现代材料分析方法习题测验汇总及答案.docx

《现代材料分析方法习题测验汇总及答案.docx》由会员分享，可在线阅读，更多相关《现代材料分析方法习题测验汇总及答案.docx（3页珍藏版）》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。

1、现代材料分析方法习题测验汇总及答案 材料分析测试方法复习题 简答题： 1. X 射线产生的基本条件 答：产生自由电子； 使电子做定向高速运动； 在电子运动的路径上设置使其突然减速的障碍物。 2. 连续X 射线产生实质 答：假设管电流为10mA ，则每秒到达阳极靶上的电子数可达6.25x10（16）个，如此之多的电子到达靶上的时间和条件不会相同，并且绝大多数达到靶上的电子要经过多次碰撞，逐步把能量释放到零，同时产生一系列能量为hv （i ）的光子序列，这样就形成了连续X 射线。 3. 特征X 射线产生的物理机制 答：原子系统中的电子遵从刨利不相容原理不连续的分布在K 、L 、M 、N 等 不同能

2、级的壳层上，而且按能量最低原理从里到外逐层填充。当外来的高速度的粒子动能足够大时，可以将壳层中某个电子击出去，于是在原来的位置出现空位，原子系统的能量上升，处于激发态，这时原子系统就要向低能态转化，即向低能级上的空位跃迁，在跃迁时会有一能量产生，这一能量以光子的形式辐射出来，即特征X 射线。 4. 短波限、汲取限 答：短波限：X 射线管不同管电压下的连续谱存在的一个最短波长值。 汲取限：把一特定壳层的电子击出所须要的入射光最长波长。 5. X 射线相干散射与非相干散射现象 答： 相干散射：当X 射线与原子中束缚较紧的内层电子相撞时，电子振动时向四周放射电磁波的散射过程。 非相干散射：当X 射线

3、光子与束缚不大的外层电子或价电子或金属晶体中的自由电子相撞时的散射过程。 6. 光电子、荧光X 射线以及俄歇电子的含义 答：光电子：光电效应中由光子激发所产生的电子（或入射光量子与物质原子中电子相互碰撞时被激发的电子）。 荧光X 射线：由X 射线激发所产生的特征X 射线。 俄歇电子：原子外层电子跃迁填补内层空位后释放能量并产生新的空位，这些能量被包括空位层在内的接近原子或较外层电子汲取，受激发逸出原子的电子叫做俄歇电子。 8. 晶面及晶面间距 答:晶面：在空间点阵中可以作出相互平行且间距相等的一组平面，使全部的节点均位于这组平面上，各平面的节点分布状况完全相同，这样的节点平面成为晶面。 晶面间距：两个相邻的平行晶面的垂直距离。 9. 反射级数与干涉指数 答：布拉格方程 表示面间距为d 的（hkl ）晶面上产生了n 级衍射，n 就是反射级数 干涉指数：当把布拉格方程写成： 时，这是面间距为1/n 的事实上存在或不存在的假想晶面的一级反射，若把这个晶面叫作干涉面，其间的指数就叫作干涉指数 10.衍射矢量与倒易矢量 答：衍射矢量：当束X 射线被晶面P 反射时，假定N 为晶面P 的法线方向，入射线方向用单位矢量S0=Sin n d 2 n Sin d =2：