材料科学基础选择题精编版(13页).doc
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1、-材料科学基础选择题精编版-第 13 页1、极化会对晶体结构产生显著影响,可使键性由(B)过渡,最终使晶体结构类型发生变化。(A)共价键向离子键(B)离子键向共价键(C)金属键向共价键(D)键金属向离子键2、离子晶体中,由于离子的极化作用,通常使正负离子间的距离(B),离子配位数()。(A)增大,降低(B)减小,降低(C)减小,增大(D)增大,增大3、氯化钠具有面心立方结构,其晶胞分子数是(C)。(A)5(B)6(C)4(D)34、NaCl单位晶胞中的“分子数”为4,Na+填充在Cl-所构成的(B)空隙中。(A)全部四面体(B)全部八面体(C)1/2四面体(D)1/2八面体5、CsCl单位晶胞
2、中的“分子数”为1,Cs+填充在Cl-所构成的(C)空隙中。(A)全部四面体(B)全部八面体(C)全部立方体(D)1/2八面体6、MgO晶体属NaCl型结构,由一套Mg的面心立方格子和一套O的面心立方格子组成,其一个单位晶胞中有(B)个MgO分子。(A)2(B)4(C)6(D)87、萤石晶体可以看作是Ca2+作面心立方堆积,F-填充了(D)。(A)八面体空隙的半数(B)四面体空隙的半数(C)全部八面体空隙(D)全部四面体空隙8、萤石晶体中Ca2+的配位数为8,F-配位数为(B)。(A)2(B)4(C)6(D)89、CsCl晶体中Cs+的配位数为8,Cl-的配位数为(D)。(A)2(B)4(C)
3、6(D)810、硅酸盐晶体的分类原则是(B)。(A)正负离子的个数(B)结构中的硅氧比(C)化学组成(D)离子半径11、锆英石ZrSiO4是(A)。(A)岛状结构(B)层状结构(C)链状结构(D)架状结构12、硅酸盐晶体中常有少量Si4+被Al3+取代,这种现象称为(C)。(A)同质多晶(B)有序无序转变(C)同晶置换(D)马氏体转变13.镁橄榄石Mg2SiO4是(A)。(A)岛状结构(B)层状结构(C)链状结构(D)架状结构14、对沸石、萤石、MgO三类晶体具有的空隙体积相比较,其由大到小的顺序为(A)。(A)沸石萤石MgO(B)沸石MgO萤石(C)萤石沸石MgO(D)萤石MgO沸石15、根
4、据鲍林(Pauling)规则,离子晶体MX2中二价阳离子的配位数为8时,一价阴离子的配位数为(B)。(A)2(B)4(C)6(D)816、构成硅酸盐晶体的基本结构单元SiO4四面体,两个相邻的SiO4四面体之间只能(A)连接。(A)共顶(B)共面(C)共棱(D)A+B+C17、点缺陷与材料的电学性质、光学性质、材料的高温动力学过程等有关,以下点缺陷中属于本征缺陷的是(D)。(A)弗仑克尔缺陷(B)肖特基缺陷(C)杂质缺陷(D)A+B18、位错的(A)是指在热缺陷的作用下,位错在垂直滑移方向的运动,结果导致空位或间隙原子的增值或减少。(A)攀移(B)攀移(C)增值(D)减少19、对于形成杂质缺陷
5、而言,低价正离子占据高价正离子位置时,该位置带有负电荷,为了保持电中性,会产生(D)。(A)负离子空位(B)间隙正离子(C)间隙负离子(D)A或B20、对于形成杂质缺陷而言,高价正离子占据低价正离子位置时,该位置带有正电荷,为了保持电中性,会产生(D)。(A)正离子空位(B)间隙负离子(C)负离子空位(D)A或B21、形成固溶体后对晶体的性质将产生影响,主要表现为(D)。(A)稳定晶格(B)活化晶格(C)固溶强化(D)A+B+C22、固溶体的特点是掺入外来杂质原子后原来的晶体结构不发生转变,但点阵畸变,性能变化。固溶体有有限和无限之分,其中(B)。(A)结构相同是无限固溶的充要条件(B)结构相
6、同是无限固溶的必要条件,不是充分条件(C)结构相同是有限固溶的必要条件(D)结构相同不是形成固溶体的条件23、缺陷对晶体的性能有重要影响,常见的缺陷为(D)。(A)点缺陷(B)线缺陷(C)面缺陷(D)A+B+C24、按照晶体结构缺陷形成的原因,可将晶体结构缺陷的类型分为(D)。(A)热缺陷(B)杂质缺陷(C)非化学计量缺陷(D)A+B+C25、晶体中的热缺陷的浓度随温度的升高而增加,其变化规律是(B)。(A)线性增加(B)呈指数规律增加(C)无规律(D)线性减少26、间隙式固溶体亦称填隙式固溶体,其溶质原子位于点阵的间隙中。讨论形成间隙型固溶体的条件须考虑(D)。(A)杂质质点大小(B)晶体(
