现代检测技术导论 物理量检测幻灯片.ppt
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1、现代检测技术导论 物理量检测第1页,共67页,编辑于2022年,星期一3.1 传感器研制流程l任务分析(用专业术语描述用户需求)l调研(国内外情况、各种技术对比、技术难点)l形成设计思路(工作原理、创新点、可行性)l提出工作计划(设计方案、人员安排、时间进度)l具体实施(理论分析与实验验证相结合)l测试验收(满足用户需求)第2页,共67页,编辑于2022年,星期一3.2 半导体压阻式传感器3.2.1 压阻效应与检测电桥 半导体单晶硅材料在受到外力作用产生应变时,电阻率发生变化,由其材料制成的电阻也就出现电阻变化,这种物理效应叫压阻效应。l 纵向压阻系数纵向压阻系数 h 横向压阻系数横向压阻系数
2、l 纵向应力纵向应力 h 横向应力横向应力 第3页,共67页,编辑于2022年,星期一 压阻系数分量 应力方向 电流方向 R/R 纵向 11(11+12+44)/2(11+212+244)/3 横向 12(11+12-44)/2第4页,共67页,编辑于2022年,星期一材料0(cm)压阻系数(10-3(kbar)-1)11111244n-Sip-Si11.77.8-102.2+6.6+53.4-1.1-13.6+138.1Si的压阻系数值(室温)第5页,共67页,编辑于2022年,星期一(a)单臂电桥;(b)差动半桥;(c)差动全桥第6页,共67页,编辑于2022年,星期一3.2.2 微型三维
3、力传感器问题的提出:lMEMS技术的发展正在使人类对微米、纳米世界的操作能力技术的发展正在使人类对微米、纳米世界的操作能力取得突破;取得突破;l感知系统对于必须借助工具进行操作的任务十分重要,尤感知系统对于必须借助工具进行操作的任务十分重要,尤其是在人类无法直接观察和感受的范围中;其是在人类无法直接观察和感受的范围中;l微小型机器人进入特殊环境进行作业时必须具备力感知能微小型机器人进入特殊环境进行作业时必须具备力感知能力,如进入人体肠胃或微型卫星内部时;力,如进入人体肠胃或微型卫星内部时;l由于机器人作业时所受作用力方向是不确定的,所以必须使由于机器人作业时所受作用力方向是不确定的,所以必须使
4、用三维力传感器;用三维力传感器;l已有的三维力传感器在尺寸上不能满足微型化要求,因此已有的三维力传感器在尺寸上不能满足微型化要求,因此必须研制微型三维力传感器。必须研制微型三维力传感器。第7页,共67页,编辑于2022年,星期一工作原理工作原理 微型三维力传感微型三维力传感器结构示意图器结构示意图敏感膜片传力板保护基片44hOL0L1h0h1第8页,共67页,编辑于2022年,星期一 Fx Fy Fz Mx My MzRx1 0 0 Rx2 0 0 Vx 0 0 0 0 0 Fx Fy Fz Mx My MzRy1 0 0 Ry2 0 0 Vy 0 0 0 0 0 Fx Fy Fz Mx My
5、 MzRz1 0 0 Rz2 0 0 Rz3 0 0 Rz4 0 0 Vz 0 0 0 0 0a.桥桥路路Cx及及其响应输出其响应输出b.桥桥路路Cy及及其响应输出其响应输出c.桥桥路路Cz及及其响应输出其响应输出检测桥路对多维力的响应输出检测桥路对多维力的响应输出第9页,共67页,编辑于2022年,星期一力学分析力学分析 a=1.5mm,b=0.5mm。r2b2a弹性体的弹性体的E形园膜片模型形园膜片模型FzXOZMyFxYFyMxMz第10页,共67页,编辑于2022年,星期一(1)当)当Fz=3N作用在中央凸台时,在圆板半径作用在中央凸台时,在圆板半径r处的径向应力处的径向应力切向应力切
6、向应力梁变形所产生的位移梁变形所产生的位移其中其中k=r/a,K=b/a=1/3,m=a/h0=18.75,板板厚厚h0=80 m,第11页,共67页,编辑于2022年,星期一所以,最大径向应力所以,最大径向应力 这时对应位置的切向应力这时对应位置的切向应力 中央凸台位移中央凸台位移 第12页,共67页,编辑于2022年,星期一(2)My=2 Nmm。当当My作用在中央凸台时,作用在中央凸台时,最大应力最大应力中央凸台转角中央凸台转角其其中中、为为与与结结构构尺尺寸寸、形形状状有有关关的的系系数数,可可由由文文献献27的的表表4.9-3查出,查出,2.35,0.269。根根据据方方程程(2-1
