丽水平板显示靶材项目商业计划书.docx
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1、泓域咨询/丽水平板显示靶材项目商业计划书丽水平板显示靶材项目商业计划书xx(集团)有限公司目录第一章 项目概述8一、 项目名称及投资人8二、 项目建设背景8三、 结论分析10主要经济指标一览表12第二章 项目建设背景、必要性14一、 应用趋势:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展14二、 国产替代+技术革新,高端靶材需求强劲17三、 跨山统筹,打造市域一体化丽水样板19第三章 市场分析21一、 供给:日企占据国内市场主导地位,国产替代逐渐提速21二、 显示面板靶材市场规模预测25第四章 项目投资主体概况27一、 公司基本信息27二、 公司简介27三、 公司竞争优势28四、
2、公司主要财务数据30公司合并资产负债表主要数据30公司合并利润表主要数据30五、 核心人员介绍31六、 经营宗旨32七、 公司发展规划32第五章 法人治理结构34一、 股东权利及义务34二、 董事41三、 高级管理人员45四、 监事48第六章 运营管理模式51一、 公司经营宗旨51二、 公司的目标、主要职责51三、 各部门职责及权限52四、 财务会计制度55第七章 SWOT分析62一、 优势分析(S)62二、 劣势分析(W)64三、 机会分析(O)64四、 威胁分析(T)66第八章 发展规划分析74一、 公司发展规划74二、 保障措施75第九章 创新驱动77一、 企业技术研发分析77二、 项目
3、技术工艺分析79三、 质量管理80四、 创新发展总结81第十章 建筑物技术方案83一、 项目工程设计总体要求83二、 建设方案83三、 建筑工程建设指标84建筑工程投资一览表84第十一章 进度规划方案86一、 项目进度安排86项目实施进度计划一览表86二、 项目实施保障措施87第十二章 产品方案分析88一、 建设规模及主要建设内容88二、 产品规划方案及生产纲领88产品规划方案一览表88第十三章 风险评估90一、 项目风险分析90二、 公司竞争劣势97第十四章 项目投资计划98一、 投资估算的编制说明98二、 建设投资估算98建设投资估算表100三、 建设期利息100建设期利息估算表101四、
4、 流动资金102流动资金估算表102五、 项目总投资103总投资及构成一览表103六、 资金筹措与投资计划104项目投资计划与资金筹措一览表105第十五章 经济效益分析107一、 经济评价财务测算107营业收入、税金及附加和增值税估算表107综合总成本费用估算表108固定资产折旧费估算表109无形资产和其他资产摊销估算表110利润及利润分配表112二、 项目盈利能力分析112项目投资现金流量表114三、 偿债能力分析115借款还本付息计划表116第十六章 项目总结118第十七章 补充表格121建设投资估算表121建设期利息估算表121固定资产投资估算表122流动资金估算表123总投资及构成一览
5、表124项目投资计划与资金筹措一览表125营业收入、税金及附加和增值税估算表126综合总成本费用估算表127固定资产折旧费估算表128无形资产和其他资产摊销估算表129利润及利润分配表129项目投资现金流量表130报告说明平板显示制造中主要使用的靶材为钼铝铜金属靶材和氧化铟锡(ITO)靶材,部分平板显示企业也会用到钛靶、钽靶、铌靶、铬靶以及银靶等。其中钼靶材和ITO靶材合计需求占比在60%70%左右。但由于各家企业所采用的溅射工艺不同,其所选的溅射靶材也有区别。如,京东方用铜靶、铝靶、钼靶和钼铌靶,韩国三星用钽靶、钛靶,但不用钼铌靶,中电熊猫用钛靶,但不用钼靶、钽靶等。以8.5代液晶显示面板生
6、产线为例,一条8.5代线每年靶材的大致消耗120套铝靶、110套铜靶、60套钼靶、5套钼铌10靶。此外据新材料产业新型显示产业的ITO靶材市场探讨,目前国内单条8.5代线ITO靶材年需求量约40吨,6代线ITO靶材年需求量约20吨。根据谨慎财务估算,项目总投资17130.07万元,其中:建设投资13171.88万元,占项目总投资的76.89%;建设期利息304.01万元,占项目总投资的1.77%;流动资金3654.18万元,占项目总投资的21.33%。项目正常运营每年营业收入35200.00万元,综合总成本费用28893.33万元,净利润4610.81万元,财务内部收益率19.80%,财务净现
