孔无铜缺陷判读及改善.ppt
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1、孔无铜缺陷判读及预防,课程目标,帮助学员对切片缺陷进行判读; 通过案例对原因进行分析并预防; 降低孔无铜比例,达到稳定品质的目的,课程内容,第一部分:孔无铜定义 第二部分:原因分析 第三部分:缺陷现象及失效分析 第四部分:纠正行动及改善方案,第一部分:孔无铜定义,孔无铜是指印制板金属化孔孔内开路; 在通断检测时失去电气连接性能; 金属化孔包括:通孔、盲孔和埋孔; 孔壁不导通也称“破孔”或“孔内开路”。,孔的作用及影响因素,作用:具有零件插焊和导电互连功能。 加工过程影响因素多,控制复杂: 钻孔质量:孔壁平滑度、粗糙度等 凹蚀效果:内层连接、树脂表观情况 沉铜效果:药水活性及背光级数 平板镀铜:
2、过程控制及故障处理 图形电镀:微蚀控制及抗蚀层性能 后工序影响:微蚀控制及返工板处理等,孔无铜的特殊性,印制板致命品质缺陷之一,需加强控制; 产生原因复杂,改善难度大; 严重影响板件性能和可靠性; 孔无铜缺陷及判读是湿法人员基本功; 提高孔铜保证性是PCB厂综合实力的体现。,第二部分:原因分析,孔内无铜从加工流程上分类: 沉铜不良(如:气泡、塞孔、背光不足等) 平板不良(如:整流机无电流、镀前停留时间长等) 图电不良(如:图电微蚀过度、塞孔、抗蚀差等) 后工序微蚀过度; 酸蚀板孔无铜; 埋盲孔孔无铜; 其他类型孔无铜。,孔无铜因果图,化学沉铜类型介绍,沉薄铜:化学铜厚度10 20u (0.25
3、 0.5um) 中速铜:化学铜厚度40 60u (1.0 1.5um) 厚化铜:化学铜厚度80 100u(2.0 2.5um) 本厂使用ATO薄铜体系,铜层厚度约7-12 u 注意:沉铜层不致密,很容易被空气氧化! 措施:沉铜后板件尽快进行平板电镀!,背光:沉铜活性的体现者,背光测试方法如下图:,背光不足处理程序,沉铜背光级数判读,注意:树脂比玻璃纤维更容易沉上铜!,图电前后判读标准,第三部分:缺陷现象及失效分析,收集21种常见缺陷图片进行分析; 以图带文从切片缺陷进行界定; 通过案例分析找出“问题背后的问题”; 将被动的事后纠正变为事前控制!,现状描述1,铜丝塞孔孔无铜,孔壁粗糙度过大,钻孔
4、玻璃纤维丝,钻孔不良导致的孔内铜丝,钻孔不良(披峰),钻孔披峰会导致孔径变小、塞孔或酸蚀板破孔!,失效分析,特点:钻孔不良,孔壁不平整、粗糙度过大或披峰过大等; 原因:钻孔工艺条件差,如:钻头寿命太长、返磨次数过多、叠板数过多或钻咀侧刃不锋利等; 措施:改进钻孔工艺条件,检讨钻头质量及使用要求。,现状描述2,孔内玻纤上断断续续、点状无铜!,失效分析,特点:图形层包住平板层,无铜处断断续续,大小孔均有出现,特别在玻璃纤维上无铜的机率更高,常发生在拖缸之后; 原因:沉铜不良(如:药水活性不足、背光 不足、温度太低等) 措施:检讨拖缸方法和程序、 提高药水活性。,缺陷描述3,孔壁夹带铜皮或杂物,塞孔
5、导致的孔无铜:,失效分析,特点:平板层包住杂物塞孔导致孔无铜; 原因:钻房工艺条件差,在去毛刺高压水洗中无法除去导致塞孔,也可能是铜粉堵塞或自来水、药缸杂质等外来异物; 措施:改善钻孔条件、提高去毛刺高压水洗压力、加强各药水缸过滤和净化等。,缺陷描述4,孔壁与内层线路连接不良(ICD),失效分析,特点:凹蚀不良导致与内层连接出现开路; 原因: 溶胀缸膨松不够:浓度低、温度低、处理时间短及药水寿命已到; 咬蚀能力差:药水温度低、浓度低、锰酸钾含量高、处理时间短或药水老化; 特殊板材:高g、含填料板件或其他特殊材质等。 其他:可能是钻孔发热过度或烘板参数不当造成; 措施:确认具体问题进行针对性改善
6、!,缺陷描述5,孔内无铜位置出现基本对称,全部集中在小孔中:,失效分析,特点:图形层包平板层,发生在孔中央并呈对称; 原因:孔内气泡来不及排走,导致沉铜不良。 可能是震荡器故障或震荡不足孔内气泡无法排出, 可能是沉铜缸反应速率太快产生大量气泡(氢气) ; 措施:检查震荡和化学沉铜条件如:温度/负载/药液浓度等。,缺陷描述6,无铜处全部发生在树脂部位:,失效分析,特点:孔内无铜位置全部发生在树脂部位; 原因:除胶渣不够,树脂蜂窝状结构尚未形成; 措施:检查凹蚀段条件,提高除胶渣能力(如:提高浓度、温度或延长时间等),缺陷描述7,电镀层包住平板层,切片从孔口向孔中央平板层逐渐消失:,失效分析,特点
7、:图形层包住平板层,切片从孔口向孔中央平板层逐渐变薄并最后消失; 原因:平板不良,平板电镀时电流密度过小、电镀时间过短或设备故障(电接触不良)等; 措施:检查平板电镀条件,如:电流密度、时间等。,缺陷描述8,大孔内出现点状无铜,小孔反而孔内完整:,失效分析,特点:大孔内出现点状无铜,小孔反而孔内完整; 原因:可能是吊车故障,板件在空中或水洗缸内停留时间过长,沉铜层被氧化导致孔无铜; 措施:按工作指示要求对吊车故障板件进行隔离、重新沉铜返工处理并确认。,缺陷描述9,孔口处无铜,图形层没有包住平板层,较多出现在大孔:,失效分析,特点:孔口边缘断铜,断铜面较整齐; 原因:基本可断定为干膜入孔,干膜由
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