7、基质)结构(C)电价因素(D)A+B+C27、位错的滑移是指位错在(A)作用下,在滑移面上的运动,结果导致永久形变。(A)外力(B)热应力(C)化学力(D)结构应力28、柏格斯矢量(BurgersVector)与位错线垂直的位错称为(A),其符号表示为()。(A)刃位错;(B)刃位错;VX(C)螺位错;(D)刃位错;29、热缺陷亦称为本征缺陷,是指由热起伏的原因所产生的空位或间隙质点(原子或离子)。当离子晶体生成肖特基缺陷(Schottkydefect)时,(B)。(A)正离子空位和负离子空位是同时成对产生的,同时伴随晶体体积的缩小(B)正离子空位和负离子空位是同时成对产生的,同时伴随晶体体积
8、的增加(C)正离子空位和负离子间隙是同时成对产生的,同时伴随晶体体积的增加(D)正离子间隙和负离子空位是同时成对产生的,同时伴随晶体体积的增加30、热缺陷亦称为本征缺陷,是指由热起伏的原因所产生的空位或间隙质点(原子或离子)。生成弗仑克尔缺陷(Frenkeldefect)时,(A)。(A)间隙和空位质点同时成对出现(B)正离子空位和负离子空位同时成对出现(C)正离子间隙和负离子间隙同时成对出现(D)正离子间隙和位错同时成对出现31、位错的具有重要的性质,下列说法不正确的是(C)。(A)位错不一定是直线(B)位错是已滑移区和未滑移区的边界(C)位错可以中断于晶体内部(D)位错不能中断于晶体内部3
9、2、位错的运动包括位错的滑移和位错的攀移,其中(A)。(A)螺位错只作滑移,刃位错既可滑移又可攀移(B)刃位错只作滑移,螺位错只作攀移(C)螺位错只作攀移,刃位错既可滑移又可滑移(D)螺位错只作滑移,刃位错只作攀移33、硅酸盐熔体中各种聚合程度的聚合物浓度(数量)受(D)因素的影响。(A)组成(B)温度(C)时间(D)A+B+C34、当熔体组成不变时,随温度升高,低聚物数量(C),粘度()。(A)降低;增加(B)不变;降低(C)增加;降低(D)增加;不变35、当温度不变时,熔体组成的O/Si比高,低聚物(C),粘度()。(A)降低;增加(B)不变;降低(C)增加;降低(D)增加;不变36、硅酸
10、盐熔体的粘度随O/Si升高而(B),随温度下降而()。(A)增大,降低(B)降低,增大(C)增大,增大(D)降低,降低37、由结晶化学观点知,具有(A)的氧化物容易形成玻璃。(A)极性共价键(B)离子键(C)共价键(D)金属键38、Na2OAl2O34SiO2熔体的桥氧数为(D)。(A)1(B)2(C)3(D)439、Na2OCaOAl2O3SiO2玻璃的桥氧数为(B)。(A)2.5(B)3(C)3.5(D)440、如果在熔体中同时引入一种以上的R2O时,粘度比等量的一种R2O高,这种现象为(B)。(A)加和效应(B)混合碱效应(C)中和效应(D)交叉效应41、对普通硅酸盐熔体,随温度升高,表
11、面张力将(A)。(A)降低(B)升高(C)不变(D)A或B42、熔体的组成对熔体的表面张力有很重要的影响,一般情况下,O/Si减小,表面张力将(A)。(A)降低(B)升高(C)不变(D)A或B43、由熔融态向玻璃态转变的过程是(C)的过程。(A)可逆与突变(B)不可逆与渐变(C)可逆与渐变(D)不可逆与突变44、当组成变化时,玻璃的物理、化学性质随成分变化具有(C)。(A)突变性(B)不变性(C)连续性(D)A或B45、熔体组成对熔体的表面张力有重要的影响,一般情况下,O/Si减小,表面张力将(A)。(A)降低(B)升高(C)不变(D)A或B46、不同氧化物的熔点TM和玻璃转变温度Tg的比值(
12、Tg/TM)接近(B)易形成玻璃。(A)二分之一(B)三分之二(C)四分之一(D)五分之一47、可用三T(Time-Temperature-Transformation)曲线来讨论玻璃形成的动力学条件,三T曲线前端即鼻尖对应析出106体积分数的晶体的时间是最少的,由此可得出形成玻璃的临界冷却速率,通常,该临界冷却速率愈大,则系统形成玻璃(A)。(A)愈困难(B)愈容易(C)质量愈好(D)质量愈差48、不同O/Si比对应着一定的聚集负离子团结构,形成玻璃的倾向大小和熔体中负离子团的聚合程度有关。聚合程度越低,形成玻璃(A)。(A)越不容易(B)越容易(C)质量愈好(D)质量愈差49、当熔体中负离
13、子集团以(C)的歪曲链状或环状方式存在时,对形成玻璃有利。(A)低聚合(B)不聚合(C)高聚合(D)A或C25、桥氧离子的平均数Y是玻璃的结构参数,玻璃的很多性质取决于Y值。在形成玻璃范围内,随Y的增大,粘度(D),膨胀系数()。(A)增大;不变(B)降低;增大(C)不变;降低(D)增大;降低50、对于实际晶体和玻璃体,处于物体表面的质点,其境遇和内部是不同的,表面的质点处于(A)的能阶,所以导致材料呈现一系列特殊的性质。(A)较高(B)较低(C)相同(D)A或C51、由于固相的三维周期性在固体表面处突然中断,表面上原子产生的相对于正常位置的上、下位移,称为(B)。(A)表面收缩(B)表面弛豫
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