基于机器学习的SiC MOSFETS寿命预测 (1).docx
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1、单位代码 xxxxx 学 号 xxxxxxxx 分类号 xxxxx 毕业设计(论文)基于机器学习的SiC MOSFETS寿命预测院(系)名称自动化科学与电气工程学院专业名称电气工程及其自动化学生姓名李炯铮指导教师石景坡2021年5月基于机器学习的SiC MOSFETS寿命预测李炯铮 北京航空航天大学 北京航空航天大学毕业设计(论文)第 V 页基于机器学习的SiC MOSFETS寿命预测学 生:李炯铮指导老师:石景坡摘 要以碳化硅材料、氮化镓材料为代表的第三代半导体材料,具有较大的禁带宽度。其中SiC MOSFET在高功率器件中脱颖而出,具有低损耗、导通压降较小、阻断电压高、耐受温度较高等高性能
2、指标,在高压领域具有广阔的应用前景。在实际的工业应用以及相关开发的过程里,SiC MOSFETS器件的寿命分析对系统的效率有很大影响,但对于其可靠性特征的相关研究还处于起步阶段。本课题针对SiC MOSFETS器件的工作特点,以导通电阻为特征量进行器件的退化分析,以固定温度下多次功率循环后的电阻变化阈值为器件失效的判定标准,对器件进行失效建模。应用机器学习中的长短时记忆神经网络进行模型搭建,用以识别和预测器件寿命。利用开源的SiC MOSFETS加速退化试验数据对预测模型进行训练,输出拟合结果,达到了预定的性能指标。关键词:碳化硅功率管,机器学习,寿命预测,长短时记忆网络SAMPLESAMPL
3、E Based on SAMPLESAMPLESAMPLEAuthor: Li JiongzhengTutor: Shi JingpoAbstractThe third generation semiconductor materials, such as silicon carbide and gallium nitride, have large band gap. Among them, SiC MOSFET stands out in high-power devices, with low loss, small on-off voltage drop, high blocking
4、voltage, high temperature tolerance and other high performance indicators, which has broad application prospects in high-voltage field. In the actual industrial application and related development process, the life analysis of SiC MOSFET devices has a great impact on the efficiency of the system, bu
5、t the research on its reliability characteristics is still in its infancyAccording to the working characteristics of SiC MOSFETs, this paper takes on resistance as the characteristic quantity to analyze the degradation of the device, and takes the resistance change threshold after multiple power cyc
6、les at a fixed temperature as the criterion to determine the device failure, so as to model the device failure. The long-term and short-term memory neural network of machine learning is used to build the model to identify and predict the device life. The prediction model is trained by using the open
7、 source accelerated degradation test data of SiC MOSFETs, and the fitting results are output to achieve the predetermined performance index.Key Words: Silicon carbide power transistor, machine learning, life prediction, long-term and short-term memory network目 录1绪论11.1 研究背景11.2 研究意义21.3 国内外研究现状31.4
