太湖地区城镇污水处理厂及重点工业行业主要水污染物.docx
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1、发布ICSZ江苏省环境保护厅江苏省质量技术监督局20-实施20-发布半导体行业污染物排放标准Emission standard of pollutants for semiconductor industry(征求意见稿)DB32/-2017 DB32 江苏省地方标准目 次前 言II1 范围12 规范性引用文件13 术语和定义24 污染物排放控制要求35 污染物监测要求56 标准的实施与监督8前 言为贯彻中华人民共和国环境保护法、中华人民共和国大气污染防治法、中华人民共和国水污染防治法等法律、法规,防治环境污染,改善环境质量,促进半导体行业生产工艺和污染治理技术的进步,制定本标准。本标准规定了
2、半导体工业企业或生产设施的水污染物和大气污染物排放限值、监测和监控要求,以及标准实施与监督等相关规定。本标准未规定的污染物项目仍执行国家或地方污染物综合排放标准,国家或地方发布的(综合或行业)污染物排放标准中,排放限值严于本标准限值的,按照从严要求的原则,执行更严格的排放控制要求。本标准为首次发布。本标准由江苏省环境保护厅组织制订。本标准起草单位:江苏省环境科学研究院、江苏省环科咨询股份有限公司。本标准江苏省人民政府于2018年*月*日批准。本标准自2018年*月*日实施。本标准由江苏省环境保护厅解释。半导体行业污染物排放标准1 范围本标准规定了半导体企业的水污染物和大气污染物排放标准值。本标
3、准适用于半导体企业的水污染物排放管理、大气污染物排放管理,以及半导体企业建设项目环境影响评价、建设项目环境保护设施设计、竣工验收及其投产后的污染控制与管理。2 规范性引用文件本标准内容引用了下列文件或其中的条款。凡是不注明日期的引用文件,其有效版本适用于本标准。GB/T 6920水质 pH值的测定 玻璃电极法GB/T 7466水质 总铬的测定GB/T 7467水质 六价铬的测定 二苯碳酰二肼分光光度法GB/T 7470水质 铅的测定 双硫腙分光光度法GB/T 7471水质 镉的测定 双硫腙分光光度法GB/T 7475水质 铜、锌、铅、镉的测定 原子吸收分光光度法GB/T 7484水质 氟化物的
4、测定 离子选择电极法GB/T 7485水质 总砷的测定 二乙基二硫代氨基甲酸银分光光度法GB 8978污水综合排放标准GB/T 11893水质 总磷的测定 钼酸铵分光光度法GB/T 11901水质 悬浮物的测定 重量法GB/T 11907水质 银的测定 火焰原子吸收分光光度法GB/T 11910水质 镍的测定 丁二酮肟分光光度法GB/T 11912水质 镍的测定 火焰原子吸收分光光度法GB/T 11914水质 化学需氧量的测定 重铬酸盐法GB/T 14668空气质量 氨的测定 纳氏试剂比色法GB/T 16157固定污染源排气中颗粒物测定与气态污染物采样方法GB 16297大气污染物综合排放标准
5、GB/T 16489水质 硫化物的测定 亚甲基蓝分光光度法HJ 480环境空气 氟化物的测定 滤膜采样氟离子选择电极法HJ 481环境空气 氟化物的测定 石灰滤纸采样氟离子选择电极法HJ 484水质 氰化物的测定 容量法和分光光度法HJ 485水质 铜的测定 二乙基二硫代氨基甲酸钠分光光度法HJ 486水质 铜的测定 2,9-二甲基-1,10-菲啰啉分光光度法HJ 487水质 氟化物的测定 茜素磺酸锆目视比色法HJ 488水质 氟化物的测定 氟试剂分光光度法HJ 489水质 银的测定 3,5-Br2-PADAP分光光度HJ 490水质 银的测定 镉试剂2B分光光度法HJ 493水质 采样样品的
6、保存和管理技术规定HJ 494水质 采样技术指导HJ 495水质 采样方案设计技术指导HJ 505水质 五日生化需氧量(BOD5)的测定 稀释与接种法HJ 533环境空气和废气 氨的测定 纳氏试剂分光光度法HJ 534环境空气 氨的测定 次氯酸钠-水杨酸分光光度法HJ 535水质 氨氮的测定 纳氏试剂分光光度法HJ 536水质 氨氮的测定 水杨酸分光光度法HJ 537水质 氨氮的测定 蒸馏-中和滴定法HJ 544固定污染源废气 硫酸雾的测定 离子色谱法HJ 548固定污染源废气 氯化氢的测定 硝酸银容量法HJ 549环境空气和废气 氯化氢的测定 离子色谱法HJ 583环境空气 苯系物的测定 固
