辽源光刻胶项目商业计划书【范文参考】.docx
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1、泓域咨询/辽源光刻胶项目商业计划书辽源光刻胶项目商业计划书xx(集团)有限公司目录第一章 项目概述9一、 项目定位及建设理由9二、 项目名称及建设性质10三、 项目承办单位10四、 项目建设选址12五、 项目生产规模12六、 建筑物建设规模12七、 项目总投资及资金构成12八、 资金筹措方案13九、 项目预期经济效益规划目标13十、 项目建设进度规划13十一、 项目综合评价14主要经济指标一览表14第二章 背景及必要性16一、 上游原材料树脂、单体难度较高,大陆产业化等待突围16二、 树脂:海外垄断市场,大陆企业取得技术突破17三、 存储:容量提升+扩产是两大推动力19四、 聚焦经济增长,在扩
2、大内需上集中发力20第三章 项目建设单位说明22一、 公司基本信息22二、 公司简介22三、 公司竞争优势23四、 公司主要财务数据25公司合并资产负债表主要数据25公司合并利润表主要数据25五、 核心人员介绍26六、 经营宗旨27七、 公司发展规划28第四章 市场分析34一、 全球百亿美金市场,显示+PCB+IC三大应用推动发展34二、 全球百亿美金市场,大陆增速远高于全球36第五章 创新发展38一、 企业技术研发分析38二、 项目技术工艺分析40三、 质量管理42四、 创新发展总结43第六章 运营管理模式44一、 公司经营宗旨44二、 公司的目标、主要职责44三、 各部门职责及权限45四、
3、 财务会计制度48第七章 SWOT分析说明52一、 优势分析(S)52二、 劣势分析(W)54三、 机会分析(O)54四、 威胁分析(T)55第八章 法人治理59一、 股东权利及义务59二、 董事64三、 高级管理人员68四、 监事70第九章 发展规划73一、 公司发展规划73二、 保障措施79第十章 建设规模与产品方案82一、 建设规模及主要建设内容82二、 产品规划方案及生产纲领82产品规划方案一览表82第十一章 进度规划方案84一、 项目进度安排84项目实施进度计划一览表84二、 项目实施保障措施85第十二章 项目风险分析86一、 项目风险分析86二、 项目风险对策88第十三章 建筑物技
4、术方案91一、 项目工程设计总体要求91二、 建设方案92三、 建筑工程建设指标93建筑工程投资一览表93第十四章 投资估算95一、 编制说明95二、 建设投资95建筑工程投资一览表96主要设备购置一览表97建设投资估算表98三、 建设期利息99建设期利息估算表99固定资产投资估算表100四、 流动资金101流动资金估算表102五、 项目总投资103总投资及构成一览表103六、 资金筹措与投资计划104项目投资计划与资金筹措一览表104第十五章 经济效益分析106一、 基本假设及基础参数选取106二、 经济评价财务测算106营业收入、税金及附加和增值税估算表106综合总成本费用估算表108利润
5、及利润分配表110三、 项目盈利能力分析110项目投资现金流量表112四、 财务生存能力分析113五、 偿债能力分析114借款还本付息计划表115六、 经济评价结论115第十六章 项目总结分析117第十七章 补充表格119主要经济指标一览表119建设投资估算表120建设期利息估算表121固定资产投资估算表122流动资金估算表123总投资及构成一览表124项目投资计划与资金筹措一览表125营业收入、税金及附加和增值税估算表126综合总成本费用估算表126利润及利润分配表127项目投资现金流量表128借款还本付息计划表130报告说明全球普遍扩产,产能增加带来光刻胶需求增加。在经历2019年半导体周
6、期低谷后,得益于下游需求旺盛,全球主要晶圆厂均加大了扩产力度,从资本开支的数据来看,各大晶圆厂于2020年、2021年开始加大资本开支投入,22年资本开支指引的强度均强于2021年,2018-2022年合计的资本开支YoY分别为-23%/8%/21%/25%/30%,开支强度逐年递增,标志了扩产力度的加强,随着晶圆厂产能的提高,光刻胶的用量也将随之大幅提升。容量要求提升,光刻次数增加,相应光刻胶的用量随着光刻次数的增加大幅增长。DRAM:DRAM的技术发展路径是以微缩制程来提高存储密度。制程工艺进入20nm之后,制造难度大幅提升,DRAM芯片厂商对工艺的定义从具体的线宽转变为在具体制程范围内提
