纳米微粒制备气相法精选PPT.ppt
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1、关于纳米微粒制备气相法第1页,讲稿共56张,创作于星期二纳纳米米粒粒子子制制备备方方法法气相法气相法液相法液相法沉淀法沉淀法金属醇盐水解法金属醇盐水解法微乳液发微乳液发水热法水热法溶胶凝胶法溶胶凝胶法冷冻干燥法冷冻干燥法喷雾法喷雾法辐射合成法辐射合成法低压气体中蒸发法低压气体中蒸发法氢电弧等离子体法氢电弧等离子体法溅射法溅射法流动液面真空镀膜法流动液面真空镀膜法混合等离子体法混合等离子体法爆炸丝法爆炸丝法化学气相反应法化学气相反应法共沉淀法共沉淀法化合物沉淀法化合物沉淀法纳纳米米粒粒子子合合成成方方法法分分类类固相法固相法粉碎法粉碎法热分解法热分解法其它方法其它方法固相反应法固相反应法第2页,
2、讲稿共56张,创作于星期二4.1纳米微粒的气相制备低压气体中蒸发法(气体冷凝法)活性氢熔融金属反应法 溅射法 流动液面上真空蒸度法 电加热蒸发法 混合等离子法 爆炸丝法 气相化学反应法第3页,讲稿共56张,创作于星期二4.1.1低压气体中蒸发法(气体冷凝法)在低压的氩、氮等惰性气体中加热金属,使其蒸发后形成纳米粒(11000nm)或纳米微粒.20世纪80年代初,Gleiter等人首先提出,将气体冷凝法制得具有清洁表面的纳米微粒,在超高真空条件下紧压致密得到多晶体(纳米微晶).第4页,讲稿共56张,创作于星期二4.1.1低压气体中蒸发法(气体冷凝法)在超高真空室内进行,通过分子涡轮泵使其达到0.
3、1Pa以上的真空度,然后充人低压(约2kPa)的纯净惰性气体(He或Ar,纯度为99996)。在蒸发过程中,由原物质发出的原子由于与惰性气体原子碰撞而迅速损失能量而冷却,这种有效的冷却过程在原物质蒸气中造成很高的局域过饱和,这将导致均匀的成核抽气液氮第5页,讲稿共56张,创作于星期二4.1.1低压气体中蒸发法(气体冷凝法)在接近冷却棒的过程中,在接近冷却棒的过程中,原物质蒸气首先形成原原物质蒸气首先形成原子簇,然后形成单个纳米子簇,然后形成单个纳米微粒微粒 在接近冷却棒表面的区在接近冷却棒表面的区域内,由于单个纳米微粒域内,由于单个纳米微粒的聚合而长大,最后在冷的聚合而长大,最后在冷却棒表面上
4、积聚起来却棒表面上积聚起来 用聚四氟乙烯刮刀刮用聚四氟乙烯刮刀刮下并收集起来获得纳米下并收集起来获得纳米粉粉抽气液氮第6页,讲稿共56张,创作于星期二纳米粒子尺寸的影响因素纳米粒子尺寸的影响因素通过调节惰性气体压力,蒸发物质的分压即蒸发温度或速率,或惰性通过调节惰性气体压力,蒸发物质的分压即蒸发温度或速率,或惰性气体的温度,来控制纳米微粒粒径的大小。气体的温度,来控制纳米微粒粒径的大小。随蒸发速率的增加随蒸发速率的增加(等效于蒸发源温度的升高等效于蒸发源温度的升高)粒子变大,或随着原物粒子变大,或随着原物质蒸气压力的增加,粒子变大在一级近似下,粒子大小正比于质蒸气压力的增加,粒子变大在一级近似
5、下,粒子大小正比于lnPv(pv为金属蒸气的压力为金属蒸气的压力);随惰性气体压力的增大,粒子近似地成比例增大随惰性气体压力的增大,粒子近似地成比例增大;大原子质量的惰性气体将导致粒子变大;大原子质量的惰性气体将导致粒子变大;惰性气体温度下降将导致粒子减小。惰性气体温度下降将导致粒子减小。第7页,讲稿共56张,创作于星期二第8页,讲稿共56张,创作于星期二蒸发源的加热方式电阻加热法;电阻加热法;(工艺简单,成本低,加热温度有限,有器(工艺简单,成本低,加热温度有限,有器壁污染)壁污染)等离子喷射法;等离子喷射法;(功率大,制备速度快,污染小)(功率大,制备速度快,污染小)高频感应法;(热效率高
