)(0 TkxqVqVnDepxp0)(0000DqVk Tnpnen第38页/共92页 TkxqVqVnDenxn0)(0 TkxqVqVnDepxp0)(0或 0( )0qV xk Tpn xn e 0( )0qV xk Tpp xp e第39页/共92页二.p-n结的常规特性1. 1. 势垒区的自由载流子全部耗尽势垒区的自由载流子全部耗尽, ,并并忽略忽略势垒区中载流子的势垒区中载流子的产生产生和和复合复合。现假设现假设: : 2. 2
19、. 小注入小注入: :注入的少数载流子浓度远小于半导体中的多数载注入的少数载流子浓度远小于半导体中的多数载流子浓度。在注入时,流子浓度。在注入时,扩散区的漂移电场扩散区的漂移电场可可忽略忽略。1. Pn结的结的I-V特性特性第40页/共92页中性区中性区000DqVk Tnpnen00CFnEEk TnCnN e00CFpEEk TpCnN enn0np01000TkqVnnnnnfeppxpxp1 1e en nn nx x- -n nx x- - n nT Tk kqVqVp0p0p0p0p pp pp p0 0f f正向偏压下正向偏压下第41页/共92页 外加电场与内建电场方向相反,削弱
20、了内建电场,因而使外加电场与内建电场方向相反,削弱了内建电场,因而使势垒两端的电势差由势垒两端的电势差由V VD D减小为减小为(V VD D-V-Vf f),),相应地势垒区相应地势垒区变薄变薄。(1) 正向偏置正向偏置 ( Forward bias)由于电场作用而使非平衡载流子进入半导体的过程称为由于电场作用而使非平衡载流子进入半导体的过程称为- -电注入电注入非平衡态非平衡态1022X()()rADDDADNNVqN N 1022X()()()rADDDfADNNVVqN N 漂移漂移 扩散扩散漂移漂移=扩散扩散第42页/共92页0nn0pnSpace charge regionNeut
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