7、升二或三代技术来提高存储密度。目前市场上DRAM的应用较为广泛的是2xnm和1xnm,三星、美光、海力士等龙头厂商均已开发出1znm制程的DRAM。NAND:NAND芯片制程已经达到极限,2DNAND的存储容量难以继续突破,NAND工艺逐渐转向3D堆叠架构,以更多的堆叠层数来得到更大的存储容量,光刻次数随着层数增加而增加,KrF光刻胶的使用量将显著提升。根据谨慎财务估算,项目总投资23851.89万元,其中:建设投资18066.51万元,占项目总投资的75.74%;建设期利息513.28万元,占项目总投资的2.15%;流动资金5272.10万元,占项目总投资的22.10%。项目正常运营每年营业
8、收入50400.00万元,综合总成本费用40958.87万元,净利润6902.47万元,财务内部收益率21.41%,财务净现值8970.09万元,全部投资回收期5.98年。本期项目具有较强的财务盈利能力,其财务净现值良好,投资回收期合理。该项目符合国家有关政策,建设有着较好的社会效益,建设单位为此做了大量工作,建议各有关部门给予大力支持,使其早日建成发挥效益。本报告基于可信的公开资料,参考行业研究模型,旨在对项目进行合理的逻辑分析研究。本报告仅作为投资参考或作为参考范文模板用途。第一章 项目概述一、 项目定位及建设理由显示、PCB、IC是三大应用领域,合计占比超70%。根据应用领域的不同,光刻
9、胶可分为印刷电路板(PCB)用光刻胶、液晶显示(LCD)用光刻胶、半导体用光刻胶和其他用途光刻胶。根据Reportlinker数据,2019年PCB、半导体和平板显示光刻胶占比分别为27.8%、21.9%、23.0%,为前三大应用领域。按显影过程中曝光区域的去除或保留分,分成正性光刻胶(正胶)和负性光刻胶(负胶),正负胶各有优势,但正胶分辨率更高,是主流光刻胶。1)正性光刻胶:正性光刻胶在紫外线等曝光源的照射下,将图形转移至光胶涂层上,受光照射后感光部分将发生分解反应,可溶于显影液,未感光部分不溶于显影液,仍然保留在衬底上,将与掩膜上相同的图形复制到衬底上。正性光刻胶响应波长为330430纳米
10、,胶膜厚为13微米,正性光刻胶的分辨率更高,无溶胀现象。因此,正性光刻胶的应用比负性光刻胶更为普及。2)负性光刻胶:负性光刻胶在紫外线等曝光源的照射下,将图形转移至光胶涂层上,在显影溶液的作用下,负性光刻胶曝光部分产生交联反应而不溶于显影液;未曝光部分溶于显影液,将与掩膜上相反的图形复制到衬底上。负性光刻胶响应波长为330430纳米,胶膜厚0.31微米,负性光刻胶的分辨率比正性光刻胶低。负胶占总体光刻胶比重较小,多用于特殊工艺。由于负胶耐热性强,多应用于高压功率器件、高耗能器件等,此外也常用于一些特殊工艺,因为负胶难以去除的特性,在芯片最后的封装阶段可以使用负胶,能起到绝缘、保护芯片的作用。总
11、的来说,正胶有以下主要优点:高分辨率,高对比度;使用暗场掩模减少了曝光图形的缺陷率,因为掩模大部分区域都是不透光的。使用水溶性显影液;去胶容易。因此,正胶普及率大于负胶。二、 项目名称及建设性质(一)项目名称辽源光刻胶项目(二)项目建设性质本项目属于扩建项目三、 项目承办单位(一)项目承办单位名称xx(集团)有限公司(二)项目联系人许xx(三)项目建设单位概况公司以负责任的方式为消费者提供符合法律规定与标准要求的产品。在提供产品的过程中,综合考虑其对消费者的影响,确保产品安全。积极与消费者沟通,向消费者公开产品安全风险评估结果,努力维护消费者合法权益。公司加大科技创新力度,持续推进产品升级,为
12、行业提供先进适用的解决方案,为社会提供安全、可靠、优质的产品和服务。公司自成立以来,坚持“品牌化、规模化、专业化”的发展道路。以人为本,强调服务,一直秉承“追求客户最大满意度”的原则。多年来公司坚持不懈推进战略转型和管理变革,实现了企业持续、健康、快速发展。未来我司将继续以“客户第一,质量第一,信誉第一”为原则,在产品质量上精益求精,追求完美,对客户以诚相待,互动双赢。公司秉承“以人为本、品质为本”的发展理念,倡导“诚信尊重”的企业情怀;坚持“品质营造未来,细节决定成败”为质量方针;以“真诚服务赢得市场,以优质品质谋求发展”的营销思路;以科学发展观纵观全局,争取实现行业领军、技术领先、产品领跑