7、值6157.45万元,全部投资回收期6.11年。本期项目具有较强的财务盈利能力,其财务净现值良好,投资回收期合理。项目产品应用领域广泛,市场发展空间大。本项目的建立投资合理,回收快,市场销售好,无环境污染,经济效益和社会效益良好,这也奠定了公司可持续发展的基础。本期项目是基于公开的产业信息、市场分析、技术方案等信息,并依托行业分析模型而进行的模板化设计,其数据参数符合行业基本情况。本报告仅作为投资参考或作为学习参考模板用途。第一章 项目概述一、 项目名称及投资人(一)项目名称丽水平板显示靶材项目(二)项目投资人xx(集团)有限公司(三)建设地点本期项目选址位于xx。二、 项目建设背景铜靶:从溅
8、射工艺的发展趋势上来讲,对铜靶材的需求比例一直在逐步增加,加之,近几年国内液晶显示行业的市场规模整体上有所扩大,因此,平板显示行业对铜靶材的需求量将继续呈上升趋势。外企方面:爱发科电子材料(苏州)有限公司几乎垄断着国内铜靶材市场,市场占有率在80%以上,且该公司近几年营收的增加额,主要来自于铜靶材销量的增加。国产方面:有研新材具备高纯铜原料生产能力,但目前主要致力于半导体行业用圆形靶材生产,对液晶显示行业铜靶仅有500吨产能;洛铜集团具备高纯铜生产能力但不生产靶材,且高纯铜原料价格和进口原料相比,在价格方面无明显竞争优势;江丰电子引进海外高端人才,致力于开发高纯铜原料和铜靶材,即将批量生产。诗
9、画浙江大花园最美核心区全面建成,高质量绿色发展取得决定性成果,成为全面展示浙江高水平生态文明建设和高质量绿色发展两方面成果和经验的重要窗口,成为创新实践“绿水青山就是金山银山”理念的全国标杆,人民物质富裕、精神富足、文化富有、生态富丽,基本实现以人为核心的现代化。生态环境质量、生态价值转化效率、美丽经济发展全面处于国内领先、率先达到国际先进水平,建成世界一流生态旅游目的地,打造华东地区生物多样性基因库,建成长三角地区康养基地,率先走出人与自然和谐共生的现代化之路,成为新时代美丽中国先行示范区。山区跨越式发展迈上大台阶,“一带三区”发展格局全面形成,人均生产总值达到中等发达国家水平,基本实现新型
10、工业化、信息化、城镇化、农业农村现代化,建成具有丽水鲜明特色的现代化生态经济体系和区域创新体系。现代化的市域治理体系全面形成,建成法治政府、法治社会,基本实现市域治理现代化。社会主义精神文明和物质文明全面协调发展,国民素质和社会文明程度达到新高度,文化创造力、传播力、服务力、竞争力显著增强。安全保障体系不断健全,共建共治共享的社会治理格局更加完善,高水平建成平安浙江示范区、全国最平安城市。建成现代化公共服务体系,实现教育现代化、卫生健康现代化,城乡居民收入持续快速增长,城乡区域发展差距和居民生活水平均衡度显著提高,人民生活更加美好,人的全面发展、人民共同富裕取得更为明显的实质性进展。三、 结论
11、分析(一)项目选址本期项目选址位于xx,占地面积约36.00亩。(二)建设规模与产品方案项目正常运营后,可形成年产xx吨平板显示靶材的生产能力。(三)项目实施进度本期项目建设期限规划24个月。(四)投资估算本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算,项目总投资17130.07万元,其中:建设投资13171.88万元,占项目总投资的76.89%;建设期利息304.01万元,占项目总投资的1.77%;流动资金3654.18万元,占项目总投资的21.33%。(五)资金筹措项目总投资17130.07万元,根据资金筹措方案,xx(集团)有限公司计划自筹资金(资本金)10925.6
12、1万元。根据谨慎财务测算,本期工程项目申请银行借款总额6204.46万元。(六)经济评价1、项目达产年预期营业收入(SP):35200.00万元。2、年综合总成本费用(TC):28893.33万元。3、项目达产年净利润(NP):4610.81万元。4、财务内部收益率(FIRR):19.80%。5、全部投资回收期(Pt):6.11年(含建设期24个月)。6、达产年盈亏平衡点(BEP):12768.72万元(产值)。(七)社会效益本期项目技术上可行、经济上合理,投资方向正确,资本结构合理,技术方案设计优良。本期项目的投资建设和实施无论是经济效益、社会效益等方面都是积极可行的。本项目实施后,可满足国