7、),得得到到硅硅各各向向异异性性腐腐蚀蚀后后,中中央央凸凸台台顶顶面的宽度面的宽度b0=0.4mm,因此由于中央凸台转动而产生的位置变化因此由于中央凸台转动而产生的位置变化第13页,共67页,编辑于2022年,星期一(3)强度与保护间隙计算)强度与保护间隙计算当当Fz和和My同时作用时,中央凸台的总变形同时作用时,中央凸台的总变形这时总的最大应力这时总的最大应力 为两者之和,即为两者之和,即 =820 106Pa。单单晶晶硅硅的的屈屈服服强强度度 =7 109Pa,远远远远高高于于,因因此此在在Fz和和My同时作用下该传感器有足够的安全系数。同时作用下该传感器有足够的安全系数。我我们们设设定定
8、过过载载保保护护间间隙隙h1=6 m,这这时时当当仅仅有有My作作用用时时可可能产生的应力最大能产生的应力最大因此,该传感器在上述极端条件下仍然是安全的。因此,该传感器在上述极端条件下仍然是安全的。第14页,共67页,编辑于2022年,星期一输出分析输出分析 对对于于半半导导体体压压阻阻式式传传感感器器,其其扩扩散散电电阻阻变变化化量量与与所所受受到到的的应应力力、应变成比例关系,即:应变成比例关系,即:上上式式中中 11为为的的纵纵向向压压阻阻系系数数,12为为横横向向压压阻阻系系数数。对对于于我我们们所所采采用用的的P型型扩扩散散硅硅电电阻阻,11=6.6 10-11(m2/N),12=-
9、1.1 10-11(m2/N)。在在本本项项研研究究中中均均采采用用差差动动半半桥桥检检测测电电路路(图图4-2),桥桥路路电电压压Vc为为3V,所以电压输出变化所以电压输出变化当当Fz作用时,作用时,第15页,共67页,编辑于2022年,星期一工艺流程工艺流程(a)(b)(c)(d)(e)硅硅 掺杂硅掺杂硅 氧化硅氧化硅 氮化硅氮化硅 金属金属微型三维力工艺流程微型三维力工艺流程第16页,共67页,编辑于2022年,星期一(a)芯片正面芯片正面(b)芯片背面芯片背面 三维力敏感芯片三维力敏感芯片第17页,共67页,编辑于2022年,星期一实验结果与数据处理实验结果与数据处理 实验装置实验装置
10、三维力标定装置三维力标定装置X-Y平台平台Z向移动齿条向移动齿条标准传感器标准传感器被测传感器被测传感器数据处理数据处理计算机计算机数字电压表数字电压表稳压电源稳压电源第18页,共67页,编辑于2022年,星期一原始测量数据原始测量数据 (N,mV)次数次数FxFyFzVxVyVz100000020.0490.0580.9771.2201.45513.53430.0900.0851.9532.4022.98227.07040.1220.1092.9393.6154.55140.74150.769-0.0113.0445.4526.20742.11360.8110.7613.0866.7814.
11、51842.70770.028-0.0010.5090.6820.8956.94180.1510.0201.4661.9512.49920.31690.400-0.0571.5432.6553.25121.240100.4210.3881.5783.4752.31321.885第19页,共67页,编辑于2022年,星期一数据处理数据处理由标定测试得到的传感器输出信号由标定测试得到的传感器输出信号V,通过线性解耦通过线性解耦矩阵矩阵D可以转换成传感器所受到的三维力可以转换成传感器所受到的三维力F。第20页,共67页,编辑于2022年,星期一解耦结果与误差解耦结果与误差 测测量量次次数数实际力实际
12、力F(N)计算力计算力F(N)误差误差(%FS)FxFyFzFxFyFz x y z100000000020.0490.0580.9770.0370.0570.9770.400.03030.0900.0851.9530.0750.0861.9540.500.030.0370.028-0.0010.5090.055-0.0050.5010.900.130.2780.1510.0201.4660.1320.0141.4670.630.200.0390.400-0.0571.5430.384-0.0591.5360.530.070.23100.4210.3881.5780.4160.3911.582
