第18章电子技术基础精选文档.ppt
![资源得分’ title=](/images/score_1.gif)
![资源得分’ title=](/images/score_1.gif)
![资源得分’ title=](/images/score_1.gif)
![资源得分’ title=](/images/score_1.gif)
![资源得分’ title=](/images/score_05.gif)
《第18章电子技术基础精选文档.ppt》由会员分享,可在线阅读,更多相关《第18章电子技术基础精选文档.ppt(61页珍藏版)》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。
1、第18章电子技术基础本讲稿第一页,共六十一页18.1 18.1 可编程逻辑器件概述可编程逻辑器件概述 可编程逻辑器件简称为可编程逻辑器件简称为PLDPLD,其逻辑功能是由用户通过对,其逻辑功能是由用户通过对器件编程来设定的。器件编程来设定的。目前生产和使用的PLD产品主要有现场可编程逻辑阵列FPLA、通用阵列逻辑GAL、可擦除的可编程逻辑器件EPLD、现场可编程门阵列FPGA等几种类型。用于PLD编程的开发系统由硬件和软件两部分组成。硬件部分包括计算机和专门的编程器,软件部分有各种编程软件。本讲稿第二页,共六十一页 18.1.1 18.1.1连接方式连接方式 PLD电路由与门和或门阵列两种基本
2、的门阵列组成。图18.1是一个基本的PLD结构图。本讲稿第三页,共六十一页(a)基本的PLD结构图 (b)PLD连接方式图18.1PLD表示法本讲稿第四页,共六十一页 从图中可以看出,门阵列交叉点上的连接方式共有三种情况:(1)固定连接:固定连接是不可以通过编程改变的连接点。(2)可编程“接通”单元:它依靠用户编程来实现“接通”连接。(3)可编程“断开”单元:编程实现断开状态。这种单元又称为被编程擦除单元。本讲稿第五页,共六十一页 18.1.218.1.2基本门电路的基本门电路的PLDPLD表示法表示法 PLD PLD的输入缓冲器真值表列于表18.1中。表18.1 PLD输入缓冲器真值表输 入
3、 输 出A A 0 1 0 1 1 0 本讲稿第六页,共六十一页 一个4输入端与与门的PLD表示法如图18.2(a)所 示。图中L1=ABCD,通常把A、B、C、D称为输入项,L1称为乘积项乘积项(或简称积项积项);4输入端或或门如图18.2(b)所示,其中L2A十BCD。本讲稿第七页,共六十一页 图18.2 PLD表示法的图形符号本讲稿第八页,共六十一页 PLD表示的与门阵列如图18.3所示。图18.3 PLD表示的与门阵列本讲稿第九页,共六十一页L1 输入项 A、B、被编程接通 L2=1 与门的所有输入项均不接通,保 持“悬浮”的1状态L3=输入项 固定连接本讲稿第十页,共六十一页 图18
4、.3中与门G1对应的所有输入项被编程接通,输出项恒等于0,这种状态为与门编程的默认状态,如图18.4所示。图18.4与与门的默认状态本讲稿第十一页,共六十一页思考题思考题试用PLD表示法表示出逻辑关系L=试用PLD表示法表示出逻辑关系L=PLD用哪两个门阵列构成?返回本讲稿第十二页,共六十一页18.2 可編程只读存儲器(可編程只读存儲器(PROM)18.2.1 PROM 18.2.1 PROM的结构及原理的结构及原理 PROM的总体结构由存储矩阵、地址译码器和输出电路组成。不过在出厂时已经在存储矩阵的所有交叉点上全部制作了存储元件,即相当于在所有存储单元中存入了1。图18.5是熔丝型PROM存
5、储单元的原理图。本讲稿第十三页,共六十一页图18.5 熔丝型PROM的存储单元本讲稿第十四页,共六十一页 它由一只三极管和串在发射极的快速熔断丝组成。三极管的be结相当于接在字线与位线之间的二极管,熔丝用很细的低熔点合金丝或多晶硅导线制成。在写入数据时只要设法将需要存入0的那些存储单元上的熔丝烧断就行了。图18.6是一个168位PROM的结构原理图。本讲稿第十五页,共六十一页图18.6 PROM的结构原理图本讲稿第十六页,共六十一页 编程时首先对应输入地址代码,找出要写入“0”的单元地址。然后使VCC和选中的字线提高到编程所要求的高电平,同时在编程单元的位线上加入编程脉冲(幅度约20V,持续时