13、内市场需求,增加国家及地方财政收入,带动产业升级发展,为社会提供更多的就业机会。另外,由于本项目环保治理手段完善,不会对周边环境产生不利影响。因此,本项目建设具有良好的社会效益。(八)主要经济技术指标主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积24000.00约36.00亩1.1总建筑面积38949.451.2基底面积13920.001.3投资强度万元/亩363.282总投资万元17130.072.1建设投资万元13171.882.1.1工程费用万元11478.572.1.2其他费用万元1265.512.1.3预备费万元427.802.2建设期利息万元304.012.3流动资金万元3654
14、.183资金筹措万元17130.073.1自筹资金万元10925.613.2银行贷款万元6204.464营业收入万元35200.00正常运营年份5总成本费用万元28893.336利润总额万元6147.747净利润万元4610.818所得税万元1536.939增值税万元1324.3810税金及附加万元158.9311纳税总额万元3020.2412工业增加值万元10445.7213盈亏平衡点万元12768.72产值14回收期年6.1115内部收益率19.80%所得税后16财务净现值万元6157.45所得税后第二章 项目建设背景、必要性一、 应用趋势:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯
15、度化发展芯片制程工艺已经从130nm提升至7nm,晶圆尺寸也已实现了8英寸到12英寸的转变,,对溅射靶材性能要求大幅提升。溅射靶材的技术发展趋势与下游应用领域的技术革新息息相关,随着应用市场在薄膜产品或元件上的技术进步,溅射靶材也需要随之变化,随着半导体技术的不断发展,集成电路中的晶体管和线宽的尺寸越来越小。芯片制程工艺已经从130nm提升至7nm,与之对应的晶圆尺寸也已实现了8英寸到12英寸的转变,此外台积电、三星等企业也正在加速推进更高端的芯片制程工艺研发与生产。为了满足现代芯片高精度、小尺寸的需求,对电极和连接器件的布线金属薄膜的性能要求越来越高,这就对溅射靶材的性能提出了更高的要求。推
16、动溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展。1、趋势1:大尺寸大尺寸是靶材的重要发展方向,但随尺寸增加,靶材在晶粒晶向控制难度呈指数级增加,对技术要求就越高。晶圆尺寸越大,可利用效率越高。.12英寸晶圆拥有较大的晶方使用面积,得以达到效率最佳化,相对于8英寸晶圆而言,12英寸的可使用面积超过两倍。大尺寸晶圆要求靶材也朝着大尺寸方向发展。2、趋势2:多品种半导体芯片行业常用的金属溅射靶材主要种类包括:铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯溅射靶材,以及镍铂、钨钛等合金类的溅射靶材,其中铝与铜为两大主流导线工艺。目前芯片生产所使用的主流工艺中同时存在铝和铜两种导线工艺,一般来说110nm晶圆技术节点以上使
17、用铝导线,110nm晶圆技术节点以下使用铜导线。钛靶和铝靶通常配合起来使用,常作为铝导线的阻挡层的薄膜材料,钽靶则配合铜靶使用,作为铜导线的阻挡层的薄膜材料。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展,铜导线工艺的应用量在逐步增大,因此,铜和钽靶材的需求将有望持续增长。在晶圆制程选择上,从全球晶圆厂产能建设情况来看,12寸晶圆厂是目前主流建设方向。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展,铜导线由于具有更低的电迁移效应,及更低的电阻,有降低功耗、提高运算速度等作用,应用量在逐步增大。据SEMI数据显示,如今12英寸晶圆约占64%,8英寸晶圆占比达26%,其他尺寸晶圆占比10%。12英寸晶圆已经成为市场的主流
