半导体光放大器的原理及应用分析.docx
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1、半导体光放大器的原理及应用分析电子3038 摘要:半导体光放大器的主要特点是它由有源区与无源区构成, 其放大原理主要取决于有源层的介质特性与激光腔的特性。半导体光放大器可用作线性放大器、波长转换器、光开关与再生器等等。关键词:半导体光放大器光纤通信波长转换器光开关1半导体光放大器的结构半导体光放大器是一种把发光器件一一半导体激光器结构作为放大装置使用的器件, 因为具有能带结构, 所以其增益带宽比采用光纤放大器的宽。另外, 通过改变所使用的半导体材料的组成可以使波长使用范围超过100nm, 这是半导体光放大器的一个突出特点。半导体光放大器由有源区与无源区构成, 如图1所示, 有源区为增益区, 使
2、用Inp这样的半导体材料制作, 与半导体激光器的主要不同之处是SOA带抗反射涂层, 以防止放大器端面的反射, 排除共振器功效。抗反射涂层就是在端面设置单层或多层介质层。以平面波人射单层介质层时, 抗反射膜的条件相对于厚度为1/4波长。实际的放大器, 传输光是数微米的点光, 可以研究假想波导模严格的无反射条件。去除端面反射影响的另一种方法, 也可以采用使端面倾斜的方法与窗结构。把光放大器作为光通信中继放大器使用, 入射光的偏振方向是无规则的, 最好是偏振波依赖性小的放大器。为了消除这种偏振波依赖性, 可以引人运用窄条结构使激活波导光路近似正方形断面形状的方法与施加抗张应力, 以增大TM波增益的应
3、变量子阱结构。目前, 实现偏振无关半导体光放大器的方法有很多种, 如张应变量子阱结构、应变补偿结构、同时采用张应变量子阱与压应变量子阱的混合应变量子阱结构等。图2为采用脊型波导结构的应变量子阱光放大器基本结构图。有源区4C3T采用混合应变量子阱结构, 即4个压应变量子阱, 3个张应变量子阱, 压应变与张应变量子阱之间用与Ipn晶格匹配的宽的IaGaAsP垒层隔开上下波导层分别为波长1.15um的IaGaAsP匹配材料包层为p型Inp, 接触层为重P型掺杂IaGaAsP材料, 材料的外延法生长过程中, n型掺杂源为硅烷,p 型掺杂源为二甲基锌材料;生长完成后, 采用标准的光刻、反应离子刻蚀、湿法
4、腐蚀、蒸发、溅射等工艺制作脊型波导结构。2 半导体光放大器的原理半导体光放大器的原理与掺稀土光纤放大器相似但也有不同, 其放大特性主要取决于有源层的介质特性与激光腔的特性。它虽也是粒子数反转放大发光但发光的媒介是非平衡载流子即电子空穴对而非稀有元素。半导体的发光可根据激发方式的不同分为光致发光、电致发光与阴极发光等。光致发光是指用半导体的光吸收作用来产生非平衡载流子, 实际上是一种光向另一种光转换的过程。电致发光是指用电学方法将非平衡载流子直接注人到半导体中而产生发光, 这常借助于PN结来完成。在半导体中电子的能级限制在导带与价带两个带内, 在导带中电子充当移动载流子, 在价带中空穴充当载流子
5、。半导体在外界激发下, 可将价带中的电子激发到导带中, 同时在价带中留下空穴, 所产生的电子与空穴分别跃迁到导带底与价带顶, 这一过程只与晶格交换能量而不产生光发射, 称为无辐射跃迁, 与此同时, 导带底的电子还要跃迁到价带顶与空穴复合, 并同时发射光子, 二者形成动态平衡, 与热平衡状态下的情况不同, 这时的电子与空穴为非平衡载流子, 载流子的分布不再是费米统计分布。由于电子从导带底跃迁到价带顶的时间常数即辐射寿命与无辐射跃迁的时间常数相比相对较长, 所以可以认为电子与空穴各自保持热平衡状态, 对载流子的这种准平衡状态分别用准费米能级与来表示。半导体的辐射跃迁包括自发跃迁与受激跃迁两个过程。
6、自发辐射跃迁是指占据高能态的电子可以自发地跃迁到低的空能态与空穴复合, 同时发射一个光子, 这一过程称为自发辐射发光受激辐射跃迁是指与一个理想的光子相互作用后导致的受激辐射。这两个过程类似于掺饵光纤放大器(EDFA)中的自发辐射与受激辐射过程。半导体在外界激励下会产生非平衡载流子, 半导体在泵浦光激励下怎样产生光放大为?了尽可能简单, 假设半导体在0 K, 费米能级在禁带的中间位置, 因此在Ep以下的每个有效能级上被电子充满, 则半导体将吸收子。如果半导体未受光泵浦激励, 则半导体将吸收光子, 其实半导体的两个能带所扮演的角色类似于EDFA中的能带E1与E2所起的作用, 只是它的能带比EDFA
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