洛阳平板显示靶材项目商业计划书模板.docx
《洛阳平板显示靶材项目商业计划书模板.docx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《洛阳平板显示靶材项目商业计划书模板.docx(143页珍藏版)》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。
1、泓域咨询/洛阳平板显示靶材项目商业计划书洛阳平板显示靶材项目商业计划书xxx有限责任公司目录第一章 项目总论9一、 项目名称及投资人9二、 项目建设背景9三、 结论分析10主要经济指标一览表12第二章 行业发展分析14一、 靶材在平板显示中的应用14二、 应用趋势:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展16第三章 项目建设背景、必要性20一、 供给:日企占据国内市场主导地位,国产替代逐渐提速20二、 打造新发展格局的重要节点和支点、枢纽和平台24三、 建设“一带一路”双向开放新高地26四、 项目实施的必要性28第四章 建设单位基本情况30一、 公司基本信息30二、 公司简介3
2、0三、 公司竞争优势31四、 公司主要财务数据33公司合并资产负债表主要数据33公司合并利润表主要数据33五、 核心人员介绍34六、 经营宗旨35七、 公司发展规划35第五章 法人治理结构42一、 股东权利及义务42二、 董事47三、 高级管理人员52四、 监事55第六章 SWOT分析说明57一、 优势分析(S)57二、 劣势分析(W)59三、 机会分析(O)59四、 威胁分析(T)61第七章 创新驱动69一、 企业技术研发分析69二、 项目技术工艺分析71三、 质量管理73四、 创新发展总结74第八章 运营管理模式75一、 公司经营宗旨75二、 公司的目标、主要职责75三、 各部门职责及权限
3、76四、 财务会计制度79第九章 发展规划分析86一、 公司发展规划86二、 保障措施92第十章 建设方案与产品规划94一、 建设规模及主要建设内容94二、 产品规划方案及生产纲领94产品规划方案一览表94第十一章 风险评估分析96一、 项目风险分析96二、 项目风险对策98第十二章 建筑工程可行性分析101一、 项目工程设计总体要求101二、 建设方案101三、 建筑工程建设指标103建筑工程投资一览表103第十三章 进度计划方案105一、 项目进度安排105项目实施进度计划一览表105二、 项目实施保障措施106第十四章 投资计划方案107一、 编制说明107二、 建设投资107建筑工程投
4、资一览表108主要设备购置一览表109建设投资估算表110三、 建设期利息111建设期利息估算表111固定资产投资估算表112四、 流动资金113流动资金估算表114五、 项目总投资115总投资及构成一览表115六、 资金筹措与投资计划116项目投资计划与资金筹措一览表116第十五章 项目经济效益评价118一、 经济评价财务测算118营业收入、税金及附加和增值税估算表118综合总成本费用估算表119固定资产折旧费估算表120无形资产和其他资产摊销估算表121利润及利润分配表123二、 项目盈利能力分析123项目投资现金流量表125三、 偿债能力分析126借款还本付息计划表127第十六章 项目总
5、结分析129第十七章 附表附录131营业收入、税金及附加和增值税估算表131综合总成本费用估算表131固定资产折旧费估算表132无形资产和其他资产摊销估算表133利润及利润分配表134项目投资现金流量表135借款还本付息计划表136建设投资估算表137建设投资估算表137建设期利息估算表138固定资产投资估算表139流动资金估算表140总投资及构成一览表141项目投资计划与资金筹措一览表142报告说明根据谨慎财务估算,项目总投资20553.51万元,其中:建设投资16466.53万元,占项目总投资的80.12%;建设期利息225.08万元,占项目总投资的1.10%;流动资金3861.90万元,
6、占项目总投资的18.79%。项目正常运营每年营业收入45800.00万元,综合总成本费用35138.66万元,净利润7807.58万元,财务内部收益率30.86%,财务净现值16711.19万元,全部投资回收期4.67年。本期项目具有较强的财务盈利能力,其财务净现值良好,投资回收期合理。趋势难逆,磁记录靶材预计将逐步转向存储芯片靶材。磁记录靶材则多以溅射法制作,常用材料为钴(3N)/镍/铁合金/铬/碲、硒(4N)/稀土-迁移金属(3N)等,主要包括铬靶、镍靶、钴靶。我国磁记录靶材市场以海外供应为主,中国生产磁记录靶材企业数量和产能非常有限。由于我国机械硬盘国产化水平极低,且记录媒体研发重心主要
