莆田平板显示靶材项目申请报告.docx
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1、泓域咨询/莆田平板显示靶材项目申请报告目录第一章 总论7一、 项目名称及建设性质7二、 项目承办单位7三、 项目定位及建设理由8四、 报告编制说明9五、 项目建设选址11六、 项目生产规模12七、 建筑物建设规模12八、 环境影响12九、 项目总投资及资金构成12十、 资金筹措方案13十一、 项目预期经济效益规划目标13十二、 项目建设进度规划13主要经济指标一览表14第二章 项目建设背景、必要性16一、 国产替代+技术革新,高端靶材需求强劲16二、 应用趋势:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展18三、 主动融入新发展格局21四、 项目实施的必要性22第三章 市场预测23
2、一、 显示面板靶材市场规模预测23第四章 产品规划与建设内容24一、 建设规模及主要建设内容24二、 产品规划方案及生产纲领24产品规划方案一览表24第五章 项目选址可行性分析26一、 项目选址原则26二、 建设区基本情况26三、 实施创新驱动发展战略27四、 推进区域协调发展和新型城镇化28五、 项目选址综合评价29第六章 发展规划分析30一、 公司发展规划30二、 保障措施34第七章 运营模式分析37一、 公司经营宗旨37二、 公司的目标、主要职责37三、 各部门职责及权限38四、 财务会计制度41第八章 组织机构及人力资源配置48一、 人力资源配置48劳动定员一览表48二、 员工技能培训
3、48第九章 安全生产51一、 编制依据51二、 防范措施52三、 预期效果评价56第十章 工艺技术及设备选型58一、 企业技术研发分析58二、 项目技术工艺分析61三、 质量管理62四、 设备选型方案63主要设备购置一览表64第十一章 项目规划进度65一、 项目进度安排65项目实施进度计划一览表65二、 项目实施保障措施66第十二章 投资估算67一、 投资估算的依据和说明67二、 建设投资估算68建设投资估算表72三、 建设期利息72建设期利息估算表72固定资产投资估算表74四、 流动资金74流动资金估算表75五、 项目总投资76总投资及构成一览表76六、 资金筹措与投资计划77项目投资计划与
4、资金筹措一览表77第十三章 经济效益79一、 基本假设及基础参数选取79二、 经济评价财务测算79营业收入、税金及附加和增值税估算表79综合总成本费用估算表81利润及利润分配表83三、 项目盈利能力分析84项目投资现金流量表85四、 财务生存能力分析87五、 偿债能力分析87借款还本付息计划表88六、 经济评价结论89第十四章 项目风险分析90一、 项目风险分析90二、 项目风险对策92第十五章 项目招标方案95一、 项目招标依据95二、 项目招标范围95三、 招标要求95四、 招标组织方式98五、 招标信息发布101第十六章 总结说明102第十七章 附表104营业收入、税金及附加和增值税估算
5、表104综合总成本费用估算表104固定资产折旧费估算表105无形资产和其他资产摊销估算表106利润及利润分配表107项目投资现金流量表108借款还本付息计划表109建设投资估算表110建设投资估算表110建设期利息估算表111固定资产投资估算表112流动资金估算表113总投资及构成一览表114项目投资计划与资金筹措一览表115第一章 总论一、 项目名称及建设性质(一)项目名称莆田平板显示靶材项目(二)项目建设性质本项目属于扩建项目二、 项目承办单位(一)项目承办单位名称xxx投资管理公司(二)项目联系人潘xx(三)项目建设单位概况公司以负责任的方式为消费者提供符合法律规定与标准要求的产品。在提
6、供产品的过程中,综合考虑其对消费者的影响,确保产品安全。积极与消费者沟通,向消费者公开产品安全风险评估结果,努力维护消费者合法权益。公司加大科技创新力度,持续推进产品升级,为行业提供先进适用的解决方案,为社会提供安全、可靠、优质的产品和服务。公司始终坚持“人本、诚信、创新、共赢”的经营理念,以“市场为导向、顾客为中心”的企业服务宗旨,竭诚为国内外客户提供优质产品和一流服务,欢迎各界人士光临指导和洽谈业务。公司不断建设和完善企业信息化服务平台,实施“互联网+”企业专项行动,推广适合企业需求的信息化产品和服务,促进互联网和信息技术在企业经营管理各个环节中的应用,业通过信息化提高效率和效益。搭建信息
