电子显微镜SEM培训资料.ppt

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1、微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室微纳研究中心超净室系列讲座之微纳研究中心超净室系列讲座之2 2扫描电子显微镜扫描电子显微镜微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Ce

2、nter Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGIN

3、EERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室1.扫描电镜的优点2.电子束与固体样品作用时产生的信号3.扫描电镜的工作原理4.扫描电镜的构造5.扫描电镜衬度像 二次电子像 背散射电子像6.扫描电镜的主要性能7.样品制备8.应用举例微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGS

4、KLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室1.扫描电镜的优点高分辨率。现代先进的场发射扫描电镜的分辨率已经达到1nm，钨灯丝电镜也可达到3-6nm。贝克公式表示：/nsin，电子束波长 V(伏)有较高的放大倍数(人眼分辨率/仪器分辨率)，20-20W倍之间连续可调；有很大的景深，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构试样制备简单。配有X射线能谱仪装置，这样可以同时进行显微组织性貌的观察和微区成分分析。微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro

5、and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室Optical Microscope VS SEM微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING

6、 SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室2.电子束与固体样品作用时产生的信号2.1 2.1 弹性散射和非性散射和非弹性散射性散射2.2 2.2 电子子显微微镜常用的信号常用的信号2.3 2.3 各种信号的深度和区域大小各种信号的深度和区域大小微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURI

7、NG SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室2.1 2.1 弹性散射和非性散射和非弹性散射性散射当一束聚焦电子束沿一定方向入射到试样内时，由于受到固体物质中晶格位场和原子库仑场的作用，其入射方向会发生改变，这种现象称为散射。（1）弹性散射。如果在散射过程中入射电子只改变方向，但其总动能基本上无变化，则这种散射称为弹性散射。弹性散射的电子符合布拉格定律，携带有晶体结构、对称性、取向和样品厚度等信息，在电子显微镜中用于分析材料的结构。（2）非弹性散射。如果在散射过程中入射电子的方向和动能都发生改变，则这种散射称为非

8、弹性散射。在非弹性散射情况下，入射电子会损失一部分能量，并伴有各种信息的产生。非弹性散射电子：损失了部分能量，方向也有微小变化。用于电子能量损失谱，提供成分和化学信息。也能用于特殊成像或衍射模式。微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室S

9、EM中的三种主要信号背散射背散射电子子：是指入射电子与样品相互作用(弹性和非弹性散射)之后，再次逸出样品表面的高能电子，其能量接近于入射电子能量(E。)。背射电子的产额随样品的原子序数增大而增加，所以背散射电子信号的强度与样品的化学组成有关，即与组成样品的各元素平均原子序数有关二次二次电子：子：入射电子与样品相互作用后，使样品原子较外层电子（价带或导带电子）电离产生的电子，称二次电子。二次电子能量比较低，习惯上把能量小于50eV电子统称为二次电子。二次电子仅在样品表面5nm10nm的深度内才能逸出表面，这是二次电子分辨率高的重要原因之一。X X射射线：入射电子在样品原子激发内层电子后外层电子跃

10、迁至内层时发出的光子。微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室其他信号俄俄歇歇电子子：入射电子在样品原子激发内层电子后外层电子跃迁至内层时，多余能量转移给外层电子，使外层电子挣脱原子核的束缚，成为俄歇电子。透透射射电子子:电子穿透样品的部

11、分。这些电子携带着被样品吸收、衍射的信息，用于透射电镜的明场像和透射扫描电镜的扫描图像,以揭示样品内部微观结构的形貌特征。样品样品入射电子入射电子 AugerAuger电子电子 阴极发光阴极发光 背散射电子背散射电子二次电子二次电子X射线射线透射电子透射电子 微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS

12、 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室2.3 各种信号的深度和区域大小各种信号的深度和区域大小 可以产生信号的区域称为有效作用区，有效作用区的最深处为电子有效作用深度。但在有效作用区内的信号并不一定都能逸出材料表面、成为有效的可供采集的信号。这是因为各种信号的能量不同，样品对不同信号的吸收和散射也不同。随着信号的有效作用深度增加，作用区的范围增加，信号产生的空间范围也增加，这对于信号的空间分辨率是不利的。微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology

13、 Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室3.扫描描电镜的工作原理的工作原理 扫描电镜的工作原理可以简单地归纳为“光栅扫描，逐点成像”。扫描电镜图像的放大倍数定义为 M=L/l L显象管的荧光屏尺寸；l电子束在试样上扫描距离。微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Resear

14、ch Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室4.扫描电子显微镜的构造电子光学系统信号收集及显示系统真空系统和电源系统微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINE

15、ERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室电子光学系子光学系统由电子枪，电磁透镜，扫描线圈和样品室等部件组成。其作用是用来获得扫描电子束，作为信号的激发源。为了获得较高的信号强度和图像分辨率，扫描电子束应具有较高的亮度和尽可能小的束斑直径微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEE

16、RINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室光源中间象物镜试样聚光镜目镜毛玻璃照相底板电子镜聚光镜试样物镜中间象投影镜观察屏照相底板微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室电子枪微米纳米研究

17、中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室信号收集及显示系统检测样品在入射电子作用下产生的物理信号，然后经视频放大作为显像系统的调制信号。普遍使用的是电子检测器，它由闪烁体，光导管和光电倍增器所组成微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and

18、Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR

19、MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室真空系真空系统和和电源系源系统真空系统的作用是为保证电子光学系统正常工作，防止样品污染提供高的真空度，一般情况下要求保持10-4-10-5Torr的真空度。电源系统由稳压，稳流及相应的安全保护电路所组成，其作用是提供扫描电镜各部分所需的电源。微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STA

20、TE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室5.5.扫描描电镜衬度像度像二次电子像背散射电子像x射线元素分布图。微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLM

21、S 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室二次电子产额与二次电子束与试样表面法向夹角有关，1/cos。因为随着角增大，入射电子束作用体积更靠近表面层，作用体积内产生的大量自由电子离开表层的机会增多；其次随角的增加，总轨迹增长，引起价电子电离的机会增多。5.1 二次电子像微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINE

22、ERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室（a）陶瓷烧结体的表面图像 （b）多孔硅的剖面图二次电子像微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室5.2 背散射电子像背散射电子既可以用来显示形

23、貌衬度，也可以用来显示成分衬度。1.形貌形貌衬度度 用背反射信号进行形貌分析时，其分辨率元比二次电子低。因为背反射电子时来自一个较大的作用体积。此外，背反射电子能量较高，它们以直线轨迹逸出样品表面，对于背向检测器的样品表面，因检测器无法收集到背反射电子，而掩盖了许多有用的细节。2.成分成分衬度度 背散射电子发射系数可表示为样品中重元素区域在图像上是亮区，而轻元素在图像上是暗区。利用原子序数造成的衬度变化可以对各种合金进行定性分析。背反射电子信号强度要比二次电子低的多，所以粗糙表面的原子序数衬度往往被形貌衬度所掩盖。微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technolo

24、gy Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室两种图像的对比锡铅镀层的表面图像（a）二次电子图像（b）背散射电子图像微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STA

25、TE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室对有些既要进行形貌观察又要进行成分分析的样品，将左右两个检测器各自得到的电信号进行电路上的加减处理，便能得到单一信息。对于原子序数信息来说，进入左右两个检测器的信号，其大小和极性相同，而对于形貌信息，两个检测器得到的信号绝对值相同，其极性恰恰相反。将检测器得到的信号相加，能得到反映样品原子序数的信息；相减能得到形貌信息。背散射电子像的获得微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano T

26、echnology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室背散射电子探头采集的成分像（a）和形貌像（b）微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KE

