模拟电子技术基础 1篇 2章1.ppt
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1、第二章,1.2.1 半导体材料与PN结,半导体器件的工作机理,影响半导体的导电性能: 温度、纯度。,导电性能介于导体(如金、银等)与绝缘体(如陶瓷、橡胶)之间的材料; 主要有:Si(硅)Ge(锗)GaAs(砷化镓)Silicom Germanium Gallium arsenide,一、半导体材料及其电特性,以硅(Si)半导体材料为例:,1. 本征半导体,半导体材料高度提纯后的导体称为本征半导体。纯度为99.99999%以上,成为单晶体。,硅原子核外有14个电子,分三层围绕原子核运动,最外层有4个电子,受原子核的束缚力最弱。硅材料高度提纯后,其原子结构排列的十分整齐。,硅原子,简化原子模型,高
2、度提纯后的硅原子结构,本征半导体的电特性, 硅单晶体原子结构排列的非常整齐;, 每个原子外层的四个电子与相邻四周的原子外层电子形成稳定的共价键结构;, 绝对零度时,价电子无法争脱本身原子核束缚,此时本征半导体呈现绝缘体特性;, 在室温下,本征半导体非常容易受热激发产生电子空穴对;这时的载流子浓度称本征浓度,,本征浓度随温度的上升而增大,所以本征载流子浓度是温度的函数。,常温下,本征硅中自由电子的浓度或空穴的浓度为硅原子浓度的3万亿分之一。所以本征硅的导电能力是很弱的。,自由电子和空穴总是成对出现,称为电子空穴对。电子空穴对的产生称为本征激发(热激发)。,在本征硅中,自由电子作为携带负电荷的载流
3、子参加导电。空穴也可以看成是携带正电荷的载流子(当某器件导电由两种载流子形成时,该器件就称双极型器件)。,电子和空穴载流子运动说明,出现空穴后,共价键中的价电子较易填补到这个空位上,过程的持续进行,相当于空穴在晶体中移动。,在本征激发的同时,自由电子受原子核的吸引还可能重新回到共价键中去,这种情况称为复合。,在一定的温度下,热激发产生电子空穴对与它们的复合达到动态平衡,电子空穴对维持一定的浓度。,导体中的导电能力由电子空穴对的浓度决定。,2. 杂质半导体,为了提高半导体的导电能力,在本征半导体中掺入某些微量的有用元素作为杂质,称为杂质半导体。,微量有用杂质,(1) N型半导体, 该原子除外层的
4、四个电子与相邻四个硅原子组成稳定的共价键结构外,仍多出一个电子,所以,掺杂后的电子数已远远超过由热激发而产生的电子数。,因此,掺杂后半导体中电子为多子,空穴为少子。称电子型半导体或N型半导体。,N型半导体中的电子浓度为:,其中: 称施主原子(为掺杂原子数),而, 掺杂后的多出的电子非常容易失去(自由电子),从而使杂质原子变成带正电的正离子。,N型半导体的简化符号表示,施主原子,热激发的电子-空穴对,(2) P型半导体,在本征半导体中掺入微量硼、镓等三价元素。,由于掺入量极微,所以硅的原子结构基本不变,只是某些硅原子被杂质替代了。, 该原子除外层的三个电子与相邻四个硅原子组成共价键结构外,还缺一
5、个电子,留下一个空穴。所以,掺杂后的空穴数已远远超过由热激发而产生的空穴数。,因此,掺入三价元素后半导体中的空穴为多子,电子为少子。称空穴型半导体或P型半导体。,在P型半导体中的空穴浓度为:,其中: 称受主原子(为掺杂原子数),而, 杂质留下的空穴,非常容易从其它地方的电子来补充,从而使杂质原子变成带负电的负离子。,P型半导体的简化符号表示,受主原子,热激发的电子-空穴对,在热平衡的条件下,一种半导体中的两种载流子的乘积是一定的,与所掺杂质无关。,说明在半导体中,掺入杂质越多,少子越少。,N型半导体中的少子浓度:,P型半导体中的少子浓度:,可以证明:,例1 在室温27度,本征半导体中的硅原子浓
6、度为5.11022cm-3,若掺入109分之一的施主杂质。试求此时半导体中的电子和空穴浓度,两种半导体的电阻率?,解:求施主浓度,设室温时的本征电子浓度和本征空穴浓度为,掺杂后的电子浓度,掺杂后的少子(空穴)浓度,本征半导体的电导率,掺杂后电导率,电阻率,本征,掺杂后,在半导体中,载流子有多种运动。但电子载流子与空穴载流子产生的运动形成的电流方向一致。,3.半导体中载流子的运动,扩散电流,载流子的漂移运动电场作用下载流子的定向运动,电子逆电场方向运动,空穴顺电场方向运动。漂移运动引起的电流称漂移电流。,复合运动载流子在运动过程中,电子和空穴相遇而消失。,电压的温度档量,其中:,K波尔兹曼常数(
7、焦尔/K),T绝对温度(K),q电子电荷量(库仑),二、PN结,在N型半导体的基片上,采用平面扩散法等工艺,掺入三价元素,使之形成P型区,则在P区和N区之间的交界面处将形成一个很薄的空间电荷层,称为PN结。PN结的典型厚度为0.5m。,在P区的空穴(多子)向N区扩散,从而在P区一侧留下了不能移动的负离子;,开始时,由于载流子存在浓度差,两边的载流子分别向对方扩散。,而在N区的电子(多子)向P区扩散,结果在N区一侧留下了不能移动的正离子;,最终在交界处的正负离子形成了内建电场E。,内电场是多子的扩散运动引起的,极性由N区指向P区。,有了内电场后,对半导体内载流子的作用为:,阻碍多子的扩散运动,
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