7、化服务平台,培育产业链,打造创新链,提升价值链,促进带动产业链上下游企业协同发展。经过多年的发展,公司拥有雄厚的技术实力,丰富的生产经营管理经验和可靠的产品质量保证体系,综合实力进一步增强。公司将继续提升供应链构建与管理、新技术新工艺新材料应用研发。集团成立至今,始终坚持以人为本、质量第一、自主创新、持续改进,以技术领先求发展的方针。三、 项目定位及建设理由据悉2019年金钼股份钼靶材产品销售同比增长222%,跻身成为三星全球第二大供应商。2020年钼靶材产品销量同比增加47%。预计随着OLED的快速崛起,钼靶未来将保持较高增长。参考DSCC数据,预计2025年,中国大陆的Gen6OLED产线
8、大约需要消耗46Ton的Al和248Ton高纯Mo。其中京东方、深天马和华星大致会消耗总量的37%、20%和17%。此外,得益于优异的电学性能,铜靶将在显示屏生产得到广泛运用,据DSCC测算,中国大陆Gen10.5工厂对高纯Cu的需求会从2021年599吨,逐步增加到2025年的976吨。G8.5+产线对高纯Cu的需求将会超过8000吨。据悉,为满足超高清电视性能需要和未来4K、8K产业规划,现在国内所有的Gen10.5代产线均已采取铜制程。同时,也为了进一步增加高端IT产品的刷新率和分辨率,一些较小的产线也逐步开始进行Cu制程的改建,不少Gen8.5和Gen8.5代线也在逐渐的全部或者部分转
9、向Cu制程。预计到2025年,所有G8.5+的产线均会采用Cu制程。经济实力持续增强,主要经济指标平衡协调,发展质量和效益跻身全省前列。产业基础高级化、产业链现代化水平明显提高,数字经济、平台经济等新业态不断成长,开发区承载能力进一步加强,创新型城市格局初步形成,产业总体竞争力进入全省前列。四、 报告编制说明(一)报告编制依据1、国民经济和社会发展第十三个五年计划纲要;2、投资项目可行性研究指南;3、相关财务制度、会计制度;4、投资项目可行性研究指南;5、可行性研究开始前已经形成的工作成果及文件;6、根据项目需要进行调查和收集的设计基础资料;7、可行性研究与项目评价;8、建设项目经济评价方法与
10、参数;9、项目建设单位提供的有关本项目的各种技术资料、项目方案及基础材料。(二)报告编制原则为实现产业高质量发展的目标,报告确定按如下原则编制:1、认真贯彻国家和地方产业发展的总体思路:资源综合利用、节约能源、提高社会效益和经济效益。2、严格执行国家、地方及主管部门制定的环保、职业安全卫生、消防和节能设计规定、规范及标准。3、积极采用新工艺、新技术,在保证产品质量的同时,力求节能降耗。4、坚持可持续发展原则。(二) 报告主要内容投资必要性:主要根据市场调查及分析预测的结果,以及有关的产业政策等因素,论证项目投资建设的必要性;技术的可行性:主要从事项目实施的技术角度,合理设计技术方案,并进行比选
11、和评价;财务可行性:主要从项目及投资者的角度,设计合理财务方案,从企业理财的角度进行资本预算,评价项目的财务盈利能力,进行投资决策,并从融资主体的角度评价股东投资收益、现金流量计划及债务清偿能力;组织可行性:制定合理的项目实施进度计划、设计合理组织机构、选择经验丰富的管理人员、建立良好的协作关系、制定合适的培训计划等,保证项目顺利执行;经济可行性:主要是从资源配置的角度衡量项目的价值,评价项目在实现区域经济发展目标、有效配置经济资源、增加供应、创造就业、改善环境、提高人民生活等方面的效益;风险因素及对策:主要是对项目的市场风险、技术风险、财务风险、组织风险、法律风险、经济及社会风险等因素进行评
12、价,制定规避风险的对策,为项目全过程的风险管理提供依据。五、 项目建设选址本期项目选址位于xxx(以选址意见书为准),占地面积约52.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越,交通便利,规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备,非常适宜本期项目建设。六、 项目生产规模项目建成后,形成年产xx吨平板显示靶材的生产能力。七、 建筑物建设规模本期项目建筑面积58547.64,其中:生产工程33839.85,仓储工程11283.98,行政办公及生活服务设施6432.66,公共工程6991.15。八、 环境影响建设项目的建设和投入使用后,其产生的污染源经有效处理后,将不致对周围环境产生明显影响。建设项目的建