27、Y LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室分辨率分辨率对微区成分分析而言，它是指能分析的最小区域；对成像而言，它是指能分辨两点之间的最小距离。入射电子束束斑直径入射电子束在样品中的扩展效应成像方式及所用的调制信号 二次电子像的分辨率约为5-10nm，背反射电子像的分辨率约为50-200nm。X射线的深度和广度都远较背反射电子的发射范围大，所以X射线图像的分辨率远低于二次电子像和背反射电子像。6.扫描电子显微镜的主要性能微米纳米研究中心微米纳米研究中心 M

28、icro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室 6.2 6.2 景深景深 景深是指一个透镜对高低不平的试样各部位能同时聚焦成像的一个能力范围。扫描电镜的景深为比一般光学显微镜景深大100-500倍，比透射电镜的景深大10 倍。d0临界分辨本领，电子束的入射角 微米纳米研究中心微米

29、纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室7.样品制备扫描电镜的最大优点是样品制备方法简单，对金属和陶瓷等块状样品，只需将它们切割成大小合适的尺寸，用导电胶将其粘接在电镜的样品座上即可直接进行观察。对于非导电样品如塑料、矿物等，在电子束作用下会产生电荷堆积，影

30、响入射电子束斑和样品发射的二次电子运动轨迹，使图像质量下降。因此这类试样在观察前要喷镀导电层进行处理，通常采用二次电子发射系数较高的金银或碳膜做导电层，膜厚控制在20nm左右。微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室微米纳米研究中心微米纳

31、米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室8.扫描描电镜应用用实例例断口形貌分析断口形貌分析纳米材料形貌分析米材料形貌分析在微在微电子工子工业方面的方面的应用用 微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Researc

32、h Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室1018号钢在不同温度下的断口形貌8.1 断口形貌分析断口形貌分析微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABOR

33、ATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室ZnO纳米线的二次电子图像 多孔氧化铝模板制备的金纳米线的形貌（a）低倍像（b）高倍像纳米材料形貌分析纳米材料形貌分析微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEER

34、INGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室（a）芯片导线的表面形貌图 （b）CCD相机的光电二极管剖面图8.3 在微电子工业方面的应用在微电子工业方面的应用微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点

35、实验室主要特点主要特点Windows NT界面独特的二次电子分辨率 3.0nm(25kV,高真空模式)VP可变压力模式分辨率 4.0nm(25kV,可变压力模式)放大倍数范围 5x300,000 x加速电压 0.3kV30Kv 可变压力范围 1270Pa 最大样品尺寸 150mm直径 图像移动范围 20m(WD=15mm)样品台(选项)电子枪：U型钨丝 l枪偏压 可加速电压关联 可变电压(双偏压功能)l检测器 SE检测器 BSE检测器，可变压力模式 SEM操作 鼠标、键盘旋钮控制盘(选件)扫描方式 TV,慢速(4步),照相(4步 旋钮和鼠标控制都可以用于SEM参数设置。S-3000N是可变压力

36、的SEM微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室显示器 大屏幕 XGA彩色显示器(1024 x 768像素)l自动调节功能 自动聚焦，自动像散校正 自动亮度和对比度调节 自动灯丝饱和度调节 数字图像储存 640 x 480像素图像格式 B

37、MP l图像数据条显示:加速电压，放大倍数，微米标尺,WD(工作距离),照片放大倍数,真空度水平,检测器,日期,文件号等 l真空系统:全自动，DP 570L/Sec，RP 160L/min x 2(S-3000N)RP 160L/min x 1(S-3000H)系统保护 断电、失真空和缺水保护 S-3000N是可变压力的SEM微米纳米研究中心微米纳米研究中心 Micro and Nano Technology Research Center Micro and Nano Technology Research Center STATE KEY LABORATORY FOR MANUFACTURING SYSTEMS ENGINEERINGSKLMS SKLMS 机械制造系统工程国家重点实验室机械制造系统工程国家重点实验室谢谢！