《透射电镜成像分析》PPT课件.ppt
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1、2.4.透射电镜成像分析透射电镜成像分析概述概述2.4.1 2.4.1 薄膜样品的制备薄膜样品的制备2.4.2 2.4.2 质厚衬度成像原理质厚衬度成像原理2.4.3 2.4.3 衍衬成像原理衍衬成像原理概述概述光学显微镜及扫描电镜均只能观察物质表面的微光学显微镜及扫描电镜均只能观察物质表面的微观形貌,无法获得物质内部的信息。观形貌,无法获得物质内部的信息。透射电镜入射电子透射试样后,将与试样内部原透射电镜入射电子透射试样后,将与试样内部原子发生相互作用,从而改变其能量及运动方向。子发生相互作用,从而改变其能量及运动方向。显然,不同结构有不同的相互作用。这样,就可显然,不同结构有不同的相互作用
2、。这样,就可以根据透射电子图像所获得的信息来了解试样内以根据透射电子图像所获得的信息来了解试样内部的结构。部的结构。由于试样结构和相互作用的复杂性,因此所获得由于试样结构和相互作用的复杂性,因此所获得的图像也很复杂。它不像表面形貌那样直观、易的图像也很复杂。它不像表面形貌那样直观、易懂。懂。概述概述如何对一张电子图像获得的信息作出正确的解释如何对一张电子图像获得的信息作出正确的解释和判断,不但很重要,也很困难。必须建立一套和判断,不但很重要,也很困难。必须建立一套相应的理论才能对透射电子像作出正确的解释。相应的理论才能对透射电子像作出正确的解释。如前所述电子束透过试样所得到的透射电子束的如前所
3、述电子束透过试样所得到的透射电子束的强度及方向均发生了变化,强度及方向均发生了变化,由于试样各部位的由于试样各部位的组织结构不同,因而透射到荧光屏上的各组织结构不同,因而透射到荧光屏上的各点强度不均匀,这种强度的不均匀分布现点强度不均匀,这种强度的不均匀分布现像就称为像就称为衬度衬度,所获得的电子像称为,所获得的电子像称为透射电子透射电子衬度像衬度像概述概述衬度(contrast)定义:两个相临部分的电子束强度差当电子逸出试样下表面时,由于试样对电子束的当电子逸出试样下表面时,由于试样对电子束的作用,使得透射到荧光屏上的强度不均匀,这种作用,使得透射到荧光屏上的强度不均匀,这种强度不均匀的电子
4、像称为强度不均匀的电子像称为衬度像衬度像四种衬度质量厚度衬度质量厚度衬度:由于非晶样品不同微区间存在的原子序数或由于非晶样品不同微区间存在的原子序数或厚度的差异而形成的衬度厚度的差异而形成的衬度.衍射衬度衍射衬度:衍射衬度是由于晶体薄膜的不同部位满足布拉格衍射衍射衬度是由于晶体薄膜的不同部位满足布拉格衍射条件的程度有差异而引起的衬度条件的程度有差异而引起的衬度 相位衬度相位衬度:电子束照射薄试样,试样中原子核和核外电子产生的电子束照射薄试样,试样中原子核和核外电子产生的库伦场会使电子波的相位有起伏,如果把这个相位变化转变为像库伦场会使电子波的相位有起伏,如果把这个相位变化转变为像衬度,则称为相
5、位衬度衬度,则称为相位衬度。原子序数衬度原子序数衬度:由于试样表面物质原子序数(或化学成分)差由于试样表面物质原子序数(或化学成分)差别而形成的衬度。利用对试样表面原子序数(或化学成分)变化别而形成的衬度。利用对试样表面原子序数(或化学成分)变化敏感的物理信号作为显像管的调制信号,可以得到原子序数衬度敏感的物理信号作为显像管的调制信号,可以得到原子序数衬度图像。图像。概述概述金属材料中存在大量的缺陷,如:空位、金属材料中存在大量的缺陷,如:空位、杂质原子、位错、层错等,它们与金属材杂质原子、位错、层错等,它们与金属材料中的扩散、相变、再结晶、塑性变形等料中的扩散、相变、再结晶、塑性变形等密切相
6、关密切相关金属薄膜可以薄到金属薄膜可以薄到2000以下,足以让电以下,足以让电子束穿过成像,因此,可以将内部结构显子束穿过成像,因此,可以将内部结构显示出来示出来铝合金铝合金铜铝硅金属化薄层铜铝硅金属化薄层应用举例金属组织观察.8 m1 m应用举例 Si纳米晶的原位观察纳米金刚石的高分辨图像 3.4.1 3.4.1 薄膜样品的制备薄膜样品的制备透射电镜在材料研究中所用的试样分三类:透射电镜在材料研究中所用的试样分三类:超显微颗粒样品超显微颗粒样品 试样的表面复型样品试样的表面复型样品 薄膜样品薄膜样品透射电镜常用的透射电镜常用的75200KV加速电压,样品加速电压,样品厚度控制在厚度控制在10
7、0200 nm3.4.1 3.4.1 薄膜样品的制备薄膜样品的制备由金属材料本身制成的金属薄膜样品具有由金属材料本身制成的金属薄膜样品具有以下优点:以下优点:(1)观察和研究金属与合金的内部结构和)观察和研究金属与合金的内部结构和缺陷,将同一微区进行衍衬成像及电子衍缺陷,将同一微区进行衍衬成像及电子衍射研究,把相变与晶体缺陷联系起来射研究,把相变与晶体缺陷联系起来(2)进行动态观察,研究在变温情况下相)进行动态观察,研究在变温情况下相变的行核和长大过程变的行核和长大过程3.4.1 3.4.1 薄膜样品的制备薄膜样品的制备金属薄膜制备的基本要求:金属薄膜制备的基本要求:薄膜应对电子束薄膜应对电子
8、束“透明透明”制得的薄膜应与大块样品保持相同的组织结构制得的薄膜应与大块样品保持相同的组织结构薄膜样品应具备一定的强度和刚度薄膜样品应具备一定的强度和刚度样品样品表面没有氧化和腐蚀样品样品表面没有氧化和腐蚀金属薄膜样品的制备过程:金属薄膜样品的制备过程:线切割线切割-机械研磨机械研磨-化学抛光化学抛光-电解抛光电解抛光最终减薄最终减薄3.4.1 3.4.1 薄膜样品的制备薄膜样品的制备3.4.1 3.4.1 薄膜样品的制备薄膜样品的制备非金属薄膜样品的非金属薄膜样品的制备:复型:复型:将试样表面组织浮雕复制到一种将试样表面组织浮雕复制到一种很薄的膜上,然后把复制的薄膜(复型)很薄的膜上,然后把
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