6、,加热温度有限,有污染)高频感应法;(热效率高,加热温度有限,有污染)电子束法;(加热温度高,污染小,装置复杂,成本高)电子束法;(加热温度高,污染小,装置复杂,成本高)激光法;(温度梯度大,污染小,)激光法;(温度梯度大,污染小,)这些不同的加热方法使得制备出的纳米粒的量、品种、这些不同的加热方法使得制备出的纳米粒的量、品种、粒径大小及分布等存在一些差别粒径大小及分布等存在一些差别第9页,讲稿共56张,创作于星期二1 1)电阻加热电阻加热:(电阻丝)电阻加热法使用的螺旋纤维或者舟状的电阻发热体。如图金属类:如铬镍系,铁铬系,温度可达1300;钼,钨,铂,温度可达1800;非金属类:SiC(1
7、500),石墨棒(3000),MoSi2(1700)。第10页,讲稿共56张,创作于星期二第11页,讲稿共56张,创作于星期二有两种情况不能使用这种方法进行加热和蒸发:两种材料(发热体与蒸发原料)在高温熔融后形成合金。蒸发原料的蒸发温度高于发热体的软化温度。目前使用这一方法主要是进行Ag、Al、Cu、Au等低熔点金属的蒸发。第12页,讲稿共56张,创作于星期二2 2)等等离离子子体体喷喷射射:电离产生的等离子体气体对原料进行加热。3 3)高高频频感感应应:电磁感应现象产生的热来加热。类似于变压器的热损耗。高频感应加热是利用金属材料在高频交变电磁场中会产生涡流的原理,通过感应的涡流对金属工件内部
8、直接加热,因而不存在加热元件的能量转换过程而无转换效率低的问题;加热电源与工件不接触,因而无传导损耗;加热电源的感应线圈自身发热量极低,不会因过热毁损线圈,工作寿命长;加热温度均匀,加热迅速工作效率高。第13页,讲稿共56张,创作于星期二4 4)电子束轰击)电子束轰击:利用静电加速器或电子直线加速得到高能电子束,以其轰击材料,使其获得能量,(通过与电子的碰撞)而受热气化。在高真空中使用第14页,讲稿共56张,创作于星期二5 5)激光加热激光加热:利用大功率激光器的激光束照射子反应物,反应物分子或原子对入射激光光子的强吸收,在瞬间得到加热、活化,在极短的时间内反应分子或原子获得化学反应所需要的温
9、度后,迅速完成反应、成核凝聚、生长等过程,从而制得相应物质的纳米微粒。激光能在10-8秒内对任何金属都能产生高密度蒸气,能产生一种定向的高速蒸气流。第15页,讲稿共56张,创作于星期二4.1.2 活性氢熔融金属反应法定定义义:之之所所以以称称为为氢氢电电弧弧等等离离子子体体法法,主主要要是是用用于于在在制制备备工工艺艺中中使使用用氢氢气气作作为为工工作作气气体体,可可大大幅幅度度提提高高产产量量。其其原原因因被被归归结结为为氢氢原原子子化化合合时时(H H2 2)放放出出大大量量的的热热,从从而而强强制制性性的的蒸蒸发发,使使产产量量提提高高,而且氢的存在可以降低熔化金属的表面张力加速蒸发而且
10、氢的存在可以降低熔化金属的表面张力加速蒸发。第16页,讲稿共56张,创作于星期二4.1.2 活性氢熔融金属反应法基本制备过程:基本制备过程:含有氢气的等离子体与金属间产生电弧,使金属熔融,电离的含有氢气的等离子体与金属间产生电弧,使金属熔融,电离的 N2,Ar等气体和等气体和H2溶入熔融金属,然后释放出来,在气体中形成了金溶入熔融金属,然后释放出来,在气体中形成了金属的纳米粒子属的纳米粒子.用离心收集器、过滤式收集器使微粒与气体分离面获得纳米微粒用离心收集器、过滤式收集器使微粒与气体分离面获得纳米微粒优点是纳米粒子的生成量随等离子气体中的氢气浓度增加而上升优点是纳米粒子的生成量随等离子气体中的