13、设从环境保护角度考虑是可行的。项目建设单位在执行“三同时”的管理规定的同时,切实落实本环境影响报告中的环保措施,并要经环境保护管理部门验收合格后,项目方可投入使用。九、 项目总投资及资金构成(一)项目总投资构成分析本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算,项目总投资21295.13万元,其中:建设投资17063.20万元,占项目总投资的80.13%;建设期利息170.65万元,占项目总投资的0.80%;流动资金4061.28万元,占项目总投资的19.07%。(二)建设投资构成本期项目建设投资17063.20万元,包括工程费用、工程建设其他费用和预备费,其中:工程费用1
14、4780.51万元,工程建设其他费用1858.43万元,预备费424.26万元。十、 资金筹措方案本期项目总投资21295.13万元,其中申请银行长期贷款6965.34万元,其余部分由企业自筹。十一、 项目预期经济效益规划目标(一)经济效益目标值(正常经营年份)1、营业收入(SP):42000.00万元。2、综合总成本费用(TC):34914.30万元。3、净利润(NP):5167.25万元。(二)经济效益评价目标1、全部投资回收期(Pt):6.16年。2、财务内部收益率:16.51%。3、财务净现值:4225.89万元。十二、 项目建设进度规划本期项目按照国家基本建设程序的有关法规和实施指南
15、要求进行建设,本期项目建设期限规划12个月。十四、项目综合评价经初步分析评价,项目不仅有显著的经济效益,而且其社会救益、生态效益非常显著,项目的建设对提高农民收入、维护社会稳定,构建和谐社会、促进区域经济快速发展具有十分重要的作用。项目在社会经济、自然条件及投资等方面建设条件较好,项目的实施不但是可行而且是十分必要的。主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积34667.00约52.00亩1.1总建筑面积58547.641.2基底面积20106.861.3投资强度万元/亩310.272总投资万元21295.132.1建设投资万元17063.202.1.1工程费用万元14780.512.1
16、.2其他费用万元1858.432.1.3预备费万元424.262.2建设期利息万元170.652.3流动资金万元4061.283资金筹措万元21295.133.1自筹资金万元14329.793.2银行贷款万元6965.344营业收入万元42000.00正常运营年份5总成本费用万元34914.306利润总额万元6889.677净利润万元5167.258所得税万元1722.429增值税万元1633.5110税金及附加万元196.0311纳税总额万元3551.9612工业增加值万元12199.6413盈亏平衡点万元18743.05产值14回收期年6.1615内部收益率16.51%所得税后16财务净现
17、值万元4225.89所得税后第二章 项目建设背景、必要性一、 国产替代+技术革新,高端靶材需求强劲靶材主要用于平板显示器、半导体、光伏电池、记录媒体等领域。从需求来,靶材是制备功能薄膜的核心原材料,主要用于面板、半导体、光伏和磁记录媒体等领域,实现导电或阻挡等功能。2020年全球靶材市场规模约188亿美元,我国靶材市场规模为46亿美元。从供给来看,四家日美巨头占据80%靶材市场,国内溅射靶材主要应用于中低端产品,国产替代需求强烈。产业转移加速靶材国产替代,技术革新推动铜钽需求提升。半导体芯片行业是对靶材的成分、组织和性能要求最高的领域,纯度要求通常达5N5甚至6N以上。随着半导体产业加速向国内
18、转移,预计25年我国半导体靶材市场规模将达到约6.7亿美元,21-25年我国靶材需求增速或达9.2%。同时随着下游芯片技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展,其中铜、钽靶材需求增长前景较好。供给方面,日美厂商约占90%份额,但有研等企业已在国产铜、铝等靶材取得突破,同时产能也在不断扩张,预计未来2-3年我国半导体靶材将新增10万块以上产能。国产替代+产品迭代,我国显示面板靶材需求有望持续高速。FDP靶材根据工艺,可分为溅射用靶材和蒸镀用靶材。其中溅射靶材主要为Cu、Al、Mo和IGZO等,纯度和技术要求仅次于半导体,一般在4N甚至5N以上,但对靶材的焊接结合率、平整度等提出了更高