7、体吸附/热脱附-气相色谱法HJ 584环境空气 苯系物的测定 活性炭吸附/二硫化碳解吸-气相色谱法HJ 659水质 氰化物等的测定 真空检测管-电子比色法HJ 670水质 磷酸盐和总磷的测定 连续流动-钼酸铵分光光度法HJ 671水质 总磷的测定 流动注射-钼酸铵分光光度法HJ 694水质 汞、砷、硒、铋和锑的测定 原子荧光法HJ 732固定污染源废气 挥发性有机物的采样 气袋法HJ/T 38固定污染源排气中非甲烷总烃的测定 气相色谱法HJ/T 55大气污染物无组织排放监测技术导则HJ/T 60水质 硫化物的测定 碘量法HJ/T 67大气固定污染源 氟化物的测定 离子选择电极法HJ/T 75固
8、定污染源烟气排放连续监测技术规范(试行)HJ/T 76固定污染源烟气排放连续监测系统技术要求及检测方法(试行)HJ/T 84水质 无机阴离子的测定 离子色谱法HJ/T 91地表水和污水监测技术规范HJ/T 195水质 氨氮的测定 气相分子吸收光谱法HJ/T 200水质 硫化物的测定 气相分子吸收光谱法HJ/T 373固定污染源监测质量保证与质量控制技术规范(试行)HJ/T 397固定源废气监测技术规范HJ/T 399水质 化学需氧量的测定 快速消解分光光度法污染源自动监控管理办法(国家环境保护总局令 第28号)环境监测管理办法(国家环境保护总局令 第39号)3 术语和定义下列术语和定义适用于本
9、文件。3.1 半导体企业 semiconductor industry 指从事半导体分立器件或集成电路的制造、封装测试的企业。3.2 特殊保护水域 special protected water area 指江苏省太湖水污染防治条例中划定的太湖流域水域;GB3838中II类水域;由本省各市人民政府规定的居民集中式生活饮用水取水口卫生防护带水域。3.3 废气处理设施 exhaust gas control devices 指处理废气的湿式洗涤塔、焚烧塔、吸收塔、冷凝塔或其他设备,但不包括工艺中设备自带的预处理设备。3.4 密闭排气系统 closed vent system 指可将设备或设备组件排
10、出或逃逸的空气污染物捕集并输送至废气污染防治设备,使传送的气体不直接与大气接触的系统。3.5 现有企业 existing facility指本标准实施之日前已建成投产或环境影响评价文件已通过审批的半导体企业或生产设施。3.6 新建企业 new facility 指本标准实施之日起环境影响评价文件通过审批的新建、改建和扩建的半导体工业建设项目。3.7 直接排放 direct discharge指排污单位直接向环境水体排放水污染物的行为。3.8 间接排放 indirect discharge指排污单位向公共污水处理系统排放水污染物的行为。3.9 公共污水处理系统 public wastewater
11、 treatment system通过纳污管道等方式收集废水,为两家以上排污单位提供废水处理服务并且排水能够达到相关排放标准要求的企业或机构,包括各种规模和类型的城镇污水处理厂、区域(包括各类工业园区、开发区、工业聚集地等)废水处理厂等,其废水处理程度应达到二级或二级以上。3.10 挥发性有机物 volatile organic compounds,VOCs参与大气光化学反应的有机化合物,或者根据规定的方法测量或核算确定的有机化合物。3.11 非甲烷总烃 non-methane hydrocarbon采用规定的监测方法,检测器有明显响应的除甲烷外的碳氢化合物的总称(以碳计)。本标准使用“非甲烷
12、总烃(NMHC)”作为排气筒和厂界挥发性有机物排放的综合控制指标。3.12 标准状态 standard condition指温度为273.15K,压力为101325Pa 时的状态。本标准规定的大气污染物排放浓度限值均以标准状态下的干气体为基准。3.13 企业边界 enterprise boundary指半导体工业企业的法定边界。若无法定边界,则指企业的实际占地边界。4 污染物排放控制要求4.1 水污染物排放控制要求4.1.1标准分级4.1.1.1 特殊保护水域内不准新建排污口。原有排污口执行表1标准和表2中的特别排放限值标准。4.1.1.2 现有企业2018年7月1日前仍执行现行标准,自201
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- 关 键 词:
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