PCB流程简介-全制程(新).ppt
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1、製造流程簡介製造流程簡介1 1PCB制造流程简介制造流程简介(PA0)PA0PA0介绍介绍介绍介绍(发料至发料至发料至发料至DesmearDesmear前前前前)PA1(PA1(内层课内层课):):裁板裁板;内层前处理内层前处理;压膜压膜;曝光曝光;DES;DES连线连线PA9(PA9(内层检验课内层检验课):CCD):CCD冲孔冲孔;AOI;AOI检验检验;VRS;VRS确认确认PA2(PA2(压板课压板课):):棕化棕化;铆钉铆钉;叠板叠板;压合压合;后处理后处理PA3(PA3(钻孔课钻孔课):):上上PIN;PIN;钻孔钻孔;下下PINPIN2 2PA1(内层课内层课)介绍介绍流程介绍流
2、程介绍流程介绍流程介绍:目的目的目的目的:利用影像转移原理制作内层线路利用影像转移原理制作内层线路DESDES为显影为显影;蚀刻蚀刻;去膜连线简称去膜连线简称前处理压膜曝光DES裁板3 3PA1(内层课内层课)介绍介绍裁板裁板裁板裁板(SheeringSheering):):目的目的目的目的:依制前设计所规划要求依制前设计所规划要求,将基板材料裁切成工作所需尺寸将基板材料裁切成工作所需尺寸主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:基板基板;锯片锯片基板由铜皮和绝缘层压合而成基板由铜皮和绝缘层压合而成,依要求有不同板厚规格依要求有不同板厚规格,依铜依铜厚可分为厚可分为H/H;1oz/1oz;2o
3、z/2ozH/H;1oz/1oz;2oz/2oz等种类等种类注意事项注意事项注意事项注意事项:避免板边巴里影响品质避免板边巴里影响品质,裁切后进行磨边裁切后进行磨边,圆角处理圆角处理考虑涨缩影响考虑涨缩影响,裁切板送下制程前裁切板送下制程前,进行烘烤进行烘烤裁切须注意机械方向一致的原则裁切须注意机械方向一致的原则4 4PA1(内层课内层课)介绍介绍前处理前处理前处理前处理(Pretreat):Pretreat):目的目的目的目的:去除銅面上的污染物,去除銅面上的污染物,增增加銅面粗糙度加銅面粗糙度,以利於後續以利於後續的壓膜制程的壓膜制程主要原物料:主要原物料:主要原物料:主要原物料:刷輪刷輪
4、铜箔铜箔绝缘层绝缘层前处理后前处理后铜面状况铜面状况示意图示意图5 5PA1(内层课内层课)介绍介绍压膜压膜压膜压膜(LaminationLamination):):目的目的目的目的:将经处理之基板铜面透过热压将经处理之基板铜面透过热压方式贴上抗蚀干膜方式贴上抗蚀干膜主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:干膜干膜(Dry Film)Dry Film)溶劑顯像型溶劑顯像型 半水溶液顯像型半水溶液顯像型 鹼水溶液顯像型鹼水溶液顯像型 水溶性乾膜主要是由於其組成水溶性乾膜主要是由於其組成中含有機酸根,會與強中含有機酸根,會與強碱碱反應反應使成為有機酸的鹽類,可被水使成為有機酸的鹽類,可被水溶掉溶
5、掉干膜干膜压膜前压膜前压膜后压膜后6 6PA1(内层课内层课)介绍介绍曝光曝光曝光曝光(Exposure):Exposure):目的目的目的目的:经光源作用将原始底片上的图像转经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板上移到感光底板上主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:底片底片内层所用底片为负片内层所用底片为负片,即白色透光部即白色透光部分发生光聚合反应分发生光聚合反应,黑色部分则因不黑色部分则因不透光透光,不发生反应不发生反应,外层所用底片刚好外层所用底片刚好与内层相反与内层相反,底片为正片底片为正片UV光光曝光前曝光前曝光后曝光后7 78 89 9PA1(内层课内层课)介绍介绍显影显