11、氢气浓度增加而上升缺点纳米粒子尺寸难以控制,粒径分散度大缺点纳米粒子尺寸难以控制,粒径分散度大。第17页,讲稿共56张,创作于星期二4.1.2 活性氢熔融金属反应法第18页,讲稿共56张,创作于星期二此种制备方法的优点是超微粒的生成量随等离子气体中的氢气浓度增加而上升。例 如,Ar气 中 的H2占50 时,电 弧 电 压 为3040V,电流为150170 A的情况下每秒钟可获得20 mg的Fe超微粒子。为了制取陶瓷超微粒子,如TiN及AlN,则掺有氢的惰性气体采用N2气,被加热蒸发的金属为Ti及Al等。第19页,讲稿共56张,创作于星期二产量:以纳米Pd为例,该装置的产率一般可达到300 g/
12、h品种:该方法已经制备出十多种金属纳米粒子;30多种金属合金,氧化物;也有部分氯化物及金属间化物。产物的形貌和结构:用这种方法,制备的金属纳米粒子的平均粒径和制备的条件及材料有关。粒径:一般为几十纳米。如Ni;1060 nm间的粒子所占百分数达约为78%形状:一般为多晶多面体,磁性纳米粒子一般为链状。第20页,讲稿共56张,创作于星期二4.1.3 溅射法原理、制备过程:原理、制备过程:用用两两块块金金属属板板分分别别作作为为阳阳极极和和阴阴极极,阴阴极极为为蒸蒸发发用用的的材材料料,在在两两电电极极间间充充人人Ar气气(40-250Pa),两两电电极极间间施施加加的的电电压压范范围围为为031
13、5kV由由于于两两电电极极间间的的辉辉光光放放电电使使Ar离离子子形形成成,在在电电场场的的作作用用下下Ar离离子子冲冲击击阴阴极极靶靶材材表表面面,使使靶靶材材原原子子从从其其表面蒸发出来形成纳米粒子,并在附着面上沉积下来。表面蒸发出来形成纳米粒子,并在附着面上沉积下来。第21页,讲稿共56张,创作于星期二粒子的大小及尺寸分布主要取决于粒子的大小及尺寸分布主要取决于两电极间的电压、两电极间的电压、电流电流气体压力气体压力靶材的表面积愈大,原子的蒸发速度愈高,纳米粒的获得量愈多靶材的表面积愈大,原子的蒸发速度愈高,纳米粒的获得量愈多第22页,讲稿共56张,创作于星期二用溅射法制备纳米微粒有以下
14、优点:用溅射法制备纳米微粒有以下优点:(1)可可制制备备多多种种纳纳米米金金属属,包包括括高高熔熔点点和和低低熔熔点点金金属属常常规规的的热热蒸发法只能适用于低熔点金属;蒸发法只能适用于低熔点金属;(2)能能制制备备多多组组元元的的合合金金和和化化合合物物纳纳米米微微粒粒,如如Al52Ti48,Cu91Mn9及及ZrO2等;等;(3)通过加大被溅射的阴极表面可提高纳米微粒的获得量。通过加大被溅射的阴极表面可提高纳米微粒的获得量。第23页,讲稿共56张,创作于星期二溅射方式溅射方式 直流二级溅射直流二级溅射 最简单的直流二级溅射装置。最简单的直流二级溅射装置。它是一对阴极和阳极组成的冷阴极辉光放
15、电管结构。被溅射靶它是一对阴极和阳极组成的冷阴极辉光放电管结构。被溅射靶(阴极阴极)和成膜的基片及其固定架和成膜的基片及其固定架(阳极阳极)构成溅射装置的两个极。阴构成溅射装置的两个极。阴极上接极上接1-3kV的直流负高压,阳极通常接地。的直流负高压,阳极通常接地。工作时先抽真空,再通工作时先抽真空,再通Ar气,使真空室内达到溅射气压。接气,使真空室内达到溅射气压。接通电源,阴极靶上的负高压在两极间产生辉光放电并建立起一个等通电源,阴极靶上的负高压在两极间产生辉光放电并建立起一个等离子区,其中带正电的离子区,其中带正电的Ar离子在阴极附近的阴极电位降作用下,加离子在阴极附近的阴极电位降作用下,
