材料的边界结构与磁性展望精选文档.ppt
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1、材料的边界结构与磁性展望本讲稿第一页,共二十一页多层膜具有的超晶格结构多层膜具有的超晶格结构什么是超晶格结构?什么是超晶格结构?1970 1970年,美国年,美国IBMIBM实验实验室的江崎和朱兆祥提出了超室的江崎和朱兆祥提出了超晶格的概念。晶格的概念。所谓的超晶格就是指所谓的超晶格就是指由两种或两种以上组分或由两种或两种以上组分或类型不同,厚度类型不同,厚度d d极小的薄极小的薄层材料交替生长在一起而层材料交替生长在一起而得到的一种结构材料。得到的一种结构材料。本讲稿第二页,共二十一页半导体超晶格的层状结构半导体超晶格的层状结构 由于人们可以任意改变由于人们可以任意改变超晶格材料中不同薄膜层
2、的超晶格材料中不同薄膜层的厚度,因此,人们可以控制厚度,因此,人们可以控制它的周期长度。它的周期长度。薄层厚度薄层厚度d d远大于材料远大于材料的晶格常数的晶格常数a a,但接近于或,但接近于或小于电子的平均自由程(或小于电子的平均自由程(或者其德布罗意波长)。者其德布罗意波长)。由于这种复合材料的周由于这种复合材料的周期长度比各薄膜单晶的晶格期长度比各薄膜单晶的晶格常数大几倍或者更长,因此常数大几倍或者更长,因此取名为超晶格。取名为超晶格。本讲稿第三页,共二十一页半导体超晶格的层状结构半导体超晶格的层状结构 多层膜的超晶格结构一多层膜的超晶格结构一直是材料研究领域的重点,直是材料研究领域的重
3、点,尤其是其界面结构以及界面尤其是其界面结构以及界面对材料性能的影响得到较多对材料性能的影响得到较多关注。关注。和体材料相比,多层膜由和体材料相比,多层膜由于界面和表面面积大大增加,于界面和表面面积大大增加,界面和表面的影响十分显著,界面和表面的影响十分显著,如原子的配位数减少,对称性如原子的配位数减少,对称性降低,出现过度结构层以及局降低,出现过度结构层以及局域化表面现象。域化表面现象。本讲稿第四页,共二十一页半导体超晶格的层状结构半导体超晶格的层状结构 界面的合金化、超点阵或界面的合金化、超点阵或者亚稳相的生成,这些都将对者亚稳相的生成,这些都将对薄膜的磁性产生较大影响。薄膜的磁性产生较大
4、影响。本讲稿第五页,共二十一页多层膜的制备多层膜的制备 磁控溅射法磁控溅射法是制备纳米多层膜中最为是制备纳米多层膜中最为常见的制备方法。在稀有气体如氩气的保常见的制备方法。在稀有气体如氩气的保护氛围下,阴极阳极之间施加几百伏特的护氛围下,阴极阳极之间施加几百伏特的直流电压,接着产生了辉光放电,氩气被直流电压,接着产生了辉光放电,氩气被电离,氩气被阴极加速并轰击阴极靶的表电离,氩气被阴极加速并轰击阴极靶的表面,使得靶材表面原子溅射出来沉积在工面,使得靶材表面原子溅射出来沉积在工件表面形成了薄膜。更换不同材质的靶和件表面形成了薄膜。更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间,便可以获得不同材控制不同的溅
5、射时间,便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。如果在真空室内通质和不同厚度的薄膜。如果在真空室内通入一定压力的气体,可以和溅射金属原子入一定压力的气体,可以和溅射金属原子反应生成新的化合物,沉积到基片上。反应生成新的化合物,沉积到基片上。本讲稿第六页,共二十一页多层膜的制备多层膜的制备 物理蒸镀法物理蒸镀法即真空蒸发即真空蒸发镀膜法就是在真空中加热镀镀膜法就是在真空中加热镀膜材料,使得其原子或分子膜材料,使得其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸汽从表面气化逸出,形成蒸汽流,入射到固体衬底或基片流,入射到固体衬底或基片表面,凝结形成固态薄膜。表面,凝结形成固态薄膜。根据不同的金属材料蒸发所根据不同的
6、金属材料蒸发所需要的温度不同,采用不同需要的温度不同,采用不同的加热方式,使得不同的金的加热方式,使得不同的金属蒸发,沉积到基体上形成属蒸发,沉积到基体上形成不同成分的薄膜层。不同成分的薄膜层。本讲稿第七页,共二十一页多层膜的制备多层膜的制备 分子束外延成形法分子束外延成形法是指在超真空条件下,由装有各种所需组是指在超真空条件下,由装有各种所需组分的炉子加热产生蒸汽,经由小孔准直之后形成分子束或原子分的炉子加热产生蒸汽,经由小孔准直之后形成分子束或原子束,直接喷射到适当温度的单晶基片上,同时控制分子束对衬束,直接喷射到适当温度的单晶基片上,同时控制分子束对衬底扫描,就可以使得分子按照晶体排列一
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