安阳平板显示靶材项目投资计划书.docx
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1、泓域咨询/安阳平板显示靶材项目投资计划书目录第一章 项目建设背景、必要性6一、 应用趋势:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展6二、 靶材在平板显示中的应用9三、 供给:日企占据国内市场主导地位,国产替代逐渐提速11四、 提升城市规模能级,加快新型城镇化步伐15第二章 项目概述18一、 项目概述18二、 项目提出的理由19三、 项目总投资及资金构成22四、 资金筹措方案22五、 项目预期经济效益规划目标22六、 项目建设进度规划23七、 环境影响23八、 报告编制依据和原则23九、 研究范围24十、 研究结论24十一、 主要经济指标一览表25主要经济指标一览表25第三章 行
2、业发展分析27一、 显示面板靶材市场规模预测27第四章 建设内容与产品方案28一、 建设规模及主要建设内容28二、 产品规划方案及生产纲领28产品规划方案一览表28第五章 选址分析30一、 项目选址原则30二、 建设区基本情况30三、 坚持创新驱动,增强经济发展内生动力33四、 提升开放水平,打造内陆开放新高地35五、 项目选址综合评价37第六章 运营管理39一、 公司经营宗旨39二、 公司的目标、主要职责39三、 各部门职责及权限40四、 财务会计制度43第七章 法人治理51一、 股东权利及义务51二、 董事53三、 高级管理人员57四、 监事60第八章 发展规划61一、 公司发展规划61二
3、、 保障措施62第九章 原辅材料供应及成品管理65一、 项目建设期原辅材料供应情况65二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理65第十章 项目进度计划67一、 项目进度安排67项目实施进度计划一览表67二、 项目实施保障措施68第十一章 项目环境保护69一、 编制依据69二、 环境影响合理性分析69三、 建设期大气环境影响分析69四、 建设期水环境影响分析71五、 建设期固体废弃物环境影响分析72六、 建设期声环境影响分析72七、 环境管理分析72八、 结论及建议76第十二章 投资估算78一、 投资估算的依据和说明78二、 建设投资估算79建设投资估算表83三、 建设期利息83建设期利息估算表8
4、3固定资产投资估算表85四、 流动资金85流动资金估算表86五、 项目总投资87总投资及构成一览表87六、 资金筹措与投资计划88项目投资计划与资金筹措一览表88第十三章 项目经济效益分析90一、 基本假设及基础参数选取90二、 经济评价财务测算90营业收入、税金及附加和增值税估算表90综合总成本费用估算表92利润及利润分配表94三、 项目盈利能力分析95项目投资现金流量表96四、 财务生存能力分析98五、 偿债能力分析98借款还本付息计划表99六、 经济评价结论100第十四章 招标方案101一、 项目招标依据101二、 项目招标范围101三、 招标要求101四、 招标组织方式102五、 招标
5、信息发布102第十五章 总结说明103第十六章 附表附件105营业收入、税金及附加和增值税估算表105综合总成本费用估算表105固定资产折旧费估算表106无形资产和其他资产摊销估算表107利润及利润分配表108项目投资现金流量表109借款还本付息计划表110建设投资估算表111建设投资估算表111建设期利息估算表112固定资产投资估算表113流动资金估算表114总投资及构成一览表115项目投资计划与资金筹措一览表116第一章 项目建设背景、必要性一、 应用趋势:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展芯片制程工艺已经从130nm提升至7nm,晶圆尺寸也已实现了8英寸到12英寸的
6、转变,,对溅射靶材性能要求大幅提升。溅射靶材的技术发展趋势与下游应用领域的技术革新息息相关,随着应用市场在薄膜产品或元件上的技术进步,溅射靶材也需要随之变化,随着半导体技术的不断发展,集成电路中的晶体管和线宽的尺寸越来越小。芯片制程工艺已经从130nm提升至7nm,与之对应的晶圆尺寸也已实现了8英寸到12英寸的转变,此外台积电、三星等企业也正在加速推进更高端的芯片制程工艺研发与生产。为了满足现代芯片高精度、小尺寸的需求,对电极和连接器件的布线金属薄膜的性能要求越来越高,这就对溅射靶材的性能提出了更高的要求。推动溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展。1、趋势1:大尺寸大尺寸是靶材的重要发展