13、的发展目标。 公司不断建设和完善企业信息化服务平台,实施“互联网+”企业专项行动,推广适合企业需求的信息化产品和服务,促进互联网和信息技术在企业经营管理各个环节中的应用,业通过信息化提高效率和效益。搭建信息化服务平台,培育产业链,打造创新链,提升价值链,促进带动产业链上下游企业协同发展。四、 项目建设选址本期项目选址位于xx(以最终选址方案为准),占地面积约43.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越,交通便利,规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备,非常适宜本期项目建设。五、 项目生产规模项目建成后,形成年产xxx吨光刻胶的生产能力。六、 建筑物建设规模本期项目建筑面积50775.48,其中
14、:生产工程35005.86,仓储工程5894.86,行政办公及生活服务设施4425.74,公共工程5449.02。七、 项目总投资及资金构成(一)项目总投资构成分析本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算,项目总投资23851.89万元,其中:建设投资18066.51万元,占项目总投资的75.74%;建设期利息513.28万元,占项目总投资的2.15%;流动资金5272.10万元,占项目总投资的22.10%。(二)建设投资构成本期项目建设投资18066.51万元,包括工程费用、工程建设其他费用和预备费,其中:工程费用15407.78万元,工程建设其他费用2256.27
15、万元,预备费402.46万元。八、 资金筹措方案本期项目总投资23851.89万元,其中申请银行长期贷款10475.19万元,其余部分由企业自筹。九、 项目预期经济效益规划目标(一)经济效益目标值(正常经营年份)1、营业收入(SP):50400.00万元。2、综合总成本费用(TC):40958.87万元。3、净利润(NP):6902.47万元。(二)经济效益评价目标1、全部投资回收期(Pt):5.98年。2、财务内部收益率:21.41%。3、财务净现值:8970.09万元。十、 项目建设进度规划本期项目按照国家基本建设程序的有关法规和实施指南要求进行建设,本期项目建设期限规划24个月。十一、
16、项目综合评价本项目生产线设备技术先进,即提高了产品质量,又增加了产品附加值,具有良好的社会效益和经济效益。本项目生产所需原料立足于本地资源优势,主要原材料从本地市场采购,保证了项目实施后的正常生产经营。综上所述,项目的实施将对实现节能降耗、环境保护具有重要意义,本期项目的建设,是十分必要和可行的。主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积28667.00约43.00亩1.1总建筑面积50775.481.2基底面积18346.881.3投资强度万元/亩403.622总投资万元23851.892.1建设投资万元18066.512.1.1工程费用万元15407.782.1.2其他费用万元225
17、6.272.1.3预备费万元402.462.2建设期利息万元513.282.3流动资金万元5272.103资金筹措万元23851.893.1自筹资金万元13376.703.2银行贷款万元10475.194营业收入万元50400.00正常运营年份5总成本费用万元40958.876利润总额万元9203.297净利润万元6902.478所得税万元2300.829增值税万元1982.0610税金及附加万元237.8411纳税总额万元4520.7212工业增加值万元15379.9813盈亏平衡点万元19079.93产值14回收期年5.9815内部收益率21.41%所得税后16财务净现值万元8970.09