7、在半导体存储,预计传统机械键盘成长空间有限,磁记录靶材预计将逐步转向存储芯片靶材。3DNAND领域用钨、钛、铜、钽靶材需求增量较大。本报告为模板参考范文,不作为投资建议,仅供参考。报告产业背景、市场分析、技术方案、风险评估等内容基于公开信息;项目建设方案、投资估算、经济效益分析等内容基于行业研究模型。本报告可用于学习交流或模板参考应用。第一章 项目总论一、 项目名称及投资人(一)项目名称洛阳平板显示靶材项目(二)项目投资人xxx有限责任公司(三)建设地点本期项目选址位于xxx(以最终选址方案为准)。二、 项目建设背景平板显示制造中主要使用的靶材为钼铝铜金属靶材和氧化铟锡(ITO)靶材,部分平板
8、显示企业也会用到钛靶、钽靶、铌靶、铬靶以及银靶等。其中钼靶材和ITO靶材合计需求占比在60%70%左右。但由于各家企业所采用的溅射工艺不同,其所选的溅射靶材也有区别。如,京东方用铜靶、铝靶、钼靶和钼铌靶,韩国三星用钽靶、钛靶,但不用钼铌靶,中电熊猫用钛靶,但不用钼靶、钽靶等。以8.5代液晶显示面板生产线为例,一条8.5代线每年靶材的大致消耗120套铝靶、110套铜靶、60套钼靶、5套钼铌10靶。此外据新材料产业新型显示产业的ITO靶材市场探讨,目前国内单条8.5代线ITO靶材年需求量约40吨,6代线ITO靶材年需求量约20吨。三、 结论分析(一)项目选址本期项目选址位于xxx(以最终选址方案为
9、准),占地面积约58.00亩。(二)建设规模与产品方案项目正常运营后,可形成年产xxx吨平板显示靶材的生产能力。(三)项目实施进度本期项目建设期限规划12个月。(四)投资估算本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算,项目总投资20553.51万元,其中:建设投资16466.53万元,占项目总投资的80.12%;建设期利息225.08万元,占项目总投资的1.10%;流动资金3861.90万元,占项目总投资的18.79%。(五)资金筹措项目总投资20553.51万元,根据资金筹措方案,xxx有限责任公司计划自筹资金(资本金)11366.40万元。根据谨慎财务测算,本期工程
10、项目申请银行借款总额9187.11万元。(六)经济评价1、项目达产年预期营业收入(SP):45800.00万元。2、年综合总成本费用(TC):35138.66万元。3、项目达产年净利润(NP):7807.58万元。4、财务内部收益率(FIRR):30.86%。5、全部投资回收期(Pt):4.67年(含建设期12个月)。6、达产年盈亏平衡点(BEP):15677.85万元(产值)。(七)社会效益该项目的建设符合国家产业政策;同时项目的技术含量较高,其建设是必要的;该项目市场前景较好;该项目外部配套条件齐备,可以满足生产要求;财务分析表明,该项目具有一定盈利能力。综上,该项目建设条件具备,经济效益
11、较好,其建设是可行的。本项目实施后,可满足国内市场需求,增加国家及地方财政收入,带动产业升级发展,为社会提供更多的就业机会。另外,由于本项目环保治理手段完善,不会对周边环境产生不利影响。因此,本项目建设具有良好的社会效益。(八)主要经济技术指标主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积38667.00约58.00亩1.1总建筑面积61234.691.2基底面积22813.531.3投资强度万元/亩270.452总投资万元20553.512.1建设投资万元16466.532.1.1工程费用万元14006.712.1.2其他费用万元1941.282.1.3预备费万元518.542.2建设期利
12、息万元225.082.3流动资金万元3861.903资金筹措万元20553.513.1自筹资金万元11366.403.2银行贷款万元9187.114营业收入万元45800.00正常运营年份5总成本费用万元35138.666利润总额万元10410.117净利润万元7807.588所得税万元2602.539增值税万元2093.5710税金及附加万元251.2311纳税总额万元4947.3312工业增加值万元16273.8113盈亏平衡点万元15677.85产值14回收期年4.6715内部收益率30.86%所得税后16财务净现值万元16711.19所得税后第二章 行业发展分析一、 靶材在平板显示中的