7、方向,但随尺寸增加,靶材在晶粒晶向控制难度呈指数级增加,对技术要求就越高。晶圆尺寸越大,可利用效率越高。.12英寸晶圆拥有较大的晶方使用面积,得以达到效率最佳化,相对于8英寸晶圆而言,12英寸的可使用面积超过两倍。大尺寸晶圆要求靶材也朝着大尺寸方向发展。2、趋势2:多品种半导体芯片行业常用的金属溅射靶材主要种类包括:铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯溅射靶材,以及镍铂、钨钛等合金类的溅射靶材,其中铝与铜为两大主流导线工艺。目前芯片生产所使用的主流工艺中同时存在铝和铜两种导线工艺,一般来说110nm晶圆技术节点以上使用铝导线,110nm晶圆技术节点以下使用铜导线。钛靶和铝靶通常配合起来使用,常作为铝导
8、线的阻挡层的薄膜材料,钽靶则配合铜靶使用,作为铜导线的阻挡层的薄膜材料。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展,铜导线工艺的应用量在逐步增大,因此,铜和钽靶材的需求将有望持续增长。在晶圆制程选择上,从全球晶圆厂产能建设情况来看,12寸晶圆厂是目前主流建设方向。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展,铜导线由于具有更低的电迁移效应,及更低的电阻,有降低功耗、提高运算速度等作用,应用量在逐步增大。据SEMI数据显示,如今12英寸晶圆约占64%,8英寸晶圆占比达26%,其他尺寸晶圆占比10%。12英寸晶圆已经成为市场的主流。但传统的铝靶由于在可靠性和抗干扰性等方面的性能依然较为突出,也仍然具有巨大的市场空间
9、。如汽车电子领域的芯片大量使用铝钛材料的110nm以上工艺以确保可靠性。因此,芯片制程工艺的进步并不意味着原有制程工艺及其材料被淘汰,因可靠性、抗干扰性、低成本等优势,110nm以上技术节点的芯片产品也具有巨大的市场空间。3、趋势3:高纯化高纯度甚至超高纯度靶材是高端集成电路半导体芯片的必备材料,通常半导体靶材纯度要求通常达99.9995%(5N5)甚至99.9999%(6N)以上。在下游应用领域中,半导体产业对溅射靶材和溅射薄膜的品质要求最高,随着更大尺寸的硅晶圆片制造出来,相应地要求溅射靶材也朝着大尺寸方向发展,同时也对溅射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。溅射薄膜的纯度与溅射靶材的纯度
10、密切相关,为了满足半导体更高精度、更细小微米工艺的需求,所需要的溅射靶材纯度不断攀升,通常半导体靶材纯度要求通常达99.9995%(5N5)甚至99.9999%(6N)以上。目前国内溅射靶材的高纯金属原料多数依靠日美进口。但部分企业在部分金属提纯方面已取得了重大突破。全球范围内,美、日等国凭借着先发优势和技术专利壁垒,依托先进的提纯技术在产业链中居于十分有利的地位,议价能力强,国内溅射靶材的高纯金属原料多数也依靠日美进口。但经过多年的靶材技术开发,近年来部分企业已在部分金属提纯方面已取得了重大突破,已开始逐步实现国产替代。二、 靶材在平板显示中的应用若根据工艺的不同,FPD行业用靶材也可大致分
11、为溅射用靶材和蒸镀用靶材。其中溅射用靶材主要为Cu、Al、Mo和IGZO等材料。IGZO为TFT激活层,一般用于手机LTPOOLED技术和大尺寸OLED技术。IGZO也可以被用于LCD的制造和X-ray探测器的制造。在国内的LCD生产中,BOEB18和B19用IGZO作为TFT激活层。在老旧产线中,京东方也利用IGZO来替代a-Si以生产精度更高的X-ray探测器。ITO和IZO为透明导电电极。其中ITO被广泛的运用于OLED和LCD的制造中,而IZO时而会被用于顶发射OLED的阴极来使用。Cu、Al、Mo和Ti等金属则做为金属走线,被广泛的运用于Array的TFT生产中,其中钼或者合金材料靶
