第四章模具成形表面的电火花加工.pdf
《第四章模具成形表面的电火花加工.pdf》由会员分享,可在线阅读,更多相关《第四章模具成形表面的电火花加工.pdf(12页珍藏版)》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。
1、第四章第四章 光整加工技术光整加工技术光整加工是以降低零件表面粗糙度,提高表面形状精度和增加表面光泽为主要目的的研磨和抛光加工,统称为光整加工。光整加工主要用于模具的成形表面,它对于提高模具寿命和形状精度,以及保证顺利成形都起着重要的作用。4.14.1 研磨和抛光研磨和抛光一、研磨的机理研磨:是使用研具、游离磨料对被加工表面进行微量加工的精密加工方法。机理:在被加工表面和研具之间置以游离磨料和润滑剂,使被加工表面和研具之间产生相对运动并施以一定压力,磨料产生切削、挤压等作用,从而去除表面凸起处,使被加工表面精度提高、表面粗糙度降低。研磨的主要作用:1微切削作用在研具和被加工表面作研磨运动时,在
2、一定压力下,对被加工表面进行微量切削。在不同加工条件下,微量切削的形式不同。当研具硬度较低、研磨压力较大时,磨粒可镶嵌到研具上,产生刮削作用。这种方式有较高的研磨效率。当研具硬度较高时,磨粒不能嵌人研具,磨粒在研具和被加工表面之间滚动,以其锐利的尖角进行微切削。2.挤压塑性变形钝化了的磨粒在研磨压力作用下,挤压被加工表面的粗糙突峰,在塑性变形和流动中使突峰趋向平缓和光滑,使被加工表面产生微挤压塑性变形。表面产生化学作用,形成一层极薄的氧化膜,这层氧化膜很容易被磨掉,而又不环加快了研磨过程,使被加工表面的表面粗糙度降低。二、研磨特点1.尺寸精度高研磨采用极细的磨粒,在低速、低压作用下,逐次磨掉表
3、面的凸峰金属,并且加工热量少,被加工表面的变形和变质层很轻微,可稳定获得高精度面。2.形状精度高由于微量切削,研磨运动轨迹复杂,并且不受运动精度的影响,因此可获得较高的形状精度。3.表面粗糙度低在研磨过程中,磨粒的运动轨迹不重复,有利于均匀磨掉被加工表面的凸峰,从而降低表面粗糙度。4.表面耐磨性提高由于研磨表面质全提高,使摩擦系数减小,并且使有效接触表面积增大,使耐磨性提高。3.化学作用当采用氧化铬、硬脂酸等研磨剂时,研磨削和被加工损伤材料基体。在研磨过程中,氧化膜不断迅速形成,又很快被磨掉,以此循5.耐疲劳强度提高由于研磨表面存在着残余压应力,这种应力有利于提高零件表面的疲劳强度。6.不能提
4、高各表面之间的位置精度7.多为手工作业,劳动强度大。三、抛光机理抛光是一种比研磨更微磨削的精加工。研磨时研具较硬,其微切削作用和挤压塑性形作用较强,在尺寸精度和表面粗糙度两方面都有明显的加工效果。在抛光过程中也存在着微切削作用和化学作用。由于抛光所用研具较软,还存在塑性流动作用。这是由于抛光过程中的摩擦现象,使抛光接触点温度上升,引起热塑性流动。抛光的作用是进一步降低表面粗糙度,并获得光滑表面,但不提高表面的形状精度和位置精度。抛光后表面粗糙度可达 Ra0.4um 以下。四、研磨抛光的分类(一)按研磨抛光过程中人参与的程度分手工作业研磨抛光,机械设备研磨抛光(二)按磨料在研磨抛光过程中的运动轨
5、迹分游离磨料研磨抛光,固定磨料研磨抛光(三)按研磨抛光的机理分机械式研磨抛光,非机械式研磨抛光(四)按研磨抛光剂使用的条件分湿研,干研,半干研五、五、研磨抛光的加工要素研磨抛光的加工要素4.24.2 手工研磨抛光手工研磨抛光一、一、研磨抛光剂研磨抛光剂磨料,研磨抛光液(一)磨料磨料的选择:磨料的种类,磨料的粒度磨料的种类选择:(二)(二)研磨抛光液研磨抛光液研磨抛光液在研磨抛光过程中起着调合磨料、使磨料均匀分布和冷却润滑作用,通过改变磨料和研磨抛光液之间的比例来控制磨料在研磨抛光剂中的含量。(三)(三)研磨抛光膏研磨抛光膏硬磨料研磨抛光膏:氧化铝,碳化硅,碳化硼,金刚石软磨料研磨抛光膏:氧化铝
6、,氧化铁,氧化铬二、二、研磨抛光工具研磨抛光工具研具材料,普通油石,研磨平板,外圆研磨环,内圆研磨芯棒,研磨抛光辅助工具。1 1、研具材料、研具材料研具:研磨抛光时直接和被加工表面接触的研磨抛光工具。一般研具材料:低碳钢,灰铸铁,黄铜和紫铜,硬木、竹片、塑料、皮革精密固定磨料研具材料:低发泡氨基甲酸,乙酯油石2 2、普通油石、普通油石普通油石一般用于粗研磨,它由氧化铝、碳化硅磨料和粘结剂压制烧结而成。当被加工零件材料较硬时较软的油石当被加工零件材料较软时较硬的油石当被加工零件表面粗糙度要求较高时油石要细一些,组织要致密些3 3、研磨平板、研磨平板应用范围:主要用于单一平面及中小镶件端面的研磨抛