6、影显影显影(DevelopingDeveloping):):目的目的目的目的:用碱液作用将未发生化学反用碱液作用将未发生化学反应之干膜部分冲掉应之干膜部分冲掉主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:NaNa2 2COCO3 3使用将未发生聚合反应之干使用将未发生聚合反应之干膜冲掉膜冲掉,而发生聚合反应之干而发生聚合反应之干膜则保留在板面上作为蚀刻膜则保留在板面上作为蚀刻时之抗蚀保护层时之抗蚀保护层显影后显影后显影前显影前1010PA1(内层课内层课)介绍介绍蚀刻蚀刻蚀刻蚀刻(EtchingEtching):):目的目的目的目的:利用药液将显影后露出的利用药液将显影后露出的铜蚀掉铜蚀掉,形成内
7、层线路图形形成内层线路图形主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:蚀刻药液蚀刻药液(CuClCuCl2 2)蚀刻后蚀刻后蚀刻前蚀刻前1111PA1(内层课内层课)介绍介绍去膜去膜去膜去膜(StripStrip):):目的目的目的目的:利用强碱将保护铜面之抗利用强碱将保护铜面之抗蚀层剥掉蚀层剥掉,露出线路图形露出线路图形主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:NaOHNaOH去膜后去膜后去膜前去膜前12121313PA9(内层检验课内层检验课)介绍介绍流程介绍流程介绍流程介绍流程介绍:目的目的目的目的:对内层生产板进行检查对内层生产板进行检查,挑出异常板并进行处理挑出异常板并进行处理收集品质
8、资讯收集品质资讯,及时反馈处理及时反馈处理,避免重大异常发生避免重大异常发生CCD冲孔AOI检验VRS确认1414PA9(内层检验课内层检验课)介绍介绍CCDCCD冲孔冲孔冲孔冲孔:目的目的目的目的:利用利用CCDCCD对位冲出检验作业之定位孔及铆钉孔对位冲出检验作业之定位孔及铆钉孔主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:冲头冲头注意事项注意事项注意事项注意事项:CCDCCD冲孔精度直接影响铆合对准度冲孔精度直接影响铆合对准度,故机台精度定期确认非故机台精度定期确认非常重要常重要1515PA9(内层检验课内层检验课)介绍介绍AOIAOI检验检验检验检验:全称为全称为Automatic Opt
9、ical InspectionAutomatic Optical Inspection,自动光学检测,自动光学检测目的:目的:目的:目的:通过光学反射原理将图像回馈至设备处理,与设定的逻辑通过光学反射原理将图像回馈至设备处理,与设定的逻辑判断原则或资料图形相比较,找出缺点位置判断原则或资料图形相比较,找出缺点位置注意事項:注意事項:注意事項:注意事項:由于由于AOIAOI所用的测试方式为逻辑比较,一定会存在一些误所用的测试方式为逻辑比较,一定会存在一些误判的缺点,故需通过人工加以确认判的缺点,故需通过人工加以确认16161717PA9(内层检验课内层检验课)介绍介绍VRSVRS确认确认确认确认
10、:全称为全称为Verify Repair StationVerify Repair Station,确认系统,确认系统目的:目的:目的:目的:通过与通过与AOIAOI连线,将每片板子的测试资料传给连线,将每片板子的测试资料传给V.R.SV.R.S,并由,并由人工对人工对AOIAOI的测试缺点进行确认的测试缺点进行确认注意事項:注意事項:注意事項:注意事項:VRSVRS的确认人员不光要对测试缺点进行确认,另外就是对的确认人员不光要对测试缺点进行确认,另外就是对一些可以直接修补的确认缺点进行修补一些可以直接修补的确认缺点进行修补181819192020PA2(压板课压板课)介绍介绍流程介绍流程介绍
11、流程介绍流程介绍:目的:目的:目的:目的:将铜箔(将铜箔(CopperCopper)、胶片(胶片(PrepregPrepreg)与氧化处理后的内层与氧化处理后的内层线路板压合成多层板线路板压合成多层板棕化铆合叠板压合后处理2121PA2(压板课压板课)介绍介绍棕化棕化棕化棕化:目的目的目的目的:(1)(1)粗化铜面粗化铜面,增加与树脂接触表面积增加与树脂接触表面积(2)(2)增加铜面对流动树脂之湿润性增加铜面对流动树脂之湿润性(3)(3)使铜面钝化使铜面钝化,避免发生不良反应避免发生不良反应 主要愿物料主要愿物料主要愿物料主要愿物料:棕花药液棕花药液注意事项注意事项注意事项注意事项:棕化膜很薄