12、材常作为OLED器件的阴极使用,此外铝靶也可作为阴极使用。蒸镀用靶材一般为Ag和Mg两种金属。Ag和Mg合金一般用于小尺寸OLED面板产线中的阴极制作。除此以外,Ag也可以作为顶发射OLED器件中的阳极反射层使用。其中薄膜晶体管液晶显示面板(TFT-LCD)是当前的主流平面显示技术,金属溅射靶材则是制造TFT-LCD过程中最关键的材料之一。薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)具有轻薄、功耗低、成本低等优点,目前TFT-LCD大约占80%以上的显示面板市场份额。这类显示面板是由大量的液晶显示单元阵列组成(如4K分辨率的屏幕含有800多万个显示单元阵列),而每一个液晶显示单元,都由一个单独的薄膜
13、晶体管(TFT)所控制和驱动。薄膜晶体管阵列的制作原理,是在真空条件下,利用离子束流去轰击固体,使固体表面的原子电离后沉积在玻璃基板上,经过反复多次的“沉积+刻蚀”,一层层(一般为712层)地堆积制作出薄膜晶体管阵列。这种被轰击的固体,即用溅射法沉积薄膜的原材料,就被称作溅射靶材。除LCD外,近年来快速发展的OLED面板产业靶材需求增长也十分明显。OLED典型结构是在氧化铟锡(ITO)玻璃上制作一层几十纳米厚的发光材料,ITO透明电极作为器件的阳极,钼或者合金材料作为器件的阴极。从阴阳2极分别注入电子和空穴,在一定电压驱动下,被注入的电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层并复合,
14、形成激子并使发光分子产生单态激子,单态激子衰减发光。平板显示制造中主要使用的靶材为钼铝铜金属靶材和氧化铟锡(ITO)靶材,部分平板显示企业也会用到钛靶、钽靶、铌靶、铬靶以及银靶等。其中钼靶材和ITO靶材合计需求占比在60%70%左右。但由于各家企业所采用的溅射工艺不同,其所选的溅射靶材也有区别。如,京东方用铜靶、铝靶、钼靶和钼铌靶,韩国三星用钽靶、钛靶,但不用钼铌靶,中电熊猫用钛靶,但不用钼靶、钽靶等。以8.5代液晶显示面板生产线为例,一条8.5代线每年靶材的大致消耗120套铝靶、110套铜靶、60套钼靶、5套钼铌10靶。此外据新材料产业新型显示产业的ITO靶材市场探讨,目前国内单条8.5代线
15、ITO靶材年需求量约40吨,6代线ITO靶材年需求量约20吨。三、 供给:日企占据国内市场主导地位,国产替代逐渐提速我国显示面板靶材高度依赖进口,日企在国内市场仍然占据主导地位,但国产替代逐渐提速。当前该领域竞争格局以攀时、世泰科、贺利氏、爱发科、住友化学、JX金属等为代表的国外少数几家跨国集团占据主导地位,其中攀时、世泰科等厂商是全球钼靶材的主要供应商,住友化学、爱发科等厂商占据了全球铝靶材的大部分市场,三井矿业、JX金属、优美科等厂商是全球ITO靶材的主要供应商,爱发科、JX金属等厂商是全球铜靶材的主要供应商。国内以隆华科技、江丰电子、阿石创、有研新材、先导稀材为主,国产替代正逐渐加速。铝
16、靶:目前国内液晶显示行业用铝靶材主要被日资企业主导,由于价格较低,是平板显示行业常用的溅射靶材,但近年来正逐步被铜靶所替代。外企方面:爱发科电子材料(苏州)有限公司大约占据国内50%左右的市场份额。其次,住友化学也占有一部分市场份额。国产方面:江丰电子从2013年左右开始介入铝靶材,目前已大批量供货,是国产化铝靶材的龙头企业。另外,南山铝业、新疆众和等企业也具备高纯铝的生产能力铜靶:从溅射工艺的发展趋势上来讲,对铜靶材的需求比例一直在逐步增加,加之,近几年国内液晶显示行业的市场规模整体上有所扩大,因此,平板显示行业对铜靶材的需求量将继续呈上升趋势。外企方面:爱发科电子材料(苏州)有限公司几乎垄
17、断着国内铜靶材市场,市场占有率在80%以上,且该公司近几年营收的增加额,主要来自于铜靶材销量的增加。国产方面:有研新材具备高纯铜原料生产能力,但目前主要致力于半导体行业用圆形靶材生产,对液晶显示行业铜靶仅有500吨产能;洛铜集团具备高纯铜生产能力但不生产靶材,且高纯铜原料价格和进口原料相比,在价格方面无明显竞争优势;江丰电子引进海外高端人才,致力于开发高纯铜原料和铜靶材,即将批量生产。钼靶:钼靶材国内需求占全球超过一半,国产化率约有50%。钼靶具体可分为条靶、宽靶和管靶3种,其中,4.5代、5.5代和6代线一般使用宽幅钼靶,而8.5代及以上世代线用使用组合条靶或管靶。外企方面:国外的奥地利攀时
