彩色滤光片原理BU.ppt

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1、彩色滤光片原理彩色滤光片原理BU现在学习的是第1页，共57页彩色滤光片彩色滤光片-基于加法混色的原理基于加法混色的原理现在学习的是第2页，共57页两种间接混色法两种间接混色法l时间混色法-视觉暂留特性l空间混色法-人眼的分辨力有一定限度特性现在学习的是第3页，共57页R G B 三原色频谱三原色频谱现在学习的是第4页，共57页颜色的度量颜色的度量CIE1931色度图色度图 现在学习的是第5页，共57页色度三角形说明了什么色度三角形说明了什么?现在学习的是第6页，共57页三角形的边，是由其对应两点的基色组成的混色线：如红与绿组成的边，代表了红与绿组成的各种彩色，所以，由三基色混合的各种彩色，都在

2、这个三角形的边上，其饱和度为100%；现在学习的是第7页，共57页三角形的重心是由红、绿、蓝等量组成，为白色（电视语言：白光）；现在学习的是第8页，共57页过三角形的顶点和对边中点的连线必过三角形的顶点和对边中点的连线必经过三角形重心，那么蓝色和黄色、经过三角形重心，那么蓝色和黄色、红色和青色、绿色和紫色，也可以组红色和青色、绿色和紫色，也可以组 成白色，这两种类型的色称为互补色成白色，这两种类型的色称为互补色。现在学习的是第9页，共57页彩色的三要素彩色的三要素l亮度、色调、色饱和度l色调和色饱和度合称：色度现在学习的是第10页，共57页三要素说明三要素说明:l明度就是明亮的程度；l色调是由

3、波长决定的色别，如700nm光的色调是红色，579nm光的色调是黄色，510nm光的色调是绿色等等；l饱和度就是纯度，没有混入白色的窄带单色，在视觉上就是高饱和度的颜色。光谱所有的光都是最纯的颜色光，加入白色越多，混合后的颜色就越不纯，看起来也就越不饱和。现在学习的是第11页，共57页彩色显示机理彩色显示机理 彩色滤光膜的R、G、B三基色按一定图案排列，并与TFT基板上的TFT子象素一一对应（注意：一个象素由三个子象素组成）。背光源发出的白光，经滤光膜后变成相应的R、G、B色光。通过TFT阵列可以调节加在各个子象素上的电压值，从而改变各色光的透射强度。不同强度的RGB色光混合在一起，就实现了彩

4、色显示。现在学习的是第12页，共57页彩色滤光片结构示意图彩色滤光片结构示意图现在学习的是第13页，共57页 驱动电压的改变调整液晶翻转的角度,进而改变通过RGB子象素的光量,由加法混色的原理得到丰富的色彩表现.现在学习的是第14页，共57页LCDLCD示意图示意图现在学习的是第15页，共57页当我们用放大镜观察当我们用放大镜观察LCDLCD的某一点的某一点现在学习的是第16页，共57页对彩色滤光片的要求对彩色滤光片的要求lRGB三基色有高饱和度和高透明度,白平衡好.各颜色光谱尖锐,滤掉不需要的波长的光.l高对比度.对于高色纯度和高清晰度的画面而言,必须要有高对比度.高对比度必定要求CF具有低

5、反射率,因此对黑底提出了严格的要求.现在学习的是第17页，共57页对彩色滤光片的要求对彩色滤光片的要求l平整度好,起伏要求小于0.1m,空间精度好,对于200-300m的彩色像素(含RGB),精度10m,必须与TFT完全匹配.l高热学稳定性,光学稳定性,化学稳定性.现在学习的是第18页，共57页彩色滤光片制程彩色滤光片制程(主要部分主要部分)l黑色矩阵(Black Matrix)BMl彩色层(Color Layer)RGBl导电膜溅镀(ITO Sputtering Process)ITOl间隙粒子PSl切割裂片(Cutting Process)现在学习的是第19页，共57页彩色滤光片的制造程序

6、BM制程RGB制程ITO制程PS制程最终检查最终清洗包装玻璃基板自检自检现在学习的是第20页，共57页BM(Black Matrix)l功能：1）提高对比度，防止串色；2）防止光电流产生，保护TFT电极。l材料：铬、镍、黑色树脂，以成本和环保的角度考虑，目前已广泛采用黑色树脂。现在学习的是第21页，共57页BM制程制程：现在学习的是第22页，共57页说明说明lResin BM的优点的优点 l减少Cr镀膜成本 l降低反射率 l减少对环境的破坏 lResin BM的制程原理的制程原理 lResin BM制程与一般负型光阻相同,分为塗佈,曝光,显影,后烤等步骤.制程主要规格特性为BM线宽,线精度,位