8、研究目标与研究内容61.4.1 研究目标61.4.2 研究内容61.5 论文章节安排72SiC MOSFETS疲劳失效建模82.1 SiC MOSFET结构82.2 MOSFET主要参数102.3 建立失效模型112.4 本章小结113数据库及特征量提取123.1 NASA预测数据存储库123.2 滑动平均滤波133.3 特征量提取143.4 本章小结234基于加速寿命测试数据的预测模型训练244.1 机器学习单元架构及算法原理244.1.1 机器学习综述244.1.2 机器学习算法选择254.2.1 长短时记忆(LSTM)单元264.2 预测模型搭建294.2.1 实验环境294.2.2 数
9、据集划分294.2.3 数据预处理294.2.3 训练神经网络304.3 训练结果314.4 本章小结375实物平台385.1 加速老化试验平台介绍385.2 电压采样板38结论40致谢41参考文献42北京航空航天大学毕业设计(论文)第 50 页1 绪论1.1 研究背景 第二次工业革命后,电子器件开始被广泛运用,电气时代正式到来。而电气技术的革新,与电力电子技术的成长和进步密切相关。电力电子技术的关键,在于使用功率半导体器件,组成各式电能模块,变换和控制电能,并最终以负载需要的形式,供给电压和电流,包含斩波,逆变,整流和AC-AC变换等。半导体器件,则是对电能形式及通断进行控制的关键元件,是电
10、力电子技术的重要实现载体。1957年,世界上第一款可控式功率型半导体由通用电气公司设计,在晶闸管问世之后,电力电子驱动技术迎来了快速成长的新时期,而每一次电力电子领域的突破,都与半导体技术的进步密不可分。半导体材料大规模应用,普遍被分成三个时代。以硅(Si)、(Ge)为代表的第一代半导体材料在二十世纪五十年代内兴起,引领了微电子领域的发展。第二代半导体材料,以砷化镓(GaAs)、锑化铟(InSb)为代表。九十年代,互联网快速发展,第二代半导体材料广泛运用于卫星通讯、光通讯等领域,三元化合物半导体如GaAsAl、GaAsP,以及Ge-Si、GaAs-GaP等固溶体半导体也是第二代半导体的一部分。
11、第三代半导体材料也被称为宽禁带半导体材料,主要包括碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化锌(ZnO)和氮化铝(AlN),在功率器件、短波长光电器件、光显示、光存储、光探测、透明导电等领域有着广阔的应用 王占国. 半导体材料研究进展M. 北京:高等教育出版社,2012.。半导体器件(semiconductor device)是一种独特的电子器件,它利用半导体材料独特的电力特性以实现独特的功能。1950年代,真空管开始被新型双极功率器件取代。GTR、GTO、MOSFET和IGBT等新一代半导体器件,在功率处理和开关频率的性能上不断优化,成功在电力电子系统的体积缩小和成本压缩上起到了极其关键的作用
12、。在20世纪70年代里,硅基功率MOSFETs成为了低压(100kHz)市场的主流,在高电压领域却没有什么重大进展。而硅基半导体器件经过几十年的的研发使用后,材料性能已经趋近其理论极限,通过器件原理的创新、结构的改善及制造工艺的进步已经难以大幅度提升其总体性能,逐渐成为制约未来电力电子技术进一步发展的瓶颈之一 钱照明,张军明,盛况.电力电子器件及其应用的现状和发展J.中国电机工程学报,2014,第29期 严仰光,秦海鸿,龚春英,王慧贞.多电飞机与电力电子J.南京航空航天大学学报,2014,第1期。近些年来基于第三代半导体材料,即用SiC或GaN等宽禁带半导体作为衬底,取代Si基的电力电子器件具
13、有更出众的性能,是未来市场的主流和下一步的研究热点。禁带是指能量间隙,存在于半导体材料的价电子所在能级与自由电子所在能级之间。禁带宽度的指标,直接反映了被束缚的价电子要成为自由电子所必须获得的额外能量。2009年6月,高效功率转换公司(EPC)推出了第一款GaN FET 碳化硅半导体材料与器件M杨银堂,贾护军,段宝兴,译北京:电子工业出版社,2012: 1150。2010年12月,ROHM Co.,Ltd.推出了第一批SiC MOSFETs。从那时起,一些制造商开发了几代SiC功率MOSFETs。碳化硅作为一种化合物半导体,根据其中晶体结构的不同,其禁带宽度可以达到2.3-3.3eV。它的击穿
14、电场强度约比硅基功率半导体器件高10倍,导热系数提升约3倍左右,这使得它对更高功率和更高温度的操作器件具有吸引力,具有更广阔的应用场景。SiC功率模块及其中的功率半导体器件,在可预见的未来内还将继续优化,朝着增大电流和电压容量、减小损耗、增强高温稳定性及加强可靠性分析等方向进一步发展。占据越来越多的半导体市场份额。其中SiC MOSFETs作为碳化硅电力电子器件研究中最受关注的器件之一,在基站、数据中心、服务器光伏、以及能源储存等应用场景中广受欢迎,有多家半导体企业进行积极探索和深入布局,电力电子的一个新时代正在来临。图 1.1 功率半导体器件应用领域1.2 研究意义如今随着4G技术的全面应用
15、与5G技术逐渐普及,转换效率和稳定性的需求与日俱增,SiC MOSFETs以其高临界击穿场强、高开关频率、耐高温等突出优点,更加适合高压、高频、高温等应用场合 王莉娜, 邓洁, 杨军一, 等. Si和SiC功率器件结温提取技术现状及展望J.电工技术学报, 2019,34(4): 703-716.,碳化硅(SiC)器件凭借其优异特性而加速渗透。但对于包含SiC MOSFETs在内的第三代半导体功率器件的可靠性,还缺少体系化的成熟技术和成型的模式识别及预测的模型供工业界使用。SiC器件已经有包括美国Cree公司、德国Infineon公司、Microsemi公司等企业在内的机构已经推出了相关的SiC