18、、德国世泰科、日本爱发科等企业已基本退出了这部分市场。国产方面:国内钼靶材企业主要集中在洛阳地区,其中,隆华节能下属的洛阳高新四丰电子材料有限公司占据了国内60%多的市场份额,另外,洛阳高科钼钨材料有限公司占据了国内大约10%左右的市场份额。宽幅钼靶:外企方面:国外的攀石、世泰科等企业在国内宽幅钼靶材市场占据较大市场。国产方面:四丰电子大尺寸宽幅钼靶已经开始批量供货;阿石创和金钼股份两家上市公司也充分利用各自在宽幅靶材轧制和靶材加工及销售方面的优势开展紧密合作,金钼股份向阿石创销售宽幅钼靶坯和条形钼靶坯(条形靶坯由宽幅靶坯切割而成),阿石创负责后续绑定等工序和成品销售工作。钼管靶:每条8.5代
19、线对钼管靶的需求量约为30吨/年。钼管靶8.5代线及以上常用钼靶,每套包含12根,每根单重约为300kg,每套重量约为3600kg。由于钼管靶的实际利用率约为70%,因此,每套钼管靶的成膜重量约为2500kg。每条8.5代线对钼管靶的需求量约为30吨/年。另外,钼管靶的供应商,除了要通过其面板生产企业的认证外,还要通过钼管靶溅射设备生产商美国AKT公司的认证,并且要被收取钼管靶售价约5%的认证费。截止2017年底,国内采用管靶溅射设备的生产线只有1条,业内也普遍认为钼管靶的发展空间并不大。钼铌10合金靶。西部材料下属西安瑞福莱钨钼有限公司和爱发科公司合作,经多次试验攻关,已于2017年成功轧制
20、出了氧含量小于1000106,致密度达99.3%的Mo-Nb合金靶坯。此外金钼集团也已实现高纯大尺寸钼铌管状靶材顺利交付,攻克了大规格钼铌合金靶材制粉、烧结、加工等关键工艺难题,掌握了大尺寸靶材的核心制备技术。经第三方机构检测,制备出的钼铌合金靶材各项指标达到要求。在此基础上,项目组又承接了用户管状靶材的订购需求,顺利交付了3套高纯大尺寸钼铌合金管状靶材,且品质优良。钼铌合金管状靶材直径大于150毫米、长度达到2100毫米,纯度可达99.99%,氧含量小于500ppm。ITO靶材:ITO靶材是由90%的氧化铟与10%的氧化锡配比而成,相对密度要求大于99.5%。目前全球铟消耗量中40%50%以
21、上是用于制备加工ITO靶材。外企方面:全球ITO靶材市场主要供应商有日矿金属、三井矿业、优美科等,其中日矿和三井几乎占据了高端TFT-LCD市场用ITO靶材的全部份额和大部分触摸屏面板市场,爱发科也有相关产品,东曹、日立、住友、VMC、三星、康宁等企业也掌握核心技术。目前中国ITO靶材供应约一半左右依赖进口。本土厂商生产的ITO靶材主要供应中低端市场,约占国内市场30%的份额;而高端TFT-LCD、触摸屏用ITO靶材几乎全部从日本、韩国进口。国产方面:近年来,国内多家厂商宣布进入ITO靶材领域,但实际量产和导入并不顺利,也尚未实现批量供应。据集微网调研,目前国内有能力量产并供货的ITO靶材厂商
22、有先导稀材,其ITO靶材产能预计已经达1100吨/年(清远200吨LCD用ITO靶材,100吨5G手机ITO靶材,合肥800吨),隆华科技全资子公司晶联光电的ITO靶材产能已经达到100吨/年,且在建200吨/年,映日科技的ITO靶材产能已经达到120吨/年,戊电科技的ITO靶材产能已经达到50吨/年等,而阿石创ITO靶材产能实际占比较小。近年来部分国内企业目前也已通过相关认证,在下游市场得到较为广泛的应用。国内的靶材厂商都正在不断提升技术工艺和生产设备,努力通过TFT-LCD试镀测试打开高端OLED显示领域的大门。四、 提升城市规模能级,加快新型城镇化步伐主动对接融入国家、省区域协调发展战略
23、,优化国土空间保护格局,健全市域协调发展体制机制,实施城市规模能级提升行动,促进中心城区、县城和小城镇协调发展,积极完善以城带乡、多级联动的城乡协调发展新机制。优化国土空间保护格局。落实国家安全战略、区域协调发展战略和主体功能区战略,优化城镇化格局、农业生产格局、生态保护格局,统筹划定生态保护红线、永久基本农田、城镇开发边界三条控制线,强化底线约束,为可持续发展预留空间。建立国土空间规划体系,形成以国土空间规划为基础,以统一用途管制为手段的国土空间开发保护制度,形成覆盖全域的国土空间规划“一张图”。提升中心城区引领带动作用。完善行政区划设置,推进中心城区产业结构和空间布局优化,增强中心城区引领
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