19、要求。受益显示面板需求上涨和我国显示面板国产替代提升,预计25年我国FDP靶材市场规模将达50亿美元,21-25年CAGR为18.9%。此外预计OLED用钼靶与低电阻铜靶成长空间广阔。供给来看,我国显示面板靶材高度依赖进口,日企在国内市场仍然占据主导地位,国内以隆华科技、江丰电子、阿石创、先导稀材、有研新材为主,国产替代正逐渐加速。Hit量产元年开启,靶材或迎成长机遇期。光伏靶材的使用主要是薄膜电池和HIT光伏电池,纯度一般在4N以上。随着HIT电池和薄膜电池的发展,预计25年我国市场规模将接近38亿美元,21-25年CAGR为56.1%。供给方面,由于国内薄膜电池及HIT电池市场规模尚小,相
20、关靶材企业也较少,多处起步阶段,其中先导稀材、江丰电子等产能相对较大,此外隆华科技也已开始布局相关产业龙头。趋势难逆,磁记录靶材预计将逐步转向存储芯片靶材。磁记录靶材则多以溅射法制作,常用材料为钴(3N)/镍/铁合金/铬/碲、硒(4N)/稀土-迁移金属(3N)等,主要包括铬靶、镍靶、钴靶。我国磁记录靶材市场以海外供应为主,中国生产磁记录靶材企业数量和产能非常有限。由于我国机械硬盘国产化水平极低,且记录媒体研发重心主要在半导体存储,预计传统机械键盘成长空间有限,磁记录靶材预计将逐步转向存储芯片靶材。3DNAND领域用钨、钛、铜、钽靶材需求增量较大。二、 应用趋势:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺
21、寸、多品种、高纯度化发展芯片制程工艺已经从130nm提升至7nm,晶圆尺寸也已实现了8英寸到12英寸的转变,,对溅射靶材性能要求大幅提升。溅射靶材的技术发展趋势与下游应用领域的技术革新息息相关,随着应用市场在薄膜产品或元件上的技术进步,溅射靶材也需要随之变化,随着半导体技术的不断发展,集成电路中的晶体管和线宽的尺寸越来越小。芯片制程工艺已经从130nm提升至7nm,与之对应的晶圆尺寸也已实现了8英寸到12英寸的转变,此外台积电、三星等企业也正在加速推进更高端的芯片制程工艺研发与生产。为了满足现代芯片高精度、小尺寸的需求,对电极和连接器件的布线金属薄膜的性能要求越来越高,这就对溅射靶材的性能提出
22、了更高的要求。推动溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展。1、趋势1:大尺寸大尺寸是靶材的重要发展方向,但随尺寸增加,靶材在晶粒晶向控制难度呈指数级增加,对技术要求就越高。晶圆尺寸越大,可利用效率越高。.12英寸晶圆拥有较大的晶方使用面积,得以达到效率最佳化,相对于8英寸晶圆而言,12英寸的可使用面积超过两倍。大尺寸晶圆要求靶材也朝着大尺寸方向发展。2、趋势2:多品种半导体芯片行业常用的金属溅射靶材主要种类包括:铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯溅射靶材,以及镍铂、钨钛等合金类的溅射靶材,其中铝与铜为两大主流导线工艺。目前芯片生产所使用的主流工艺中同时存在铝和铜两种导线工艺,一般来说110nm晶
23、圆技术节点以上使用铝导线,110nm晶圆技术节点以下使用铜导线。钛靶和铝靶通常配合起来使用,常作为铝导线的阻挡层的薄膜材料,钽靶则配合铜靶使用,作为铜导线的阻挡层的薄膜材料。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展,铜导线工艺的应用量在逐步增大,因此,铜和钽靶材的需求将有望持续增长。在晶圆制程选择上,从全球晶圆厂产能建设情况来看,12寸晶圆厂是目前主流建设方向。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展,铜导线由于具有更低的电迁移效应,及更低的电阻,有降低功耗、提高运算速度等作用,应用量在逐步增大。据SEMI数据显示,如今12英寸晶圆约占64%,8英寸晶圆占比达26%,其他尺寸晶圆占比10%。12英寸晶圆已
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