18、所得税后第二章 背景及必要性一、 上游原材料树脂、单体难度较高,大陆产业化等待突围溶剂、感光剂、树脂是光刻胶的三大原材料。光刻胶会根据不同光的波长和不同的曝光源而进行微调。光刻胶具有特定热流程特点,用特定的方法配臵而成,与特定的表面结合。这些属性由光刻胶里不同化学成分的类型、数量、混合过程决定,溶剂、感光剂和树脂是光刻胶三大原材料。从含量来看,根据Trendbank数据,光刻胶主要原材料占比从大到小分别是溶剂(50%-90%)、树脂(10%-40%)、光引发剂(1%-6%)以及添加剂(1%)。溶剂是光刻胶中容量最大的成分,使光刻胶处于液态,并使光刻胶能通过旋转涂在晶圆表面形成薄层。感光剂在曝光
19、过程中控制或调节光刻胶的化学反应,用于产生或控制聚合物特定反应。感光剂添加到光刻胶中用来限制反应光的波谱范围或把反应光限制到某一特定波长的光。聚合物用于当光刻机曝光时,聚合物结构由可溶变成聚会(或反之),是由一组大且重的分子组成,分子里包括碳、氢、氧,典型聚合物如塑料。此外,光刻胶中还含有添加剂。不同类型的添加剂和光刻胶混合在一起来达到某种特定的结果。部分负胶包含染色剂,功能是在光刻胶薄膜中用来吸收和控制光线。正胶可能含有化学的抗溶解系统,这样的添加剂可以阻止光刻胶没有被曝光的部分在显影过程中被溶解。从成本来看,高端光刻胶中树脂占成本比重较大。根据南大光电公告,ArF光刻胶树脂以丙二醇甲醚醋酸
20、酯为主,质量占比仅5%-10%,但成本占光刻胶原材料总成本的97%以上。二、 树脂:海外垄断市场,大陆企业取得技术突破各类光刻胶所需树脂几乎全部由海外垄断。G线光刻胶用环化橡胶树脂;I线光刻胶使用线性酚醛树脂,主要是依赖进口,国产化水平很低。针对国内光刻胶“卡脖子”的KrF和ArF光刻胶,KrF用聚对羟基苯乙烯类树脂,基本依赖进口,一是因为生产树脂需要的单体国内很少厂家供应,二是因为树脂的生产工艺也有一定的难度,特别是后处理的工艺。ArF用聚甲基丙烯酸酯类树脂,单体为甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯的衍生物单体,ArF的树脂由几种单体共聚而成,定制化程度比较高,高端的Arf树脂几乎无法买到。EUV用聚对
21、羟基苯乙烯类树脂,或分子玻璃、金属氧化物,国内几乎空白。全球两大类光刻胶树脂大厂。目前,全球范围内光刻胶树脂大厂分为两类:一类是自产树脂的光刻胶厂商,如信越化学、杜邦,它们通常掌握着树脂合成、光刻胶配方的技术专利。另一类是专门生产树脂的生产商,如东洋合成、住友电木、三菱化学等,为光刻胶厂商提供定制化的树脂。技术壁垒高依然是海外垄断的根本原因。树脂的结构设计涉及单体的种类和比例,会决定光刻胶在特定波长下可以达到的线宽(CD)、曝光能量(EOP)、EL(能量窗口),LWR(线宽边缘粗糙度)等参数。此外,树脂的分子量、PDI(分散度)等也会影响光刻胶的胶膜厚度、耐刻蚀性、附着力等。树脂可以通过多种方
22、式合成:光刻胶树脂可以通过酚醛缩合反应,阳离子聚合,阴离子聚合,活性自由基聚合等高分子合成方法进行合成。其上游的原材料主要是单体,单体在高分子合成的过程中聚合成树脂。光刻胶树脂的主要难点:1)要做到质量一致,即分子量和分子量分布每批都要很接近;2)越高级树脂的分子量分布越小越好;3)金属离子要求,大部分要求小于1ppb,甚至要到ppt级。产业化五大难点:1)合成技术:树脂的合成技术可分为自由基聚合,阴离子聚合和活性自由基聚合等,目前最常用的是自由基聚合,活性自由基聚合还未实现工业化。2)放大的稳定性和金属离子的去除:放大是指树脂从实验室研发进化到工业化的批量生产,放大的稳定性主要是指每次生产的
23、分子量和PDI要保持一致,在生产管理控制上和质量控制上需要严格把关。3)供应稳定:单体的供应要稳定,单体的质量也要稳定。对下游客户来说,树脂也必须要做到稳定供应,包括质量稳定和交货周期的稳定性。4)客户的认证和采购:客户的认证和采购是一个长期的过程,光刻胶厂商将某个供应商的树脂配成光刻胶以后,要送样到下游的晶圆厂去试验,才能测试出树脂的光刻性能是否良好,并决定是否可以采用这个供应商的树脂。此外,光刻胶厂商的更换树脂供应商时也要通知下游晶圆厂。5)规模效应:光刻胶树脂一般是定制化产品,如果没有商业化的树脂或其他产品做支撑,单纯做某一种或某一类光刻胶树脂,将会使公司丧失研发或生产光刻胶树脂的动力,
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