7、置精度,膜厚,Total pitch与光学浓度（OD）值等等.现在学习的是第23页，共57页Color(RGB)Layer:l光微影制程为目前生产彩色滤光片之主流，其制造方法以着色材料分散在感光性树脂中，此感光树脂为负型(Negative)，在紫外线照射下经过光反应(即交链反应)而硬化，做反复的塗佈、曝光、显影、硬烤可形成R、G、B三色的彩色滤光片，最后再真空溅鍍ITO导电膜于彩色层上面。l 彩色层制程包含塗佈、曝光、显影及硬烤等步驟，现在学习的是第24页，共57页塗佈制程质量要求塗佈制程质量要求 l膜厚均一性须达5%以內l Particle（粒子）及mura（膜厚变化,不均匀性）产生率小l

8、材料使用率高l 光阻穩定性高 现在学习的是第25页，共57页曝光、显影曝光、显影l 一般树脂配方为感光型，颜料光阻为负形光阻剂，在曝光时曝光区进行自由基聚合反应形成交链结构而硬化l显影时不易溶于现影液中，非曝光区则易溶于碱性溶液，经水洗、干燥后即可得所需图案(pattern)现在学习的是第26页，共57页硬烤硬烤 硬烤温度约200250，目的：去除显影时造成swelling所残留的水份及显影液，增加附着力及平坦度。现在学习的是第27页，共57页彩色层制程：彩色层制程：现在学习的是第28页，共57页光阻光阻 现在学习的是第29页，共57页RGB制程介绍制程介绍 颜料分散法是将颜料作为着色材料，将

9、颜料分散在胶合树脂中形成着色树脂，所以称为颜料分散法。将染料进行分散则称为染料分散法。广义的颜料分散法包含印刷法与电镀法，不过一般最具代表性成膜方法是利用光学微影之着色感光材料法与蚀刻法两种。另外预先将彩色光阻涂布在基材上，再将彩色膜转印到基板上，之后再利用光学微影方式來形成电极图案的转印方式也是近來备受瞩目的新制程。现在学习的是第30页，共57页 彩色濾光片製造方法的分類彩色濾光片製造方法的分類 色料色料着色方法着色方法成膜方法成膜方法制造名称制造名称染料染料染色光学微影单层法(染色法)多层法染料分散光学微影蚀刻法彩色感光材料法印刷其他喷墨(Ink Jet)法颜料颜料颜料分散光学微影蚀刻法彩

10、色感光材料法转印法印刷凹版印刷法平版印刷法网版印刷法电镀光学微影其他电子照相法激光燒成法现在学习的是第31页，共57页CF颜料分散法制程图示颜料分散法制程图示现在学习的是第32页，共57页着色感光材料法着色感光材料法 着色感光材料法是将颜料分散在微粒透明感光性树脂中，形成着色感光材料，進行涂布曝光显影，將R、G、B重复进行三次形成电极图案的方法。原理是采用光学微影(lithography)方式，所以设备也以涂布设备、曝光设备、显影设备为主。色相特性、颜料选择、微细化程度与感光材料分散方法等都是由涂布膜厚所決定。与同為光学微影式染色法相比，染色制程中的防染处理制程较为简化，但在曝光制程方面，由于

11、着色感光材料的颜料会吸光，所以必须选用高感度的感光性树脂及曝光源。现在学习的是第33页，共57页蚀刻蚀刻(Etching)法法 蚀刻法是利用蚀刻形成着色树脂层，着色树脂是将颜料分散在聚合树脂(Polyimide)中。先将着色树脂涂布在玻璃基板上，烘干固化后涂布光阻，进行曝光、显影。由于蚀刻法需增加光阻涂布与显影剥离等制製程，制程数较着色感光材料法多。现在学习的是第34页，共57页转印法转印法 转印法是将颜料分散树脂溶液涂布在薄膜上并进行干燥。利用此种涂布方法将涂在薄膜上的著色材料利用转印设备转印到玻璃基板后进行曝光、显影來形成象素。反复进行转印、曝光、显影制程形成RGB彩色层与黑色矩阵。由与形

12、成原理是採光学微影方式，设备基本上与着色感光材料法相同。而且R、G、B各象素有遮蔽UV光功能，一般的黑色矩阵是利用背面曝光法來進行。现在学习的是第35页，共57页 ITO =Indium Tin Oxide 90 wt.%In2O3-10 wt.%SnO2现在学习的是第36页，共57页ITO原理原理l1968年荷兰PHILIPS公司的技术人员在偶然的试验中发现在铟化物表面上噴洒氯化锡液体，得到 3 10-4.的低电阻系数的透明导电薄膜后，ITO 的研究就一直是各大公司的热点。lITO，铟锡氧化物，这个名词原本应该叫做Tin-doped Indium Oxide，即掺杂锡之铟氧 化物。因专业习惯

13、简称：Indium Tin Oxide（ITO），使之成为专业用语。现在学习的是第37页，共57页ITO Sputtering Process:1、功能：l提供液晶上电场之透光金属膜l此膜必须具备表面平滑性及元件可靠度l与着色层之成型方法有关l并利用压克力树脂与环氧树脂作为保护膜现在学习的是第38页，共57页ITO Sputtering Process:2、材料特性：l采用电浆溅镀法lITO：Indium Tin Oxide（铟锡氧化物）lITO膜厚度0.15m，表面电阻2030/现在学习的是第39页，共57页ITO Sputtering Process:目前平面现示器几乎都是使用ITO膜，主