7、光要求:研磨平板用灰铸铁材料,并在平面上开设相交成60 度或 90 度,宽 13mm,距离为 1520mm 的槽,研磨抛光时在研磨平板上放些微粒和抛光液进行。4 4、外圆研磨环、外圆研磨环是在车床或磨床上对外圆表面进行研磨的一种研具。固定式研磨内径不可调可调式研磨内径可在一定范围内调节,以适应环磨外圆 不同或外圆变化的需要。5 5、内圆研磨芯棒、内圆研磨芯棒固定式外径不可调节,芯棒外圆表面作有螺旋槽,以容纳研磨抛光剂。可调式如下图,借助锥形芯轴的锥面进行外圆直径的微量调节。6 6、研磨抛光辅助工具、研磨抛光辅助工具电动往复式电动直杆旋转式电动弯头旋转式三、研磨抛光工艺过程三、研磨抛光工艺过程(
8、一)研抛余量研抛余量大小取决于零件尺寸、原始表面粗糙度、精度和最终的质量要求,原则上研抛余量要能去除表面加工痕迹和变质层即可。研抛余量过大,使加工时间增多,研抛工具和材料消耗增多、加工成本增大;研抛余量过小,加工后达不到要求的表面粗糙度和精度。(二)研抛步骤及注意事项步骤:粗研磨细研磨精研磨抛光注意事项:磨料的粒度从粗到细,每次更换磨料都要清洗好工具和零件;研磨抛光过程磨料的运动轨迹要保证被加工表面各点均有相同的或近似的切削条件和磨削条件;还应该根据被加工表面形状特点选择合适的研抛器具和材料,根据整个被加工面的具体情况确定各部位的研磨顺序。4.34.3 电化学抛光电化学抛光一、基本原理和特点(
9、一)基本原理(一)基本原理对于电化学抛光机理的通俗解释:对于电化学抛光机理的通俗解释:随着阳极表面发生电化学溶解,有氧化物生成它以薄膜的形式覆盖在阳极表面上这种氧化物薄膜的粘度很高,电阻较大。由于工件表面凹凸不平,薄膜厚度在粗糙表面上的各部位不等,在凹注处薄膜较厚,在凸起处薄膜较薄。由于金属表面各部位薄膜厚度不等,则电阻值不等,电流分布不均匀,凸起处电流密度比凹洼处要大,所以凸起处首先被溶解,经过一段时间后,高低不平的表面逐渐被蚀平,从而得到光洁平整的表面。对于电化学抛光机理的电学理论解释:对于电化学抛光机理的电学理论解释:电场中的带电体,其电力线在粗糙表面尖端处的密度大,溶解速度最快,而凹洼
10、处薄膜厚度大电力线密度小,溶解速度慢。这种凸凹处溶解速度差,使抛光后平整。(二)(二)特点特点1电火花加工后的表面,经过电化学抛光后可使表面粗糙度 Ra3.21.6m 降低到 Ra0.40.2m,电化学抛光时各部位金属去除速度相近,抛光量很小,电化学抛光后尺寸精度和形状精度可控制在 0.01mm 之内。2.电化学抛光和传统手工研磨抛光相对效率提高几倍以上,如抛光余量为0.10.15mm 时,电化学抛光时间约为 10-15min,而且抛光速度不受材料硬度的影响。3.电化学抛光工艺方法简单,操作容易,而且设备简单,投资小。4.电化学抛光不能消除原表面的“粗波纹”,因此电化学抛光前,加工表面应无波纹
11、现象。二、二、影响电化学抛光质量的因素影响电化学抛光质量的因素1.电解液电解液成分和比例对抛光质量有决定性影响,目前电解液的种类很多,要根据不同金属材料选择不同的电解液配方和比例。2.电流密度通常电化学抛光都在较高电流密度下进行,以获得平滑光亮的表面。但当电流密度过高时,阳极析出的氧气过多,使电解液近似沸腾,不利于抛光的正常进行。3.电解液温度一般电解液温度低,金属溶解速度低,生产效 率低。否则反之。不同金属材料都有一个最佳温度范围,目前是通过试验确定。电化学抛光属于小距离化学反应,电解产物如不能及时排除,也影响抛光质量。抛光时应采用搅拌或移动的方法,促使电解液流动,保持抛光区电解液的最佳状态
12、,缩小电解液的温度变化,始终保证最佳抛光条件是保证抛光质量的重要因素之一。4.抛光时间抛光开始时,表面平整速度最大,随着时间增加,阳极金属去除总量增加,不同金属材料都有一个最佳抛光时间。当超过最佳抛光时间时,抛光质量逐渐变差。5.金属材料的金相组织状态当金属的金相组织愈均匀、致密,抛光效果愈好;如金属中含有较多非金属成分,则抛光效果就差;如金属以合金形式组成,应选择使合金均匀溶解的电解液;铸件由于组织疏松不易电化学抛光;铸铁件由于有游离石墨,也不易电化学抛光。6.抛光表面原始表面粗糙度采用电化学抛光时,工件原始表面粗糙度应达到 Ra2.5-0.8km 时,电化学抛光才能取得满意效果。三、抛光方
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 第四 模具 成形 表面 电火花 加工
限制150内