12、棕化膜很薄,极易发生擦花问题极易发生擦花问题,操作时需注意操作手势操作时需注意操作手势2222PA2(压板课压板课)介绍介绍铆合铆合铆合铆合:(:(铆合铆合铆合铆合;预叠预叠预叠预叠)目的目的目的目的:(:(四层板不需铆钉四层板不需铆钉)利用铆钉将多张内层板钉在一起利用铆钉将多张内层板钉在一起,以避免后续加工时产生层间滑移以避免后续加工时产生层间滑移主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:铆钉铆钉;P/PP/PP/P/P(PrepregP(Prepreg):):由树脂和玻璃纤维由树脂和玻璃纤维布组成布组成,据玻璃布种类可分为据玻璃布种类可分为1060;1080;2116;76281060;1
13、080;2116;7628等几种等几种树脂据交联状况可分为树脂据交联状况可分为:A A阶阶(完全未固化完全未固化););B B阶阶(半固化半固化););C C阶阶(完全固化完全固化)三类三类,生产中使用的全为生产中使用的全为B B阶状态的阶状态的P/PP/P2L3L 4L 5L2L3L 4L 5L铆钉23232424PA2(压板课压板课)介绍介绍叠板叠板叠板叠板:目的目的目的目的:将预叠合好之板叠成待压将预叠合好之板叠成待压多层板形式多层板形式主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:铜皮铜皮电镀铜皮电镀铜皮;按厚度可分为按厚度可分为 1/3OZ(1/3OZ(代号代号T)T)1/2OZ(1/2
14、OZ(代号代号H)H)1OZ(1OZ(代号代号1)1)RCC(RCC(覆树脂铜皮覆树脂铜皮)等等Layer 1Layer 2Layer 3Layer 4Layer 5Layer 62525PA2(压板课压板课)介绍介绍压合压合压合压合:目的目的目的目的:通过热压方式将叠合板压成多层板通过热压方式将叠合板压成多层板主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:牛皮纸牛皮纸;钢板钢板钢板压力牛皮纸承载盘热板可叠很多层可叠很多层2626PA2(压板课压板课)介绍介绍后处理后处理后处理后处理:目的目的目的目的:经割剖经割剖;打靶打靶;捞边捞边;磨边等工序对压合之多层板进行初步外磨边等工序对压合之多层板进行
15、初步外形处理以便后工序生产品质控制要求及提供后工序加工之形处理以便后工序生产品质控制要求及提供后工序加工之工具孔工具孔主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:钻头钻头;铣刀铣刀272728282929PA3(钻孔课钻孔课)介绍介绍流程介绍流程介绍流程介绍流程介绍:目的目的目的目的:在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔上PIN钻孔下PIN棕化3030PA3(钻孔课钻孔课)介绍介绍上上上上PINPIN:目的目的目的目的:对于非单片钻之板对于非单片钻之板,预先按预先按S Stacktack之要求钉在一起之要求钉在一起,便于钻孔便于钻孔,依板厚和工艺要求每个依
16、板厚和工艺要求每个S Stacktack可两片钻可两片钻,三片钻或多片钻三片钻或多片钻主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:PINPIN针针注意事项注意事项注意事项注意事项:上上PINPIN时需开防呆检查时需开防呆检查,避免因前制程混料造成钻孔报废避免因前制程混料造成钻孔报废31313232PA3(钻孔课钻孔课)介绍介绍钻孔钻孔钻孔钻孔:目的目的目的目的:在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:钻头钻头;盖板盖板;垫板垫板钻头钻头:碳化钨碳化钨,钴及有机黏着剂组合而成钴及有机黏着剂组合而成盖板盖板:主要为铝片主要
17、为铝片,在制程中起钻头定位在制程中起钻头定位;散热散热;减少毛头减少毛头;防压防压力脚压伤作用力脚压伤作用垫板垫板:主要为复合板主要为复合板,在制程中起保护钻机台面在制程中起保护钻机台面;防出口性毛防出口性毛头头;降低钻针温度及清洁钻针沟槽胶渣作用降低钻针温度及清洁钻针沟槽胶渣作用3333PA3(钻孔课钻孔课)介绍介绍钻孔铝盖板垫板钻头3434PA3(钻孔课钻孔课)介绍介绍下下下下PINPIN:目的目的目的目的:将钻好孔之板上的将钻好孔之板上的PINPIN针下掉针下掉,将板子分出将板子分出3636PC B製 造 流 程 簡 介-PB0PB0介紹介紹(鑽孔後至綠漆前鑽孔後至綠漆前)PB1(電鍍一