14、要理由：l具有低电阻(氧化锡导电能力强)l高透光率(氧化铟透过率高)l蚀刻容易l适合大面积制作现在学习的是第40页，共57页溅镀示意图溅镀示意图现在学习的是第41页，共57页电浆溅镀法电浆溅镀法透明片视为CF基板现在学习的是第42页，共57页ZnO:AlZnO:Al膜作为膜作为ITOITO代替材料代替材料lITO的原料In是稀有金属，近年需求量的激增，至2005年其市价已经超过1,000美元kg。lZnO系是廉价又资源丰富的材料，也没有毒性，根据实验显示阻抗值和ITO相同，被认为是代替ITO的有力候补材料。lZnO的透明导电性很久前就广为所知，还进行了低抵抗化所需添加物的研究。添加了Al后的Z

15、nO膜（ZAO膜）得到了190cm的低阻抗结果，显示了作为材料的可能性。l考虑到成品的特性，目前无法采用减少In材料来达到降低成本，ZAO虽然阻抗率不及ITO，但穿透率却超过了ITO，同时也可以进行蚀刻，稍待时日就有可能代替ITO。现在学习的是第43页，共57页什么是什么是Photo spacerPhoto spacer？spacer主要是提供上下两层玻璃的支撑,它必须均匀的分布在玻璃基板上,不然一但分布不均造成部分spacer聚集在一起,反而会阻碍光线通过,也无法维持上下两片玻璃的适当间隙(gap),会成电场分布不均的现象,进而影响液晶的灰阶表现.现在学习的是第44页，共57页Photo s

16、pacerPhoto spacer的作用的作用l较佳的cell gap均匀性 l降低漏光,提高对比度 现在学习的是第45页，共57页SpacerSpacer示意图示意图现在学习的是第46页，共57页Photo spacerPhoto spacer制程原理制程原理 Photo spacer制程与一般负型光阻相同,分为塗佈,曝光,显影,后烤等步骤.主要规格：PS高度,上/下底面积,弹性回复率等等SVA-FF采用转印法，原理同（P29）现在学习的是第47页，共57页保護Film着色感材層（m）酸素遮断層（1.5m)Cussion層(10m)Basement Film(帯電防止処理)Coated Fi

17、lm Laminate富士的转印法现在学习的是第48页，共57页负型光阻材料的典型示意负型光阻材料的典型示意现在学习的是第49页，共57页上下游关系上下游关系 现在学习的是第50页，共57页彩色滤光片的象素排列彩色滤光片的象素排列现在学习的是第51页，共57页LCD知识介绍知识介绍lPanel的基本结构的基本结构 （1）（2）（3）（7）（4）（5）（6）（9）（8）（10）现在学习的是第52页，共57页Spacer ball状与状与Spacer柱状柱状 Spacer ball的分布是用来正确控制Cell间的Gap，需要具备很高的精确度。目前已开始 渐渐采用柱型取代Spacer ball。这个

18、方法可 以消除间隙子产生的光散射，能有效改善对 比度等。现在学习的是第53页，共57页解释：解释：（1）上偏光板【CF side Polarizer】（2）彩色滤光片【Color Filter】（3）配向膜【Alignment layer or PI （Polyamine）】（4）间隙子【Spacer】（5）液晶【LC（Liquid Crystal）】（6）Array 基板【TFT substrate】（7）下偏光板【TFT side Polarizer】（8）银胶 or 银点【Ag Paste】（9）框胶【Sealant】（10）封口胶【End-seal】现在学习的是第54页，共57页材料的

19、功能材料的功能（1）偏光板：最主要作为光栅，仅让单一方向的光可通过。（2）彩色滤光片与Array基板：一上一下以形成电场，让液晶在此电场下排列.（3）配向膜：配向膜具有方向性能让液晶在配向膜上规则排列.（4）框胶：就像房子的墙壁，用来阻绝液晶与外界接触.（5）间隙子：就像房子的柱子，用来支撑上下两片基板，以得到均 匀的Gap.（6）液晶：在不同电场下控制液晶的排列，用以得到不同穿透率的光量，藉此达到显示原理.（7）封口胶：将预留的液晶注入口封止的材料，以达到完全隔绝的效果.（8）银胶 or 银点：将 Array 基板的电荷藉由此导电物质传导到上片的彩色滤光片，以形成上下电场.现在学习的是第55页，共57页彩色液晶屏世代别：彩色液晶屏世代别：单位单位:mml2.5370470l3550650l3.5660720（610720）l3.7650830l4680880（730920）l511001300l615001800(1500 1850)l720002100(1870 2200)l821602400(2200 2400)lSHARP第10代2010投产(6片65英寸,8片57英寸,15片42英寸)现在学习的是第56页，共57页现在学习的是第57页，共57页