6、间约十几微秒)。这时写入放大器AW的输出为低电平,低内阻状态,有较大的脉冲电流流过熔丝,将其熔断。正常工作的读出放大器AR输出的高电平不足以使DZ导通,则AW不工作。可见,PROM的内容一经写入以后,就不可能修改了,所以它只能写入一次。本讲稿第十七页,共六十一页 18.2.2 18.2.2 可擦除的可编程只读存储器(可擦除的可编程只读存储器(EPROMEPROM)EPROMEPROM是用紫外线照射进行擦除的。是用紫外线照射进行擦除的。EPROM与前面已经讲过的PROM在总体结构形式上没有多大区别,只是采用了不同的存储单元。EPROM的存储单元使用了浮栅雪崩注入MOS管及叠栅注入MOS管。1.浮
7、栅注入MOS管(FAMOS)它的结构示意图和符号如图18.7所示。本讲稿第十八页,共六十一页 图18.7 FAMOS管的结构和符号 FAMOS管本身是一个P沟道增强型的MOS管,但栅极“浮置”于SiO2层内,与其他部分均不相连,处于完全绝缘的状态。本讲稿第十九页,共六十一页 如果在它的漏极和源极之间加上比正常工作电压高得多的负电压(通常为45V左右),则可使漏极与衬底之间的PN结产生雪崩击穿,耗尽区里的电子在强电场作用下以很高的速度从漏极的P区向外射出,其中速度最快的一部分电子穿过SiO2层而到达浮置栅,被浮置栅俘获而形成栅极存储电荷。这个过程就叫做雪崩注入雪崩注入。本讲稿第二十页,共六十一页
8、 漏极和源极间的高电压去掉以后,由于注入到栅极上的电荷没有放电通路,所以能长久保存下来。在1250C的环境温度下,70%以上的电荷能保存10年以上。在栅极获得足够的电荷以后,漏源间便形成导电沟道,使FAMOS管导通。本讲稿第二十一页,共六十一页 如果用紫外线或X射线照射FAMOS管的栅极氧化层,则SiO2层中将产生电子空穴对,为浮置栅上的电荷提供泄放通道,使之放电。待栅极上的电荷消失以后,导电沟道也随之消失,FAMOS管恢复为截止状态。这个过程称为擦除擦除。擦除时间约需2030分钟。用FAMOS管作存储单元时,还要用一只普通的P沟道MOS管V2 2与之串联,如图18.8所示。本讲稿第二十二页,
9、共六十一页图18.8 用FAMOS管的存储单元 本讲稿第二十三页,共六十一页 这只普通MOS管的栅极受字线控制。产品在出厂时所有的FAMOS管都处于截止状态。在进行写入操作时,首先输人选好的地址,使需要写入数据的那些单元所在字线为低电平。然后,在应该写入1的那些位线上加入负脉冲,使被选中的单元内FAMOS管发生雪崩击穿,存储单元记入1。本讲稿第二十四页,共六十一页 在读出数据时,只需输入指定的地址代码,相应的字线便给出低电平。这根字线所接的一行存储单元中栅极已注入电荷的 FAMOS管导通,使所接的位线变成高电平,读出1;栅极未注入电荷的FAMOS管截止,所连接的位线为低电平,读出0。本讲稿第二
10、十五页,共六十一页 2.叠栅注入MOS管(SIMOS管)图18.9是SIMOS管的结构原理图和符号。它是一个N沟道增强型的MOS管,有两个重叠的栅极有两个重叠的栅极控控制栅制栅G Gc c和浮置栅和浮置栅G Gf f控制栅控制栅G Gc c用于控制读出和写入,浮用于控制读出和写入,浮置栅置栅G Gf f用于长期保存注入电荷。用于长期保存注入电荷。本讲稿第二十六页,共六十一页图18.9 SIMOS管的结构和符号本讲稿第二十七页,共六十一页图18.10 使用SIMOS管的2561位EPROM本讲稿第二十八页,共六十一页 写入数据时漏极和控制栅极的控制电路没有画出。这是一个256l位的EPROM,2
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 18 电子技术 基础 精选 文档
![提示](https://www.taowenge.com/images/bang_tan.gif)
限制150内