18、課):水平PTH連線;一次銅線 PB2(外層課):前處理壓膜連線;自動手動曝光;顯影 PB3(電鍍二課):二次銅電鍍;外層蝕刻 PB9(外層檢驗課):A.Q.I/VRS/阻抗測試/銅厚量測/電性測試3737PB1(電 鍍 一 課)介 紹 流程介紹流程介紹鑽孔去毛頭(Deburr)去膠渣(Desmear)化學銅(PTH)一次銅Panel Plating 目的目的:使孔璧上的非導體部分之樹脂及玻璃纤維進行金屬化 方便進行後面之電鍍銅制程,完成足夠導電及焊接之金屬孔璧3838PB1(電 鍍 一 課)介 紹 去毛頭去毛頭(Deburr):毛頭形成原因:鑽孔後孔邊緣的未切斷的銅絲及未切斷 的玻璃布 De
19、burr之目的:去除孔邊緣的巴厘,防止鍍孔不良 重要的原物料:刷輪3939PB1(電 鍍 一 課)介 紹 去膠渣去膠渣(Desmear):Desmear形成原因:鑽孔時造成的高溫超過玻璃化轉移溫度 (Tg值),而形成融熔狀,產生膠渣 Desmear之目的:裸露出各層需互連的銅環,另膨松劑可 改善孔壁結構,增強電鍍銅附著力 重要的原物料:KMnO4(除膠劑)4040PB1(電 鍍 一 課)介 紹 化學銅化學銅(PTH)化學銅之目的:通過化 學沉積的方式時表面 沉積上厚度為20-40 micro inch的化學銅 重要原物料:活化鈀,鍍銅液PTH4141PB1(電 鍍 一 課)介 紹 一次銅一次銅
20、 一次銅之目的:鍍上200-500 micro inch的厚度的 銅以保護僅有20-40 micro inch厚度的化學銅 不被後制程破壞造成孔破 重要原物料:銅球一次銅4242P B2(外 層 課)介紹 流程介紹流程介紹:前處理壓膜曝光顯影 目的目的:經過鑽孔及通孔電鍍後,內外層已經連通,本制程製作外 層線路,以達電性的完整4343P B 2(外 層 課)介紹 前前處理處理:目的:去除銅面上的污染物,增加銅面粗糙度,以利於後續 的壓膜制程 重要原物料:刷輪4444P B 2(外 層 課)介紹 壓膜壓膜(Lamination):製程目的:通過熱壓法使幹膜緊密附著在銅面上 重要原物料:乾膜(Dr
21、y Film)溶劑顯像型 半水溶液顯像型 鹼水溶液顯像型 水溶性乾膜主要是由於其組成中含有機酸根,會與 強鹼反應使成為有機酸的鹽類,可被水溶掉4545P B 2(外 層 課)介紹 曝光曝光(Exposure):製程目的:通過Image Transfer技術在幹膜上曝出 客戶所需的線路 重要的原物料:底片 外層所用底片与内層相反 ,為負片,底片黑色為綫 路白色為底板(白底黑綫)白色的部分紫外光透射過 去,乾膜發生聚合反應,不能被顯影液洗掉乾膜底片UV光4646P B 2(外 層 課)介紹 顯影顯影(Developing):製程目的:把尚未發生聚合反 應的區域用顯像液將之沖洗 掉,已感光部分則因已
22、發生聚 合反應而洗不掉而留在銅面 上成為蝕刻或電鍍之阻劑膜 重要原物料:弱堿(Na2CO3)一次銅乾膜4747PB3(電 鍍 二 課)介 紹 流程介紹流程介紹:二次鍍銅剥膜線路蝕刻剥錫 目的目的:將銅厚度鍍至客戶所需求的厚度 完成客戶所需求的線路外形鍍錫4848PB3(電 鍍 二 課)介 紹 二次二次鍍鍍銅銅:目的:將顯影后的裸露銅 面的厚度加後,以達到客 戶所要求的銅厚 重要原物料:銅球乾膜二次銅49495050PB3(電 鍍 二 課)介 紹 鍍錫鍍錫:目的:在鍍完二次銅的表 面鍍上一層錫保護,做 為蝕刻時的保護劑 重要原物料:錫球乾膜二次銅保護錫層515152525353PB3(電 鍍 二
23、 課)介 紹剥膜剥膜:目的:將抗電鍍用途之幹膜以 藥水剥除 重要原物料:剝膜液(KOH)線路蝕刻線路蝕刻:目的:將非導體部分的銅蝕掉 重要原物料:蝕刻液(氨水)二次銅保護錫層二次銅保護錫層底板5454PB3(電 鍍 二 課)介 紹剥錫剥錫:目的:將導體部分的起保護 作用之錫剥除 重要原物料:HNO3+H2O2 兩液型剥錫液二次銅底板55555656PB9(外層檢驗課)介 紹流程介紹流程介紹:流程説明:虛綫框代表該制程將根據客戶或厰内需要決定是否 走該流程,阻抗量測及綫寬量測本課程暫不介紹 制程目的:制程目的:通過檢驗的方式,將一些不良品挑出,降低製造成本 收集品質資訊,及時反饋,避免大量的異常
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