18、。但传统的铝靶由于在可靠性和抗干扰性等方面的性能依然较为突出,也仍然具有巨大的市场空间。如汽车电子领域的芯片大量使用铝钛材料的110nm以上工艺以确保可靠性。因此,芯片制程工艺的进步并不意味着原有制程工艺及其材料被淘汰,因可靠性、抗干扰性、低成本等优势,110nm以上技术节点的芯片产品也具有巨大的市场空间。3、趋势3:高纯化高纯度甚至超高纯度靶材是高端集成电路半导体芯片的必备材料,通常半导体靶材纯度要求通常达99.9995%(5N5)甚至99.9999%(6N)以上。在下游应用领域中,半导体产业对溅射靶材和溅射薄膜的品质要求最高,随着更大尺寸的硅晶圆片制造出来,相应地要求溅射靶材也朝着大尺寸方
19、向发展,同时也对溅射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。溅射薄膜的纯度与溅射靶材的纯度密切相关,为了满足半导体更高精度、更细小微米工艺的需求,所需要的溅射靶材纯度不断攀升,通常半导体靶材纯度要求通常达99.9995%(5N5)甚至99.9999%(6N)以上。目前国内溅射靶材的高纯金属原料多数依靠日美进口。但部分企业在部分金属提纯方面已取得了重大突破。全球范围内,美、日等国凭借着先发优势和技术专利壁垒,依托先进的提纯技术在产业链中居于十分有利的地位,议价能力强,国内溅射靶材的高纯金属原料多数也依靠日美进口。但经过多年的靶材技术开发,近年来部分企业已在部分金属提纯方面已取得了重大突破,已开始逐步
20、实现国产替代。二、 国产替代+技术革新,高端靶材需求强劲靶材主要用于平板显示器、半导体、光伏电池、记录媒体等领域。从需求来,靶材是制备功能薄膜的核心原材料,主要用于面板、半导体、光伏和磁记录媒体等领域,实现导电或阻挡等功能。2020年全球靶材市场规模约188亿美元,我国靶材市场规模为46亿美元。从供给来看,四家日美巨头占据80%靶材市场,国内溅射靶材主要应用于中低端产品,国产替代需求强烈。产业转移加速靶材国产替代,技术革新推动铜钽需求提升。半导体芯片行业是对靶材的成分、组织和性能要求最高的领域,纯度要求通常达5N5甚至6N以上。随着半导体产业加速向国内转移,预计25年我国半导体靶材市场规模将达
21、到约6.7亿美元,21-25年我国靶材需求增速或达9.2%。同时随着下游芯片技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展,其中铜、钽靶材需求增长前景较好。供给方面,日美厂商约占90%份额,但有研等企业已在国产铜、铝等靶材取得突破,同时产能也在不断扩张,预计未来2-3年我国半导体靶材将新增10万块以上产能。国产替代+产品迭代,我国显示面板靶材需求有望持续高速。FDP靶材根据工艺,可分为溅射用靶材和蒸镀用靶材。其中溅射靶材主要为Cu、Al、Mo和IGZO等,纯度和技术要求仅次于半导体,一般在4N甚至5N以上,但对靶材的焊接结合率、平整度等提出了更高要求。受益显示面板需求上涨和我国显示面板国
22、产替代提升,预计25年我国FDP靶材市场规模将达50亿美元,21-25年CAGR为18.9%。此外预计OLED用钼靶与低电阻铜靶成长空间广阔。供给来看,我国显示面板靶材高度依赖进口,日企在国内市场仍然占据主导地位,国内以隆华科技、江丰电子、阿石创、先导稀材、有研新材为主,国产替代正逐渐加速。Hit量产元年开启,靶材或迎成长机遇期。光伏靶材的使用主要是薄膜电池和HIT光伏电池,纯度一般在4N以上。随着HIT电池和薄膜电池的发展,预计25年我国市场规模将接近38亿美元,21-25年CAGR为56.1%。供给方面,由于国内薄膜电池及HIT电池市场规模尚小,相关靶材企业也较少,多处起步阶段,其中先导稀
23、材、江丰电子等产能相对较大,此外隆华科技也已开始布局相关产业龙头。趋势难逆,磁记录靶材预计将逐步转向存储芯片靶材。磁记录靶材则多以溅射法制作,常用材料为钴(3N)/镍/铁合金/铬/碲、硒(4N)/稀土-迁移金属(3N)等,主要包括铬靶、镍靶、钴靶。我国磁记录靶材市场以海外供应为主,中国生产磁记录靶材企业数量和产能非常有限。由于我国机械硬盘国产化水平极低,且记录媒体研发重心主要在半导体存储,预计传统机械键盘成长空间有限,磁记录靶材预计将逐步转向存储芯片靶材。3DNAND领域用钨、钛、铜、钽靶材需求增量较大。三、 跨山统筹,打造市域一体化丽水样板全面落实“一带三区”发展规划,以市域一体化、协同化、
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