16、 SBD产品系列。 2020年2月,Infineon发布了8款SiC MOSFET产品。然而SiC MOSFETs目前仍存在的巨大隐患:低反型层沟道迁移率、SiO2层可靠性差等问题仍然未能妥善解决。在失效机理和解决方案还没有未明晰的时候,我们对可能发生的问题和隐患难以进行排查和预测。标准Si MOSFET 工作在在150C的温度条件下工作时,RDS(on) 导通电阻是25时,其他工况相同时的两倍。采用正确封装时,SiC MOSFET 可获得 200C 甚至更高的额定温度。SiC MOSFET 可以在严苛的温度环境下工作,也优化了功率系统的管理方式。集成电路的外形尺寸得以被缩小,功率系统稳定性也
17、大幅提升。相比较于上一代功率器件和半导体技术发展的年代,现阶段最大的优势在于远超过那个年代的计算能力和计算方法,超算技术的发展给我们建立预测模型提供了无限可能。另外,得益于人工智能技术的飞速发展,我们在模式识别和行为预测上拥有了前所未有的可能性和可行性。现有的运算能力已经可以帮助我们处理由问题和特征参数间构建的黑箱系统,单纯依靠对数据的分析来构建可靠性预测模型,对于可能出现的运行问题进行预测。在此基础上,我们希望从SiC MOSFET中收集到大量第三代半导体功率设备的工作特性参数,包括稳态正常工作参数和特性参数。在多功率循环实验中,我们希望建立相应的设备数据库,并利用人工智能算法进行学习、训练
18、和分析,建立专用的可靠性监测和预测模型,它为电子设备的状态预测和性能评估提供了更多的可靠性信息。在5g时代,提出了一种宽带隙半导体寿命预测的解决方案。1.3 国内外研究现状随着第三代半导体在商业上的广泛应用,关于SiC及GaN功率器件的失效和寿命研究正在升温。关于SiC MOSFETs的失效机理与可靠性研究在近两年来有所增加,张明宇等发表的基于长短时记忆算法的热应力下半导体器件故障预测,对于半导体器件的整体热应力下故障情况做了一定分析和预测。但对于SiC MOSFETs的寿命预测还没有相关已发表的成果。而国内外相关成果关于SiC功率器件失效机制的分析,意义十分重大,这些研究给了我们选取对外表征
19、参数的参考。以下是对SiC失效机理、简要分析。通常,功率半导体中的失效机制可以分为两大类:外在失效和本征失效。外部故障主要在于功率管封装环节上的不足。主要原因有键合线提升、焊料脱落和接触迁移。其中本征故障是指来自器件本身的失效损坏。常见的失效机理包括了热载流子注入效应、电迁移效应、时间相关的电介质击穿效应和因热膨胀系数不匹配引起的器件结构变化 张明宇,王琦,于洋.基于长短时记忆算法的热应力下半导体器件故障预测模型J/OL.兵工学报:1-102021-03-02.。SiC MOSFET器件在功率循环以及热应力环境中,键合电阻会明显上升。而在短路应力条件下,流过键合线的功率流更强,温度梯度变化更大
20、,会加速键合线及键合点的退化,功率器件本身可靠性下降,系统的稳定性也会因此受到影响。器件在功率循环退化实验中,由于材料膨胀系数CTE(Coefficient of Thermal Expansion)不匹配会在内部各层之间产生一个热应力,器件失效容易在此时产生。下面简要介绍热应力下半导体器件的失效机理: 1)热载流子(电子和空穴)注入栅氧化层会引起热载流子注入效应。平衡状态下的载流子相比于热载流子,具有的动能较低。由于此时载流子具有很高的能量,可在硅-二氧化硅面处和栅氧化层中产生大量缺陷,从而导致器件退化乃至失效。2) 高电流密度作用下,金属材料中的原子迁移会引发电迁移效应。电迁移会引起金属互
21、连线短路或开路失效,进而影响半导体器件的寿命。 3)热应力作用下,还会影响时间相关的电介质击穿效应。温度的升高会导致栅氧化层薄膜中的共价键更易断裂,电子破坏作用更明显,击穿所需时间缩短,所需击穿电量减少。4)半导体器件管芯、基板、管壳等部位的材料热膨胀系数不同,当温度快速变化时材料将产生热膨胀和收缩,不同材质交界面处将产生机械应力,最终形成空洞、裂纹,进而影响器件的性能。热膨胀系数的不同,还会使芯片和基板之间的粘接层产生疲劳失效,造成电子器件热性能变差、内部粘接不牢、芯片翘起、热阻增大和功率循环性能变差.热应力对半导体器件性能的影响主要体现在阈值电压、迁移率、漏极电流、延时时间、跨导、漏源导通
22、电阻RDS(on)和逻辑电平等参数上 VICHARE N,PECHT M.Prognostics and health management of ectronicsC/Proceedings of the 11st International Symposium on Advanced Packaging Materials: Processes, Properties and Interface. Atlanta,GA,US:IEEE,2006:222-229. 。RDS(on),漏源导通电阻,它表示MOSFET在某一条件下导通时,漏源极之间的导通电阻。这个参数与MOSFET结温,驱动电压
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