13、应用若根据工艺的不同,FPD行业用靶材也可大致分为溅射用靶材和蒸镀用靶材。其中溅射用靶材主要为Cu、Al、Mo和IGZO等材料。IGZO为TFT激活层,一般用于手机LTPOOLED技术和大尺寸OLED技术。IGZO也可以被用于LCD的制造和X-ray探测器的制造。在国内的LCD生产中,BOEB18和B19用IGZO作为TFT激活层。在老旧产线中,京东方也利用IGZO来替代a-Si以生产精度更高的X-ray探测器。ITO和IZO为透明导电电极。其中ITO被广泛的运用于OLED和LCD的制造中,而IZO时而会被用于顶发射OLED的阴极来使用。Cu、Al、Mo和Ti等金属则做为金属走线,被广泛的运用
14、于Array的TFT生产中,其中钼或者合金材料靶材常作为OLED器件的阴极使用,此外铝靶也可作为阴极使用。蒸镀用靶材一般为Ag和Mg两种金属。Ag和Mg合金一般用于小尺寸OLED面板产线中的阴极制作。除此以外,Ag也可以作为顶发射OLED器件中的阳极反射层使用。其中薄膜晶体管液晶显示面板(TFT-LCD)是当前的主流平面显示技术,金属溅射靶材则是制造TFT-LCD过程中最关键的材料之一。薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)具有轻薄、功耗低、成本低等优点,目前TFT-LCD大约占80%以上的显示面板市场份额。这类显示面板是由大量的液晶显示单元阵列组成(如4K分辨率的屏幕含有800多万个显示单元
15、阵列),而每一个液晶显示单元,都由一个单独的薄膜晶体管(TFT)所控制和驱动。薄膜晶体管阵列的制作原理,是在真空条件下,利用离子束流去轰击固体,使固体表面的原子电离后沉积在玻璃基板上,经过反复多次的“沉积+刻蚀”,一层层(一般为712层)地堆积制作出薄膜晶体管阵列。这种被轰击的固体,即用溅射法沉积薄膜的原材料,就被称作溅射靶材。除LCD外,近年来快速发展的OLED面板产业靶材需求增长也十分明显。OLED典型结构是在氧化铟锡(ITO)玻璃上制作一层几十纳米厚的发光材料,ITO透明电极作为器件的阳极,钼或者合金材料作为器件的阴极。从阴阳2极分别注入电子和空穴,在一定电压驱动下,被注入的电子和空穴分
16、别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层并复合,形成激子并使发光分子产生单态激子,单态激子衰减发光。平板显示制造中主要使用的靶材为钼铝铜金属靶材和氧化铟锡(ITO)靶材,部分平板显示企业也会用到钛靶、钽靶、铌靶、铬靶以及银靶等。其中钼靶材和ITO靶材合计需求占比在60%70%左右。但由于各家企业所采用的溅射工艺不同,其所选的溅射靶材也有区别。如,京东方用铜靶、铝靶、钼靶和钼铌靶,韩国三星用钽靶、钛靶,但不用钼铌靶,中电熊猫用钛靶,但不用钼靶、钽靶等。以8.5代液晶显示面板生产线为例,一条8.5代线每年靶材的大致消耗120套铝靶、110套铜靶、60套钼靶、5套钼铌10靶。此外据新材料产业新型显示
17、产业的ITO靶材市场探讨,目前国内单条8.5代线ITO靶材年需求量约40吨,6代线ITO靶材年需求量约20吨。二、 应用趋势:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展芯片制程工艺已经从130nm提升至7nm,晶圆尺寸也已实现了8英寸到12英寸的转变,,对溅射靶材性能要求大幅提升。溅射靶材的技术发展趋势与下游应用领域的技术革新息息相关,随着应用市场在薄膜产品或元件上的技术进步,溅射靶材也需要随之变化,随着半导体技术的不断发展,集成电路中的晶体管和线宽的尺寸越来越小。芯片制程工艺已经从130nm提升至7nm,与之对应的晶圆尺寸也已实现了8英寸到12英寸的转变,此外台积电、三星等企业