13、0.170.100.13第21页,共67页,编辑于2022年,星期一附录:微机械加工技术附录:微机械加工技术 硅体微加工硅体微加工 1、各向异性腐蚀、各向异性腐蚀氢氧化钾(氢氧化钾(KOH)水溶液、邻苯二酚水溶液、邻苯二酚乙二胺乙二胺水水(EPW)和四甲基氢氧化胺水溶液(和四甲基氢氧化胺水溶液(TMAHW)。)。图2-1、(100)硅片的各向异性腐蚀顶视图:剖视图:腐蚀掩膜54.74whbw=h/tan54.74。Si+H2O+2KOH=K2SiO3+2H2 第22页,共67页,编辑于2022年,星期一三角形掩膜补偿法三角形掩膜补偿法条形掩膜补偿法条形掩膜补偿法第23页,共67页,编辑于202
14、2年,星期一 三角形掩膜与条形掩膜的关系310dh1h2ab130010b/2dd=1.2+3.12H (m)(2-3)a=3.78+9.83H-1.5b(m)(2-9)第24页,共67页,编辑于2022年,星期一2、电化学腐蚀、电化学腐蚀电位(V)0.0-0.5-1.0-1.5四电极电化学腐蚀系统示意图(图中NSi区域连通)采用四电极电化学腐蚀技术加工的硅梁第25页,共67页,编辑于2022年,星期一3、高温硅直接键合工艺、高温硅直接键合工艺步骤步骤1、预处理:将两抛光硅片先经含、预处理:将两抛光硅片先经含OH 的溶液浸泡处理,然后烘干的溶液浸泡处理,然后烘干;步骤步骤2、预键合:在常温下将
15、两硅片对准贴合在一起;、预键合:在常温下将两硅片对准贴合在一起;步骤步骤3、热处理:加热至、热处理:加热至500、800、1000C,形成高温键合。形成高温键合。800C退火处理后水汽产生的气孔键合完成后的红外图象第26页,共67页,编辑于2022年,星期一玻璃硅片加热板-Vs+静电键合装置4、静电键合工艺、静电键合工艺1、硅片清洗、烘干;、硅片清洗、烘干;2、射频溅射、射频溅射PbO玻璃薄膜,真空度玻璃薄膜,真空度10-6Torr,通氩气和氧气,玻璃膜厚度,通氩气和氧气,玻璃膜厚度1 m;3、将镀有玻璃膜的硅片与另一块本体硅片对准后压紧,分别接电源负极和正极。将镀有玻璃膜的硅片与另一块本体硅
16、片对准后压紧,分别接电源负极和正极。在常温下加在常温下加50V直流电压,时间直流电压,时间10min。硅/玻璃膜界面的SEM图象第27页,共67页,编辑于2022年,星期一常温键合硅片剥开后的玻璃膜粘附现象第28页,共67页,编辑于2022年,星期一 硅表面微加工硅表面微加工第29页,共67页,编辑于2022年,星期一 LIGA技术技术同步辐射同步辐射X光光刻光光刻(Lithographie)+微电铸微电铸(Galvanoformung)+微复制微复制(Abformung)第30页,共67页,编辑于2022年,星期一3.2.3 MEMS触觉传感器 类皮肤型触觉传感器必须具备的功能和特性:类皮肤
17、型触觉传感器必须具备的功能和特性:1、触觉敏感能力,包括接触觉、分布压觉、力觉和滑觉;、触觉敏感能力,包括接触觉、分布压觉、力觉和滑觉;2、柔性接触表面,以避免硬性碰撞和适应不同形状的、柔性接触表面,以避免硬性碰撞和适应不同形状的表面;表面;3、小巧的片状外型,以利于安装在机器人手爪上。、小巧的片状外型,以利于安装在机器人手爪上。第31页,共67页,编辑于2022年,星期一压阻元件与压阻元件与应变检测电路应变检测电路模拟开关模拟开关热敏电阻热敏电阻放大补偿电路放大补偿电路A/D计算机主板计算机主板D/A数据处理电路数据处理电路机器人控制器机器人控制器分布接触力分布接触力解码器解码器触觉敏感阵列
18、触觉敏感阵列触觉传感器系统框图触觉传感器系统框图地址控制器地址控制器第32页,共67页,编辑于2022年,星期一未粘贴橡胶层的触觉敏感阵列未粘贴橡胶层的触觉敏感阵列橡胶层橡胶层传力柱传力柱基板基板保护阵列保护阵列金丝金丝外引线外引线 敏感单元敏感单元 中央凸台中央凸台敏感阵列结构图敏感阵列结构图触觉敏感阵列触觉敏感阵列 第33页,共67页,编辑于2022年,星期一制作工艺制作工艺敏感芯片的制作敏感芯片的制作基本与微型三维力传感器芯片相同,但是应在采用离子注入掺基本与微型三维力传感器芯片相同,但是应在采用离子注入掺杂工艺制作敏感电阻的同时,增加制作信号选通集成电路和杂工艺制作敏感电阻的同时,增加
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