16、加速轰击阴极靶,使靶物质表面溅射,并以分子或原子状态沉积在基速轰击阴极靶,使靶物质表面溅射,并以分子或原子状态沉积在基片表面,形成靶材料的薄膜。片表面,形成靶材料的薄膜。第24页,讲稿共56张,创作于星期二优点是结构简单,控制方便。缺点有:在工作压力较高时膜层有沾污;沉积速率低,不能镀l0m以上的膜厚;由于大量二次电子直接轰击基片,使基片升温过高。第25页,讲稿共56张,创作于星期二三级和四极溅射。三级和四极溅射。三极溅射是在二极溅射的装置上附加一个电极,使它放出热电子三极溅射是在二极溅射的装置上附加一个电极,使它放出热电子强化放电,它既能使溅射速率有所提高,又能使溅射工况的控制强化放电,它既
17、能使溅射速率有所提高,又能使溅射工况的控制更为方便。与二极溅射不同的是,可以在主阀全开的状态下制取更为方便。与二极溅射不同的是,可以在主阀全开的状态下制取高纯度的膜。高纯度的膜。四极溅射又称为等离子弧柱溅射,在原来二极溅射靶和基板垂直四极溅射又称为等离子弧柱溅射,在原来二极溅射靶和基板垂直的位置上,分别放置一个发射热电子的灯丝的位置上,分别放置一个发射热电子的灯丝(热阴极热阴极)和吸引热电和吸引热电子的辅助阳极,其间形成低电压、大电流的等离子体弧柱,子的辅助阳极,其间形成低电压、大电流的等离子体弧柱,大量电子碰撞气体电离,产生大量离子。大量电子碰撞气体电离,产生大量离子。这种溅射方法沉积速度高
18、,但还是不能抑制由靶产生的高速电这种溅射方法沉积速度高,但还是不能抑制由靶产生的高速电子对基片的轰击。子对基片的轰击。第26页,讲稿共56张,创作于星期二 射频溅射。射频溅射。可以制取从导体到绝缘体任意材料的膜。可以制取从导体到绝缘体任意材料的膜。直流溅射是利用金属、半导体靶制取薄膜的有效方法。当靶是直流溅射是利用金属、半导体靶制取薄膜的有效方法。当靶是绝缘体时由于撞击到靶上的离子会使靶带电,靶的电位上升,结果绝缘体时由于撞击到靶上的离子会使靶带电,靶的电位上升,结果离子不能继续对靶进行轰击。离子不能继续对靶进行轰击。射频是指无线电波发射范围的频率,为了避免干扰电台工作,溅射射频是指无线电波发
19、射范围的频率,为了避免干扰电台工作,溅射专用频率规定为专用频率规定为 13.56MHz。在射频电源交变电场作用下,气体中的电子随之发生振荡,并使气在射频电源交变电场作用下,气体中的电子随之发生振荡,并使气体电离为等离子体。体电离为等离子体。缺点是大功率的射频电源不仅价高,而且对于人身防护也成问题。缺点是大功率的射频电源不仅价高,而且对于人身防护也成问题。因此,射频溅射不适于工业生产应用。因此,射频溅射不适于工业生产应用。第27页,讲稿共56张,创作于星期二 磁控溅射磁控溅射磁控溅射是磁控溅射是70年代迅速发展起来的新型溅射技术,目年代迅速发展起来的新型溅射技术,目前已在工业生产中应用。前已在工
20、业生产中应用。这是由于磁控溅射的镀膜速率与二极溅射相比提高了一个这是由于磁控溅射的镀膜速率与二极溅射相比提高了一个数量级,具有高速、低温、低损伤等优点。数量级,具有高速、低温、低损伤等优点。第28页,讲稿共56张,创作于星期二4.1.4 流动液面上真空蒸度法流动液面上真空蒸度法基本原理基本原理在高真空中蒸发的金属原在高真空中蒸发的金属原子在流动的油面内形成纳子在流动的油面内形成纳米粒子,纳米粒子悬浮在米粒子,纳米粒子悬浮在高沸点的油中,需要较复高沸点的油中,需要较复杂的分离才能得到纳米微杂的分离才能得到纳米微粉。粉。产品一般为含有大量纳米产品一般为含有大量纳米微粒的糊状油微粒的糊状油第29页,
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