集成电路工艺讲义 .doc
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1、计算机辅助版图设计与验证L-Edit的简单使用说明一、版图设计的基本概念版图是集成电路设计的最后阶段的产物。版图设计就是按照线路的要求和一定的工艺参数,设计出元件的图形并排列互连,以设计出一套供IC制造工艺中使用的光刻掩模版的图形,称为版图或工艺复合图。版图设计是制造IC的基本条件,版图设计是否合理对成品率、电路性能、可靠性影响很大。版图设计错了,就一个电路也做不出来。若设计不合理,则电路性能会和成品率将受到很大影响。版图设计者必须熟悉工艺条件,器件物理,电路原理以及测试方法。首先要熟悉工艺条件和器件物理,才能确定晶体管的具体尺寸、铝连线的宽度、间距、各次掩模的套刻精度等。其次要对电路的工作原
2、理有一定的了解。这样才能在版图设计中注意避免某些分布参量和寄生效应对电路产生的影响。同时还要熟悉测试方法,通过对样品性能的测试和显微观察,刻分析出工艺中的问题。也可通过工艺中的问题发现电路设计和版图设计不合理之处。帮助改版工作的进行。特别是测试中发现总是某一参数的不合格,这往往与版图设计有关。二、版图的工艺版图工艺指版图设计中的基本技术参数设定,主要包括长度单位的设定和图形层的设定。版图的长度单位版图中图形数据的长度单位有使用者根据需要自行设定。一般版图设计都采用两种单位制:用户单位和数据库单位图形层定义在进行版图设计之前,应定义出所需用到的各种图形层。要把掩模相关层同掩模无关层区别开来。凡与
3、掩模无关的图形,一般不应与掩模有关图形画在同一图形层上,注释文字(ASCII字符串)例外,任何层的图形都可用同层注释。三、L-Edit概述L-Edit是一个图形编辑器,它允许生成和修改集成电路掩模版上的几何图形。鼠标接口允许用户执行一般图形操作。既可使用鼠标访问下拉菜单也可以使用键盘来调用L-Edit命令。1文件和单元使用文件、单元、连接器、掩模基元来描述布局设计,一个文件可以有任意多个单元组成,在典型设计中,这些单元可以有层次关系,也可以相互独立,单元可以包括任意数量的掩模基元和连接件,以及两者的组合,掩模单元由矩形、图、直线、多边形和技术层端口组成。2层次完全层次性的单元可以包含别的单元的
4、连接件。一个连接件是一个单元的“拷贝”;如果编辑连接单元,这种改变将反映到那个单元的所有连接件上。L-Edit对层次不作限制。单元可以包含单元的连接件,被包含的单元又可以包含别的连接件。这样就形成了单元层次。在层次结构中可以有任意级。L-Edit不能用于分离的层次结构,连接件和基元几何图形都可以存在于层次结构的任意级中的同一单元内。3单元设计L-Edit是一个低层次的,全定掩模编辑器,该编辑器不能执行层的自动转换。4层规划L-Edit是一个高层规划工具。用户可以选择要显示的连接件,它显示一个边框,中间显示单元名,也可以显示掩模几何图形。使用内部隐藏时,可以操作用户设计的大型芯片级块,以获得所需
5、要的层规划。用户可使用用于操作基元的几何图形的命令。5文件格式L-Edit能输出两种掩模布局交换格式(CIF,GDS)以及Tanner Research公司的二进制数据库的格式TDB(Tanner Data Base),L-Edit能够读取CIF(Caltech Intermediate Form)和TDB文件。四、L-Edit具体使用讲解下面的所有操作都是建立在WINDOWS下的Version 7.12基础之上1L-Edit屏幕(如下图所示)分三个主要部分:方式杠,菜单杠,工作区1 1方式杠是屏幕左方的垂直空间,它显示了当前L-Edit操作的信息。显示的信息包括文件和单元名,层色和色彩选择,
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