18、也正在加速推进更高端的芯片制程工艺研发与生产。为了满足现代芯片高精度、小尺寸的需求,对电极和连接器件的布线金属薄膜的性能要求越来越高,这就对溅射靶材的性能提出了更高的要求。推动溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展。1、趋势1:大尺寸大尺寸是靶材的重要发展方向,但随尺寸增加,靶材在晶粒晶向控制难度呈指数级增加,对技术要求就越高。晶圆尺寸越大,可利用效率越高。.12英寸晶圆拥有较大的晶方使用面积,得以达到效率最佳化,相对于8英寸晶圆而言,12英寸的可使用面积超过两倍。大尺寸晶圆要求靶材也朝着大尺寸方向发展。2、趋势2:多品种半导体芯片行业常用的金属溅射靶材主要种类包括:铜、钽、铝、钛、钴和钨
19、等高纯溅射靶材,以及镍铂、钨钛等合金类的溅射靶材,其中铝与铜为两大主流导线工艺。目前芯片生产所使用的主流工艺中同时存在铝和铜两种导线工艺,一般来说110nm晶圆技术节点以上使用铝导线,110nm晶圆技术节点以下使用铜导线。钛靶和铝靶通常配合起来使用,常作为铝导线的阻挡层的薄膜材料,钽靶则配合铜靶使用,作为铜导线的阻挡层的薄膜材料。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展,铜导线工艺的应用量在逐步增大,因此,铜和钽靶材的需求将有望持续增长。在晶圆制程选择上,从全球晶圆厂产能建设情况来看,12寸晶圆厂是目前主流建设方向。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展,铜导线由于具有更低的电迁移效应,及更低的电阻,有
20、降低功耗、提高运算速度等作用,应用量在逐步增大。据SEMI数据显示,如今12英寸晶圆约占64%,8英寸晶圆占比达26%,其他尺寸晶圆占比10%。12英寸晶圆已经成为市场的主流。但传统的铝靶由于在可靠性和抗干扰性等方面的性能依然较为突出,也仍然具有巨大的市场空间。如汽车电子领域的芯片大量使用铝钛材料的110nm以上工艺以确保可靠性。因此,芯片制程工艺的进步并不意味着原有制程工艺及其材料被淘汰,因可靠性、抗干扰性、低成本等优势,110nm以上技术节点的芯片产品也具有巨大的市场空间。3、趋势3:高纯化高纯度甚至超高纯度靶材是高端集成电路半导体芯片的必备材料,通常半导体靶材纯度要求通常达99.9995
21、%(5N5)甚至99.9999%(6N)以上。在下游应用领域中,半导体产业对溅射靶材和溅射薄膜的品质要求最高,随着更大尺寸的硅晶圆片制造出来,相应地要求溅射靶材也朝着大尺寸方向发展,同时也对溅射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。溅射薄膜的纯度与溅射靶材的纯度密切相关,为了满足半导体更高精度、更细小微米工艺的需求,所需要的溅射靶材纯度不断攀升,通常半导体靶材纯度要求通常达99.9995%(5N5)甚至99.9999%(6N)以上。目前国内溅射靶材的高纯金属原料多数依靠日美进口。但部分企业在部分金属提纯方面已取得了重大突破。全球范围内,美、日等国凭借着先发优势和技术专利壁垒,依托先进的提纯技术在
22、产业链中居于十分有利的地位,议价能力强,国内溅射靶材的高纯金属原料多数也依靠日美进口。但经过多年的靶材技术开发,近年来部分企业已在部分金属提纯方面已取得了重大突破,已开始逐步实现国产替代。第三章 项目建设背景、必要性一、 供给:日企占据国内市场主导地位,国产替代逐渐提速我国显示面板靶材高度依赖进口,日企在国内市场仍然占据主导地位,但国产替代逐渐提速。当前该领域竞争格局以攀时、世泰科、贺利氏、爱发科、住友化学、JX金属等为代表的国外少数几家跨国集团占据主导地位,其中攀时、世泰科等厂商是全球钼靶材的主要供应商,住友化学、爱发科等厂商占据了全球铝靶材的大部分市场,三井矿业、JX金属、优美科等厂商是全
23、球ITO靶材的主要供应商,爱发科、JX金属等厂商是全球铜靶材的主要供应商。国内以隆华科技、江丰电子、阿石创、有研新材、先导稀材为主,国产替代正逐渐加速。铝靶:目前国内液晶显示行业用铝靶材主要被日资企业主导,由于价格较低,是平板显示行业常用的溅射靶材,但近年来正逐步被铜靶所替代。外企方面:爱发科电子材料(苏州)有限公司大约占据国内50%左右的市场份额。其次,住友化学也占有一部分市场份额。国产方面:江丰电子从2013年左右开始介入铝靶材,目前已大批量供货,是国产化铝靶材的龙头企业。另外,南山铝业、新疆众和等企业也具备高纯铝的生产能力铜靶:从溅射工艺的发展趋势上来讲,对铜靶材的需求比例一直在逐步增加
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 洛阳 平板 显示 项目 商业 计划书 模板
限制150内